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公开(公告)号：JP6342887B2
公开(公告)日：2018-06-13
申请号：JP2015508794
申请日：2014-03-28
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 株式会社ダイセル
IPC: C07C41/24 , C08F16/12 , C08F16/32 , C07C43/215
CPC classification number: C07C43/215 , C07C41/22 , C07C41/24 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C57/50 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/30 , C07C309/66 , C07C2603/18 , G03F7/027
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公开(公告)号：JP2020015745A
公开(公告)日：2020-01-30
申请号：JP2019165752
申请日：2019-09-11
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 株式会社ダイセル
IPC: C08F216/12 , C07C67/14 , C07C69/653
Abstract: 【課題】新規なビニル基含有フルオレン系化合物及びその製造方法、上記化合物からなる重合性モノマー及び架橋剤、脱離基含有フルオレン系化合物、モノビニル基含有フルオレン系化合物及びその製造方法、モノビニル基及びモノ(メタ)アクリロイルオキシ基含有フルオレン系化合物、並びに(メタ)アクリロイルオキシ基含有フルオレン系化合物及びその製造方法を提供する。 【解決手段】式(19)で表される(メタ)アクリロイルオキシ基含有フルオレン系化合物。 (式中、W 13 及びW 14 は、縮合多環式芳香族炭化水素環を有する(メタ)アクリロイルオキシ基、水酸基、又は(メタ)アクリロイルオキシ基、R 3a 及びR 3b はシアノ基、ハロゲン原子、又はアリール基、n1及びn2は0〜4の整数を示す。) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP5988273B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2013521551
申请日：2012-06-15
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 株式会社ダイセル
CPC classification number: G03F7/085 , C07C231/02 , C07C235/34 , C07C235/38 , G03F7/0045 , G03F7/031
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公开(公告)号：JPWO2019065770A1
公开(公告)日：2020-11-05
申请号：JP2018035772
申请日：2018-09-26
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 株式会社ダイセル
IPC: C08G59/52 , C07D233/60
Abstract: エポキシ硬化触媒として好適な新規化合物、該化合物を用いたエポキシ硬化触媒、及び該化合物の製造方法を提供すること。 下記式(1)で表される化合物を提供する。下記式(1)中、X m+ はm価の対カチオンを表し、R 1 は置換基を有していてもよい芳香族基を表し、R 2 は置換基を有していてもよいアルキレン基を表し、R 3 は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルホン酸エステル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホン酸エステル基、又は有機基を表し、mは1以上の整数を表し、nは0以上3以下の整数を表し、R 2 はR 1 と結合して環状構造を形成していてもよい。
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公开(公告)号：JP2018138671A
公开(公告)日：2018-09-06
申请号：JP2018081402
申请日：2018-04-20
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 株式会社ダイセル
IPC: C07C43/215 , C07C69/54 , C07C67/14 , C08F20/30 , C08F290/00 , C08F16/32
CPC classification number: C07C43/215 , C07C41/22 , C07C41/24 , C07C43/225 , C07C43/23 , C07C57/50 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/30 , C07C309/66 , C07C2603/18 , G03F7/027
Abstract: 【課題】モノビニル基及びモノ(メタ)アクリロイルオキシ基、並びに(メタ)アクリロイルオキシ基を含有する新規なフルオレン系化合物及びその製造方法の提供。 【解決手段】式(1)で表されるフルオレン系化合物。 (式中、W 1 及びW 2 は式(2)で表される基、式(4)で表される基、水酸基、又は(メタ)アクリロイルオキシ基、R 3a 及びR 3b はシアノ基、ハロゲン原子、又は1価炭化水素基、n1及びn2は0〜4の整数。式(2)及び(4)中、環Zは芳香族炭化水素環、Xは単結合又は−S−で示される基、R 1 は単結合又は炭素数1〜4のアルキレン基、R 2 は1価炭化水素基等の特定の置換基、mは0以上の整数) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6807236B2
公开(公告)日：2021-01-06
申请号：JP2017004430
申请日：2017-01-13
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: H01L21/312
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公开(公告)号：JP6767131B2
公开(公告)日：2020-10-14
申请号：JP2016036356
申请日：2016-02-26
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C07C67/26 , C07C69/54 , C07C69/75 , C07C69/753 , C07C69/767 , C07D233/60 , B01J31/04 , C07D307/32 , C07C67/08
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公开(公告)号：JP2020101769A
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018241671
申请日：2018-12-25
Applicant: 東京応化工業株式会社
Abstract: 【課題】所望する量子収率を示す量子ドット含有被膜を形成し得る、量子ドット含有被膜を製造する方法と、当該方法に好適に使用し得る量子ドット含有被膜形成用の組成物とを提供すること。 【解決手段】表面の材質としてカルコゲン化物を含む量子ドット(A)と、基材成分(C)と、溶媒(S)とを含む組成物を用いて量子ドット含有被膜を製造する方法において、表面の材質としてカルコゲン化物を含む量子ドット(A)を用い、溶媒(S)としてカルコゲン元素を有する有機溶媒(S1)を用い、大気中よりも低い酸素濃度雰囲気下で量子ドット含有被膜を加熱する加熱工程を実施する。 【選択図】なし
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