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公开(公告)号：JPWO2013058379A1
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2013539708
申请日：2012-10-19
Applicant: 昭和電工株式会社 , 富士電波工機株式会社
IPC: H05B6/80 , H01L21/20 , H01L21/268 , H01L21/28 , H01L21/288 , H05B6/70
CPC classification number: H05K3/1283 , H05B6/78 , H05K2201/0154 , H05K2203/102
Abstract: 【課題】導体もしくは半導体の膜または導体もしくは半導体を分散させた分散物の膜を適切に加熱することができるマイクロ波加熱装置及びマイクロ波加熱方法を提供する。【解決手段】導波管16aに波長範囲1m〜1mmのマイクロ波を供給しつつ、この導波管16aの中に、導体もしくは半導体の膜または導体もしくは半導体を分散させた分散物の膜を形成した基板24を、上記膜の形成面がマイクロ波の電気力線方向と略平行に配置し、または移動させる。【選択図】図3
Abstract translation: 为了提供一个导体或微波加热和微波能够适当地加热由半导体分散而获得的半导体膜或导体或分散体的薄膜加热方法。 而供给微波波长范围1m〜1mm至波导16a中，在波导16a中，形成由半导体分散而获得的导电体或半导体膜或导体或分散体的薄膜 膜的基板24，形成表面大致平行于微波，或移动的电力线方向。 点域
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公开(公告)号：JPWO2014050828A1
公开(公告)日：2016-08-22
申请号：JP2014538498
申请日：2013-09-24
Applicant: 昭和電工株式会社 , 富士電波工機株式会社
Abstract: 【課題】導体(金属酸化物等の金属前駆体を含む)や半導体を含んだ対象物をマイクロ波で加熱する場合にスパークの発生を効果的に防止できるマイクロ波加熱装置を提供する。【解決手段】導波管内に配される、導体、金属酸化物、または半導体を含むパターンが形成された平面状基板の、パターンの形成面に実質的に平行となる方向に電気力線の方向が一致するようマイクロ波を供給し、当該マイクロ波をパルス幅制御して、パターンの形成面にパルス状のマイクロ波を供給させるマイクロ波加熱装置である。【選択図】図1
Abstract translation: 提供一种能够有效地防止当导体（包括金属前体，如金属氧化物）和含有半导体的物体在微波加热发生火花的微波加热装置。 甲布置在波导中，导体，所述金属氧化物的方向，或在其上形成一个图案，其包括半导体的平面衬底的内，平行于所述图案的形成表面基本上电力线的方向 那里提供微波匹配，微波脉冲宽度控制，用于提供脉冲微波形成图案的表面上的微波加热装置。 点域1
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公开(公告)号：JP6121333B2
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：JP2013539708
申请日：2012-10-19
Applicant: 昭和電工株式会社 , 富士電波工機株式会社
IPC: H05B6/80 , H01L21/20 , H01L21/268 , H01L21/28 , H01L21/288 , H05B6/70
CPC classification number: H05K3/1283 , H05B6/78 , H05K2201/0154 , H05K2203/102
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