公开(公告)号：JP6275575B2

公开(公告)日：2018-02-07

申请号：JP2014141481

申请日：2014-07-09

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 香川 唯信 ,  弓山 敏男 ,  黒瀬 猛

IPC: H01J37/12 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/241 ,  H01J37/3171

公开(公告)号：JP5808706B2

公开(公告)日：2015-11-10

申请号：JP2012077101

申请日：2012-03-29

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 狩谷 宏行 ,  石川 雅基 ,  院田 佳昭 ,  黒瀬 猛 ,  八木田 貴典 ,  弓山 敏男

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/147 ,  H01J37/304 ,  H01L21/265 ,  H01L21/67213 ,  H01J2237/24521 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/24542

公开(公告)号：JP5767983B2

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：JP2012015034

申请日：2012-01-27

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 二宮 史郎 ,  岡本 泰治 ,  弓山 敏男 ,  越智 昭浩

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01L21/265 ,  H01J37/3172 ,  H01J2237/20228 ,  H01J37/3171

公开(公告)号：JP6689544B2

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：JP2016173935

申请日：2016-09-06

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 石橋 和久 ,  二宮 史郎 ,  越智 昭浩 ,  弓山 敏男

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

公开(公告)号：JP5941377B2

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：JP2012192420

申请日：2012-08-31

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 二宮 史郎 ,  香川 唯信 ,  弓山 敏男 ,  舩井 晃 ,  黒田 隆之

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01L22/14 ,  C23C14/48 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0206

公开(公告)号：JP2018041595A

公开(公告)日：2018-03-15

申请号：JP2016173935

申请日：2016-09-06

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 石橋 和久 ,  二宮 史郎 ,  越智 昭浩 ,  弓山 敏男

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/304 ,  H01J37/3002 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/24514 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/30488 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/265

Abstract: 【課題】目標とする不均一な2次元イオン注入量分布を実現する。 【解決手段】イオン注入装置10は、スキャン波形にしたがってビームスキャン方向に往復ビームスキャンを提供するビームスキャナ26と、メカニカルスキャン方向にウェハWを往復運動させるメカニカルスキャナと、目標2次元ドーズ量分布がウェハ表面に与えられるようビームスキャナ26及びメカニカルスキャナを制御する制御装置60と、を備える。制御装置60は、目標2次元ドーズ量分布に応じてスキャン波形の周波数を決定するスキャン周波数調整部と、スキャン周波数調整部が決定した周波数を持つスキャン波形を用いてビームスキャナを駆動するビームスキャナ駆動部と、を備える。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2016018707A

公开(公告)日：2016-02-01

申请号：JP2014141481

申请日：2014-07-09

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 香川 唯信 ,  弓山 敏男 ,  黒瀬 猛

IPC: H01J37/248 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/241 ,  H01J37/3171

Abstract: 【課題】電極装置に印加される電圧の精度を高める。 【解決手段】イオン注入装置は、高電圧電源90と、高電圧電源90の出力電圧HV O を制御する指令信号を生成する制御装置104と、出力電圧HV O が印加される電極装置80と、電極装置80に印加される実電圧HV R を計測するための測定装置120と、を備える。制御装置104は、高電圧電源90に目標電圧を出力させるための第1指令信号を生成する第1生成部110と、測定装置120により計測される実電圧HV R が目標電圧または目標電圧に近い電圧となるように第1指令信号を補完する第2指令信号を生成する第2生成部112と、高電圧電源90に、第1指令信号および第2指令信号を合成して得られる合成指令信号を出力する指令部114と、を含む。 【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：提高施加到电极装置的电压的精度。解决方案：离子注入装置包括：高压电源90; 控制装置104，其生成用于控制来自高压电源90的电压HV输出的指令信号; 施加输出电压HVis的电极装置80; 以及测量装置120，其测量施加到电极装置80的实际电压HV。控制装置104包括：第一产生部分110，其产生用于使高压电源90输出目标电压的第一命令信号; 第二产生部分112，其补偿第一命令信号，使得由测量装置120测量的实际电压HV变得等于或接近目标电压; 以及命令部分114，其将通过组合第一和第二命令信号获得的组合信号输出到高电压电源90.选择图：图4