公开(公告)号：JPWO2015016360A1

公开(公告)日：2017-03-02

申请号：JP2015529633

申请日：2014-08-01

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 好章 布施 ,  利純 吉野 ,  正幸 小島 ,  真也 大崎 ,  邦明 佐藤

IPC: G03F7/004 ,  C08F290/14 ,  C08G59/17 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  H05K3/28

CPC classification number: C08F290/14 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  H05K1/0346 ,  H05K3/287

Abstract: 【課題】レジスト形状に優れ、解像性に優れたパターンを形成でき、耐PCT性(耐湿熱性)、耐リフロー性、電気絶縁性(HAST耐性)、及び無電解めっき耐性に加えて、耐熱性、耐溶剤性、耐薬品性(耐アルカリ性、耐酸性)、及び密着性に優れたパターンを形成できる感光性樹脂組成物、これを用いた永久マスクレジスト、及び該永久マスクレジストを具備するプリント配線板を提供すること。【解決手段】(A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂、(B)光重合開始剤、(C)含窒素複素環化合物、及び(D)光重合性化合物を含有し、該(C)含窒素複素環化合物の平均粒子径が0.01〜10μmである感光性樹脂組成物、これを用いた永久マスクレジスト、及びプリント配線板である。【選択図】なし

Abstract translation: 优良的抗蚀剂形状，可形成良好的图案的分辨率，耐PCT性（湿热），耐回流性，电绝缘性（电阻HAST），和除了化学镀性，耐热性 性，耐溶剂性，耐化学性（耐碱性，耐酸性），以及光敏树脂组合物优异的图案可以在粘附形成，永久抗蚀剂掩模使用相同的，以及印刷布线，包括永久抗蚀剂掩模 提供的板。 （A）的酸改性乙烯含环氧基的树脂，（B）光聚合引发剂，和含有（C）含氮杂环化合物，和（D）光聚合性化合物，所述（C）含氮 意味着光敏树脂组合物粒径为0.01〜10μm的杂环化合物，永久抗蚀剂掩模，并使用相同的印刷布线板。 系统技术领域

公开(公告)号：JPWO2015016362A1

公开(公告)日：2017-03-02

申请号：JP2015529634

申请日：2014-08-01

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 好章 布施 ,  利純 吉野 ,  正幸 小島 ,  真也 大崎 ,  邦明 佐藤

IPC: G03F7/004 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  C08F290/14 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  H05K3/28

CPC classification number: C08F290/14 ,  C08G59/1461 ,  C08L63/10 ,  G03F7/0275 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  H05K1/0346 ,  H05K3/287

Abstract: (A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂と、(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤と、(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体、(C2)ピラゾリン系増感剤又はアントラセン系増感剤、(C3)イミダゾール系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、及びチタノセン系光重合開始剤から選ばれる少なくとも一種の光重合開始剤、(C4)ヒンダードフェノール系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤、並びに(C5)チオール基含有化合物から選ばれる少なくとも1種の(C)添加剤と、(D)光重合性化合物とを含む感光性樹脂組成物に関する。

Abstract translation: （A）的酸改性乙烯环氧树脂基的，（B）和酰基氧化膦系光聚合引发剂，（C 1）烷基氨基苯衍生物，（C2）吡唑啉敏化剂或敏化剂的蒽，（C3 ）基于咪唑的光聚合引发剂，基于吖啶光聚合引发剂，和二茂钛从光聚合引发剂中的至少一种光聚合引发剂，（C4）受阻酚类抗氧化剂，醌抗氧化剂， 胺系抗氧化剂，硫抗氧化剂和至少一种抗氧化剂从磷系抗氧化剂，以及（C5）的至少一种含巯基的化合物（C）添加剂选择选择 （D）涉及一种含有光聚合性化合物的光敏树脂组合物。