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公开(公告)号：KR102227564B1
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020140006654A
申请日：2014-01-20
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
IPC: G03F7/004 , G02F1/13 , G03F7/028 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: A63H33/046 , G03F7/0388 , G03F7/0045 , A63H33/084 , A63H33/086 , C08F212/34 , C08F220/10 , C08F220/16 , C08F220/18 , C08F220/26 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0751 , G03F7/30 , G09B1/38 , H01F7/02 , H01L21/0274 , H01L21/31138 , H01L51/102 , G02F1/13625
Abstract: 본 발명의 일례는 산과 반응하여 분해 가능한 산 반응성 폴리머, 광산발생제, 9 이하의 pKa 값을 갖는 유기염기 및 용매를 포함하는 포토레지스트 조성물을 제공한다.
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公开(公告)号：JPWO2017126211A1
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2016084329
申请日：2016-11-18
Applicant: 富士フイルム株式会社
CPC classification number: G03F7/0388 , B41C1/1016 , B41C2210/04 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/029 , G03F7/0387 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: ネガ型平版印刷版原版は、親水性表面を有する支持体上に、式1で表される構造を主鎖に有し、かつエチレン性不飽和結合を有する高分子化合物と、重合開始剤と、を含有する画像記録層を有する。また、平版印刷版の作製方法は、上記ネガ型平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、露光された前記ネガ型平版印刷版原版の非露光部を現像液を用いて除去し現像する現像工程、をこの順で含む。式1中、R 1 は(x+2)価の芳香族炭化水素環基を表し、xは1〜4の整数を表す。
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公开(公告)号：JP2018136557A
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：JP2018062105
申请日：2018-03-28
Applicant: ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC , ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
Inventor： ピーター・トレフォナス , フィリップ・デネ・フスタッド , シンシア・ピエール
IPC: G03F7/40 , C08F212/04 , C08F220/10 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/0388 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , C08F212/08 , C08F220/18 , C08F297/026 , G03F7/0002 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/165 , G03F7/26
Abstract: 【課題】ブラシポリマー組成を調節して、表面極性をリソグラフィ的に変え、その面上に自己組織化層が形成されうるパターン形成された面を形成するようにする。 【解決手段】感光層の一部分を照射することにより発生した酸を、酸感受性コポリマーを含む下層に拡散させる工程、酸感受性コポリマーは基体表面に共有結合されているか、ポリマー間架橋を形成しているかの少なくともいずれかで、拡散した酸と反応して下層表面に極性領域パターン形状を有する;感光層を除去する工程;下層の表面上に自己組織化層を形成する工程、第1ブロックと、第2ブロックとを有するブロックコポリマーを含み、第1ブロックは極性領域に対し整列する第1ドメインを形成し、第2ブロックは第1ドメインの隣に整列する第2ドメインを形成する;並びに第1もしくは第2ドメインのいずれかを除去して下にある下層の部分を露出させる工程;を含むパターンを形成する方法。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2018064085A
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：JP2017123743
申请日：2017-06-23
Applicant: サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド.
CPC classification number: H01L23/295 , G03F7/0388 , H01L24/02 , H01L24/09 , H01L2924/15174 , H01L2924/186 , H05K3/284 , H05K3/287
Abstract: 【課題】 優れた剛性を有しながらも、感光性及び現像性の低下がなく、硬化膜の柔軟性に優れるため反り(Warpage)の発生が少なく、流動性に優れるため孔やキャビティ内の充填性に優れた感光性樹脂組成物、及びこれを封止材として用いることができるファン−アウト半導体パッケージを提供する。 【解決手段】 本発明は、接続パッドが配置された活性面及び上記活性面の反対側に配置された非活性面を有する半導体チップと、上記半導体チップの少なくとも一部を封止する封止材と、上記半導体チップの活性面上に配置された第1連結部材と、を含み、上記封止材は、熱硬化性樹脂、カルボキシル基含有樹脂、エチレン性不飽和化合物、及び補強剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物であるファン−アウト半導体パッケージ及びこれを用いることができる感光性樹脂組成物に関するものである。 【選択図】図9
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公开(公告)号：JP2018045230A
公开(公告)日：2018-03-22
申请号：JP2017151972
申请日：2017-08-04
Applicant: 東京応化工業株式会社
CPC classification number: G03F7/0387 , C07C62/38 , C07C67/08 , C07C69/757 , C07C2603/94 , C07D493/10 , C08G69/26 , C08G69/28 , C08G73/1078 , C08G73/14 , C09D179/08 , G03F7/037 , G03F7/0388 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 【課題】基板に対する密着性が良好であり、透明性に優れる硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物と、当該感光性樹脂組成物において好適に使用されるポリアミド樹脂と、当該ポリアミド樹脂の製造方法と、当該ポリアミド樹脂の原料として好適に使用される化合物と、当該化合物の製造方法と、前述の感光性樹脂組成物を用いる硬化膜の製造方法と、前述の感光性樹脂組成物を硬化させてなる硬化膜とを提供すること。 【解決手段】樹脂(A)と、光重合開始剤(B)とを含む感光性樹脂組成物において、樹脂(A)として特定の飽和脂環式骨格を含みつつ、カルボキシ基の少なくとも一方が所定の構造の重合性基を含むユニットでエステル化されている構造単位を含むポリアミド樹脂を用いる。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6284891B2
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：JP2015036366
申请日：2015-02-26
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: G06F3/041 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/095 , G06F3/044 , C08F265/00 , B32B27/30 , C09D4/02
CPC classification number: G06F3/044 , B32B27/30 , C08F265/04 , C08F265/06 , C08F2220/1841 , C09D4/06 , C09D7/40 , C09D133/02 , C09D133/04 , C09D201/00 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/095 , G03F7/11 , G06F2203/04103 , G06F2203/04111 , C08F222/1006
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公开(公告)号：JP6284371B2
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：JP2014007250
申请日：2014-01-17
Applicant: 東京応化工業株式会社
Inventor： 室田 敦史
IPC: B29C59/02 , C08F299/08 , H01L21/027
CPC classification number: C08L83/04 , C08G77/20 , C08G77/80 , C08K5/07 , C08K5/08 , G03F7/0002 , G03F7/0388 , G03F7/0757 , G03F7/40
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公开(公告)号：JP2018005231A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2017124006
申请日：2017-06-26
Applicant: 奇美實業股▲分▼有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/40 , G03F7/033 , G03F7/038 , C08F220/18 , C08F2/48 , G03F7/20 , G02F1/1339 , G02F1/1333 , G03F7/075
CPC classification number: G03F7/0755 , G02F1/133345 , G02F2001/13398 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388
Abstract: 【目的】優れたスパッタリング耐性を提供することのできるネガ型感光性樹脂組成物、スペーサの製造方法、保護膜の製造方法、および液晶表示素子を提供する。 【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)、エチレン性不飽和基含有化合物(B)、光開始剤(C)、溶媒(D)、およびシリコン化合物(E)を含む。シリコン化合物(E)は、式(E−1)で表される構造を含む。ネガ型感光性樹脂組成物は、優れたスパッタリング耐性を提供することができるため、そのネガ型感光性樹脂組成物を使用することにより、ネガ型感光性樹脂組成物によって形成されるスペーサまたは保護膜のスパッタリング耐性が悪い問題を解決することができる。 【化1】 【選択図】無し
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公开(公告)号：JP6233775B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2013205143
申请日：2013-09-30
Applicant: 富士フイルム株式会社
IPC: G03F7/033 , G02B5/20 , C08F220/34 , C08F220/06 , G03F7/004
CPC classification number: G02B5/201 , G03F7/0007 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/105
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公开(公告)号：JPWO2016125795A1
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：JP2016573380
申请日：2016-02-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F220/22 , C08F290/12 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/0388 , C08F8/30 , C08F220/22 , C08F290/12 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/162 , G03F7/20
Abstract: 樹脂膜を形成する際に有機半導体等の基材にダメージを与えにくい架橋性フッ素樹脂を含む感光性樹脂組成物ならびにこれを用いた樹脂膜、有機半導体素子およびその製造方法ならびに感光性樹脂組成物に好適なフッ素樹脂の提供。重合性炭素−炭素二重結合を有し、フッ素原子含有率が47質量%以上であるフッ素樹脂と、重合性炭素−炭素二重結合を有する架橋剤(ただし、前記フッ素樹脂を除く。)と、光開始剤と、非芳香族系含フッ素溶媒とを含む、感光性樹脂組成物。
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