製造装置および製造方法
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021031719A

    公开(公告)日:2021-03-01

    申请号:JP2019152043

    申请日:2019-08-22

    Abstract: 【課題】3次元造形物の製造において、予熱工程後の粉末層の温度分布が不均一な場合があり、電子ビームを照射して断面を形成する際に断面全体で不均一な温度条件となるため、製造される3次元造形物の品質が低下する可能性があり、これを抑制できる製造装置の提供。 【解決手段】第1粉末層における、製造対象の3次元造形物の断面となるべき領域を溶融結合させることにより断面を形成する断面形成部と、断面を形成した第1粉末層上に、第2粉末層を積層する粉末積層部と、第2粉末層の積層が完了する前に、第1粉末層および積層途中の第2粉末層の一部の少なくとも一方をビームで加熱する予熱処理部とを備える。 【選択図】図1

    製造装置、検査方法、製造方法およびプログラム

    公开(公告)号:JP2019196531A

    公开(公告)日:2019-11-14

    申请号:JP2018092189

    申请日:2018-05-11

    Abstract: 【課題】金属材料などからなる粉末層に対して電子ビームを照射して三次元積層物を製造する装置において、放射温度計により、粉末層において溶融凝固している粒子の表面温度を検出できるが、粉末層において粒子が溶融凝固して形成される構造の形成状態、例えば巣の有無などを判定することはできなかった。 【解決手段】3次元造形物を製造する製造装置であって、粉末材料を使用して3次元造形物の断面部分の構造を形成する断面形成部と、断面形成部によって形成された構造に流れる渦電流に応じた測定値を測定する測定部と、測定部による測定結果に応じて、構造の形成状態を判定する判定部とを備える。断面形成部は、粉末材料を含む粉末層にビームを照射して構造を形成する。 【選択図】図1

    3次元デバイスおよび3次元デバイスを製造する方法

    公开(公告)号:JP2021103735A

    公开(公告)日:2021-07-15

    申请号:JP2019234428

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 【課題】メモリチップのテストにおいて、一部でも不良の部分があると不良品と判断されて、当該メモリチップは廃棄され、3次元メモリデバイスの歩留まりが低くなってしまう。 【解決手段】回路面を分割した複数の分割領域のそれぞれに1以上の回路ブロックをそれぞれ 有する積層された複数の回路チップと、複数の回路チップにおける、積層方向に重なる各分割領域に含まれる回路ブロックのグループ毎に、グループ内の回路ブロックの中から選別された予め定められた数の回路ブロックと通信可能に接続されるインターコネクト部とを備える3次元デバイスを提供する。 【選択図】図1

    三次元積層造形装置及びその照射位置ずれ検出方法

    公开(公告)号:JP2019007072A

    公开(公告)日:2019-01-17

    申请号:JP2017126638

    申请日:2017-06-28

    Abstract: 【課題】ステージの機械的精度に影響されることなく精度の良い三次元構造物を造形できる三次元積層造形装置を提供する。 【解決手段】粉末材料を収容した造形容器を支持するとともに粉末材料の積層と共に高さを変化させることで粉末材料の表面位置を一定の高さに保つステージと、ステージ上に設置され前記粉末材料の表面に焦点合わせて走査された電子ビームに対して所定の反射電子信号を発生させることで前記ステージの水平方向の位置を示す基準部材と、前記基準部材から反射される反射電子信号を検出する電子検出器と、を備えた三次元積層造形装置が提供される。 【選択図】図3

    三次元積層造形装置および積層造形方法

    公开(公告)号:JP2019077893A

    公开(公告)日:2019-05-23

    申请号:JP2017202962

    申请日:2017-10-19

    Abstract: 【課題】粉末層を確実に溶融結合するための照射条件を装置自身で決定しながら、電子ビームEBの照射を行う三次元積層造形装置および積層造形方法を提供する。 【解決手段】 電子ビームEBを出力し、粉末層32の表面内方向に電子ビームEBを偏向させるカラム部200と、三次元構造物36を接地から電気的に絶縁させる絶縁部と、三次元構造物36を経由して接地に流れる電流値を測定する電流計73と、電流計73が測定する電流値に基づいて粉末層32の溶融を検出して、溶融信号を発生する溶融判断部410と、溶融信号を受け取って電子ビームの照射条件を決定する偏向制御部420と、を有する三次元積層造形装置100が提供される。 【選択図】図1

    素子、製造方法、および露光装置
    10.
    发明专利
    素子、製造方法、および露光装置 审中-公开
    装置,制造方法以及曝光装置

    公开(公告)号:JP2016207925A

    公开(公告)日:2016-12-08

    申请号:JP2015090453

    申请日:2015-04-27

    Abstract: 【課題】コンプリメンタリ・リソグラフィで、微細なラインパターンを安定的に加工できるマルチビーム形成素子を実現する。 【解決手段】ビームを成形して偏向させる素子であって、素子の第1面側から入射されるビームを成形して通過させる第1開孔を有するアパーチャ層とアパーチャ層を通過したビームを通過させて偏向させる偏向層とを備え、偏向層は、第1開孔に対応する偏向層内のビーム通過空間に相対する第1電極を有する第1電極部と、偏向層内において隣接層とは独立してビーム通過空間に向かって延伸する延伸部、および端部においてビーム通過空間を挟んで第1電極に対向する第2電極を有する第2電極部と、を有する素子、およびそのような素子を適用した露光装置を提供する。 【選択図】図11A

    Abstract translation: 甲互补光刻,以实现多波束形成元件可以加工稳定细线条图案。 本发明涉及一种装置用于偏转和整形光束,它通过穿过孔层,并通过从所述元件的第一面侧成形入射的光束具有用于通过第一开口孔层的光束 并且通过偏转层偏转偏转层,在偏转器层具有对应于所述第一开口的所述偏转器层的第一电极相对的束通道空间中的第一电极部,与相邻的层是 拉伸单元,其独立地朝向束通过空间延伸,并且所述元件具有具有面向跨越束通过空间中的第一电极在所述端部,和这样的元件的第二电极的第二电极部 所述提供所施加的曝光装置。 点域11A

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