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公开(公告)号:JPWO2019229871A1
公开(公告)日:2021-03-25
申请号:JP2018020719
申请日:2018-05-30
Applicant: 株式会社日立ハイテク
IPC: G01N21/956 , H01J37/29 , H01J37/244 , H01L21/66 , G01N23/203
Abstract: 本開示は、ウエハの反り等による高さ変動がある観測対象においても画質の劣化が少ないウエハ検査技術を提供する。ウエハ検査装置は、ウエハ表面高さを測定する高さセンサで測定した高さに観測光学系の焦点を合わせ、また、高さに応じた光学倍率データとステージ位置データからCCDラインセンサの切り替え信号を補正してウエハ表面高さに応じた補正を実施することにより、劣化の少ない画像を得る(図1参照)。