公开(公告)号：JPWO2020183551A1

公开(公告)日：2021-11-25

申请号：JP2019009527

申请日：2019-03-08

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 李 ウェン ,  川野 源 ,  圓山 百代 ,  榊原 慎

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/153

Abstract: 二次ビームの進路を検出器の方向へ偏向させる多極電磁偏向器を用いて、二次ビームの偏向と一次ビーム又は二次ビームの非点補正を行う。

公开(公告)号：JPWO2020152795A1

公开(公告)日：2021-10-21

申请号：JP2019001968

申请日：2019-01-23

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 浜田 宏一 ,  木村 愛美 ,  圓山 百代 ,  弓場 竜 ,  榊原 慎 ,  酒井 計 ,  山口 聡 ,  瀬戸口 勝美 ,  白井 真純 ,  高杉 容徳

IPC: H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  H01J37/22

Abstract: 画像補正により精度よく電子ビーム観察装置の機差を低減させる。 電子ビームを試料に走査することによって画像を生成する電子ビーム観察装置において、複数の電子ビーム観察装置間での画像を補正するための補正係数算出方法であって、第1の電子ビーム観察装置が、第1のパターンおよび第1のパターンとは形状または大きさが異なる第2のパターンを有する試料、或いは第1のパターンを有する第1の試料および第2のパターンを有する第2の試料において、第1および第2のパターンに第1の電子ビームを走査して第1の画像を生成するステップと、第2の電子ビーム観察装置が、第1および第2のパターンに第2の電子ビームを走査して第2の画像を生成するステップと、第1または第2の電子ビーム観察装置が、第1および第2の画像に基づいて算出した第1および第2の周波数特性から選択的に抽出したピーク周波数における補正係数を算出するステップと、を含むことを特徴とする。

公开(公告)号：JPWO2019187118A1

公开(公告)日：2021-01-07

申请号：JP2018013901

申请日：2018-03-30

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 白崎 保宏 ,  土橋 高志 ,  圓山 百代 ,  池上 明 ,  川本 雄太

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J37/29 ,  H01J37/05

Abstract: 荷電粒子線応用装置は、ビームセパレータを含む。前記ビームセパレータは、第1の磁極と、前記第1の磁極と対向する、第2の磁極と、前記第1の磁極の前記第2の磁極に対向する第1の面において、一次ビームの光軸に沿って延び、前記光軸と垂直な第1の方向に配列された第1の電極及び第2の電極と、前記第2の磁極の前記第1の磁極に対向する第2の面において、前記光軸に沿って延び、前記第1の電極及び前記第2の電極にそれぞれ対向している、第3の電極及び第4の電極、を含む。

公开(公告)号：JP2020181629A

公开(公告)日：2020-11-05

申请号：JP2017145571

申请日：2017-07-27

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 浜田 宏一 ,  木村 愛美 ,  圓山 百代 ,  弓場 竜 ,  榊原 慎 ,  酒井 計 ,  山口 聡 ,  瀬戸口 勝美

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】画像補正により精度よく機差を低減させる電子線観察装置を提供する。 【解決手段】電子源と、電子源から放出された電子線を集束する対物レンズと、を有して、電子線を試料に照射することによって試料から発生する二次信号から画像を生成する電子線観察装置であって、特定のパターンを有する基準試料の画像を複数回撮像して複数の画像を生成し、複数の画像のそれぞれについて周波数特性を算出する制御部を有し、制御部は、複数の周波数特性を保持する。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6919063B2

公开(公告)日：2021-08-11

申请号：JP2020508885

申请日：2018-03-30

Applicant: 株式会社日立ハイテク

Inventor： 白崎 保宏 ,  土橋 高志 ,  圓山 百代 ,  池上 明 ,  川本 雄太

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J37/29 ,  H01J37/05