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公开(公告)号：JP2017154928A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016039328
申请日：2016-03-01
Applicant: 株式会社ダイセル , 国立大学法人東京工業大学
IPC: C01B32/18 , C01B32/182 , C01B32/15
Abstract: 【課題】分散性が高く、構造欠陥の生成が抑制された酸化グラフェンを提供することにある。 【解決手段】グラフェン構造を有する炭素材と水性分散媒とを含む懸濁液を、液中又は液面プラズマ処理して、グラフェンにヒドロキシル基及び/又はカルボニル含有基を導入する。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6325557B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2015539333
申请日：2014-09-25
Applicant: 株式会社ダイセル
IPC: C09J11/06 , C09J7/00 , H01L25/065 , H01L25/07 , H01L25/18 , H01L21/52 , C09J163/00
CPC classification number: C09J163/00 , C08G59/68 , C09J7/35 , C09J2203/326 , C09J2463/00 , H01L23/293 , H01L24/83 , H01L25/065 , H01L25/07 , H01L25/18 , H01L2224/83855 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
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公开(公告)号：JP2017128757A
公开(公告)日：2017-07-27
申请号：JP2016008154
申请日：2016-01-19
Applicant: 株式会社ダイセル
Abstract: 【課題】絶縁基板表面に対して優れた密着性と、均一な厚みを有する微細金属配線を簡便に、精度良く、且つ前記基板の絶縁性を低下させること無く形成することができる組成物を提供する。 【解決手段】本発明の絶縁基板上に金属配線を形成するための組成物は、配位性基を備えた化合物の前記配位性基に金属イオンが配位した化合物(A)と、前記化合物(A)の配位性基との反応性を有する基を備えた化合物(B)とを含む。前記化合物(A)の配位性基としては、カルボキシル基が好ましい。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6612647B2
公开(公告)日：2019-11-27
申请号：JP2016028146
申请日：2016-02-17
Applicant: 株式会社ダイセル
Inventor： 堤 聖晴
IPC: B23K1/00 , B23K101/40 , H01L21/60
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公开(公告)号：JP5770164B2
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：JP2012510640
申请日：2011-04-08
Applicant: 株式会社ダイセル
IPC: C08F2/44 , C08F265/06 , C08F290/14 , C08F299/02 , C08G65/18
CPC classification number: C08F2/44 , C08F220/30 , C08F220/32 , C08F265/06 , C08F283/105 , C08G65/18 , C08G65/22
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公开(公告)号：JP5736119B2
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：JP2010096945
申请日：2010-04-20
Applicant: 株式会社ダイセル
IPC: C08F299/02 , C08F290/14 , C08G65/14
CPC classification number: C08F299/026 , C08F290/144 , C08G65/14 , C08G65/18 , C08G65/22
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