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公开(公告)号：JP6494536B2
公开(公告)日：2019-04-03
申请号：JP2016003869
申请日：2016-01-12
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
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公开(公告)号：JP6331961B2
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：JP2014214944
申请日：2014-10-22
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B13/0228 , B05B15/50 , B05B15/55 , B05B15/70 , B08B3/02 , B08B3/04 , B08B3/12
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公开(公告)号：JP6287750B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2014211908
申请日：2014-10-16
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/6715 , H01L21/68728
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公开(公告)号：JP2016082177A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：JP2014214944
申请日：2014-10-22
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B05B15/02 , B08B3/04 , B08B3/12 , B08B3/02
Abstract: 【課題】装置内の汚染を抑えつつノズルアームを清浄な状態に維持することが可能な基板液処理装置を提供する。 【解決手段】基板液処理装置16において、ノズルアーム42、43に保持された処理液ノズル41は基板保持部31に保持された基板Wに処理液を供給し、駆動機構44は基板Wに処理液を供給する処理位置と、退避位置との間で、処理液ノズル41を移動させ、アーム洗浄槽23は、ノズルアーム42、43を洗浄液中に浸漬させてこれらの部材の全面の洗浄を行う。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够将喷嘴臂保持在清洁状态并抑制装置中污染的基板液体处理装置。解决方案：在基板液体处理装置16中，由喷嘴臂 42,43向由基板保持单元31保持的基板W供给处理液。驱动机构44将处理液喷嘴41移动到处理液供给到基板W的位置与缩回位置之间。 手臂洗涤槽23将喷嘴臂42,43下降到清洁溶剂中以清洁臂构件的整个区域。选择的图示：图4
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公开(公告)号：JP6494807B2
公开(公告)日：2019-04-03
申请号：JP2017565476
申请日：2017-01-20
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6281161B2
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：JP2014157879
申请日：2014-08-01
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B17/00 , H01L21/67017 , H01L21/6719
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公开(公告)号：JP2017050387A
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2015172096
申请日：2015-09-01
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: G03F7/423
Abstract: 【課題】処理に必要な吐出形態に応じ、吐出不良なく処理流体を吐出すること。 【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、ノズルと、配管とを備える。ノズルは、基板へ向けて処理流体を吐出する。配管は、ノズルへ処理流体を供給する。また、配管は、内側から順に第1層、第2層および第3層をなす3層構造を有し、ノズルと第1層の先端および第3層の先端が接合し、第1層の先端が、第2層の先端よりも、処理流体の吐出方向に対し突出していない位置にある。 【選択図】図3B
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公开(公告)号：JP6027465B2
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：JP2013048123
申请日：2013-03-11
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051
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公开(公告)号：JP2015144239A
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：JP2014211908
申请日：2014-10-16
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 【課題】複数の処理液を所定の排液流路へと排出することが可能な基板液処理装置を提供する。 【解決手段】基板処理装置16は、基板保持部31に保持された基板Wに、処理液供給部から複数の処理液を切り替えて供給し、昇降自在に構成された内カップ50a、50bは、基板保持部31を側方から囲み、基板Wに供給された第1処理液を下方に案内して排液する第1排液流路を形成し、外カップ50cは、内カップ50a、50bを囲み、基板Wに供給された後の第2処理液を下方に案内して排液する第2排液流路を形成する。カバー部54は、外カップ50cを外方側から覆い、円筒部543の上部側から内側に向けて伸延した庇部541を備え、外カップ50cとの間で、排気流路を形成する。排気流路は、前記第1排液流路および前記第2排液流路の入口の上方側にて前記第1排液流路および前記第2排液流路と接続される。 【選択図】図3
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够将多种处理液排出到规定的排水通道的基板液体处理装置。解决方案：基板处理装置16将由基板保持部31保持的基板W供给处理液 从处理液供给单元中的多个处理液中选择。 内侧杯50a，50b构成为能够从侧面向上下移动地包围基板保持部31，形成向下方供给到基板W的第一处理液向下方排出的第一排出流路。 外杯50c围绕内杯50a，50b，并形成第二排水通道，向下引导供给到基板W的第二处理液排出。 盖部分54从外部覆盖外杯50c，包括从圆筒部543的上侧延伸到内部的檐部541，并且在外杯50c和盖部54之间形成排气通道。排气通道 与第一排水通道和第二排水通道的入口的上侧中的第一排水通道和第二排水通道相连。
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公开(公告)号：JP2015066514A
公开(公告)日：2015-04-13
申请号：JP2013204274
申请日：2013-09-30
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/08
Abstract: 【課題】排液管に屈曲部を設けたとしても効率よく処理液を排出することができる基板処理システムを提供すること。 【解決手段】本発明では、基板処理システム(1)において、基板(W)に処理液を供給するノズル(41)と、前記ノズル(41)から吐出された処理液を受ける液受部本体(43)と、前記液受部本体(43)で受けた処理液を排出する排液管(45)と、前記排液管の内部に存在する空気層(48)を前記排液管(45)の外部へ排出する空気抜き管(46)とを備え、前記排液管(45)は、前記排液管(45)が略鉛直から略水平方向に屈曲する第1屈曲部(47a)と略水平から略鉛直方向に屈曲する第2屈曲部(47b)とを有し、前記空気抜き管(46)は、吸気口(46a)を第1屈曲部(47a)と第2屈曲部(47b)の間または第2屈曲部(47b)に設け、排気口(46b)を前記吸気口(46a)よりも高い位置であって排液管(45)の外に設けることにした。 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供即使当在液体排出管上设置弯曲部分时也能够有效地排出处理液的基板处理系统。解决方案：基板处理系统（1）包括：用于提供处理液体的喷嘴（41） （W）; 液体接收主体（43），用于接收从喷嘴（41）喷射的处理液体; 用于排出接收在液体接收主体（43）处理液的液体排出管（45）; 以及用于将存在于排液管内的空气层（48）排出到排液管（45）的外部的排气管（46）。 液体排出管45具有：第一弯曲部（47a），其中液体排出管（45）从大致垂直方向向大致水平方向弯曲; 以及第二弯曲部（47b），其中，液体排出管从大致水平方向向大致垂直方向弯曲。 排气管46具有：设置在第一弯曲部47a和第二弯曲部47b之间或第二弯曲部47b处的吸气口46a。 以及设置在高于吸气口（46a）的位置和排液管（45）的外侧的排气口（46b）。
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