公开(公告)号：JPWO2016117104A1

公开(公告)日：2017-10-26

申请号：JP2016570440

申请日：2015-01-23

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 計 酒井 ,  計 酒井 ,  山口　聡 ,  山口　　聡 ,  和之 平尾 ,  和之 平尾 ,  容徳 高杉 ,  容徳 高杉

IPC: G01B15/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G01B15/04 ,  G01B2210/56 ,  G03F1/86 ,  G03F7/70625 ,  H01J37/22 ,  H01J37/222

Abstract: 本発明は、フォトマスクにはないパターンを形成するパターニング法によって形成されたパターンを適正に評価するパターン測定装置の提供を目的とする。この目的を達成するために、試料にビームを照射することによって得られるデータを用いて、前記試料に形成されたパターンの寸法を測定する演算装置を備えたパターン測定装置であって、前記演算装置は、前記試料にビームを照射することによって得られるデータに基づいて、前記パターンの座標情報を抽出し、当該座標情報を用いて、前記パターンの寸法測定を行う際の測定基準データを生成するパターン測定装置を提案する。

公开(公告)号：JP5337531B2

公开(公告)日：2013-11-06

申请号：JP2009045029

申请日：2009-02-27

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 和之 平尾 ,  周一 中川 ,  秀樹 板井

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/20

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam device for accurately specifying an object to be measured without depending on coordinate errors owing to heat generated by the continuous movement of a stage mechanism or others. SOLUTION: The charged particle beam device includes an arithmetic unit for specifying a measurement position with template matching. It also includes a storing medium for storing a relationship for a change of a shift length between an ideal measurement position for the object to measured, which is specified with an increase in the number of measurement points and the template matching of the increase in the number of measurement points, and an actual measurement position. The arithmetic unit calculates the shift length at the next measurement point in accordance with the relationship. When the calculation value exceeds a predetermined threshold value, it calculates a displacement that the shift length is corrected in accordance with the calculation value. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT