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公开(公告)号：JP6423011B2
公开(公告)日：2018-11-14
申请号：JP2016570440
申请日：2015-01-23
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G06T7/0004 , G01B15/04 , G01B2210/56 , G03F1/86 , G03F7/70625 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148 , H01J37/22 , H01J37/222
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公开(公告)号：JP6002480B2
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：JP2012152008
申请日：2012-07-06
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G01B15/00 , G03F7/70633 , H01J37/26 , H01J2237/221 , H01J2237/24578 , H01J2237/2817 , H01L22/12
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公开(公告)号：JP5948074B2
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：JP2012027963
申请日：2012-02-13
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G02B21/367 , G01B15/00 , G01B15/04 , G02B21/002 , G06K9/6202 , G06T7/32 , H01J37/28 , G06T2207/10061 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP5810031B2
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：JP2012102042
申请日：2012-04-27
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G06T7/0004 , G06T7/136 , G06T2207/20016 , G06T2207/30148
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公开(公告)号：JP2019169406A
公开(公告)日：2019-10-03
申请号：JP2018057510
申请日：2018-03-26
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/244 , G01N23/2251 , H01J37/22
Abstract: 【課題】 本発明は、試料表面と底部のそれぞれに焦点を合わせる際に発生する視野ずれを抑制しつつ、試料表面と底部に焦点の合った画像等を取得することを目的とする荷電粒子線装置を提案する。 【解決手段】 上記目的を達成するために、試料表面側に焦点が調整されたビームの照射に基づいて、第1のエネルギーの荷電粒子検出に基づく第1の画像(301)を形成し、試料に含まれるパターンの底側に焦点が調整されたビームの照射に基づいて、前記第1のエネルギーに対して相対的にエネルギーの高い第2のエネルギーの荷電粒子検出に基づく第2の画像(304)と、第1のエネルギーの荷電粒子検出に基づく第3の画像(303)を形成し、第1の画像と第3の画像との間のずれを求め、当該ずれを補正するように第1の画像と前記第2の画像を合成する荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】図3
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6069367B2
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：JP2014558582
申请日：2014-01-22
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01B15/04
CPC classification number: H01J37/28 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP2016171087A
公开(公告)日：2016-09-23
申请号：JP2016120354
申请日：2016-06-17
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: H01J37/28 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
Abstract: 【課題】 本発明は、DSAパターンのような凹凸がなく、エッジ効果を利用した荷電粒子ビームの走査による測定や検査が困難なパターンであっても、適切な装置条件設定に基づく高精度なパターン測定や検査を行うことを目的とする。 【解決手段】 高分子化合物に対して荷電粒子ビームを走査、及び当該走査に基づいて得られる画像の評価を行い、当該評価の結果が所定の条件を満たすまで、前記荷電粒子ビームの走査と画像の評価を繰り返し、前記画像が当該所定の条件を満たしたときの走査条件を、積算用画像取得用の走査前の前記荷電粒子ビームの走査条件として設定する装置条件設定法、或いは荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】図24
Abstract translation: 要解决的问题：即使在DSA模式中没有不规则的情况下，甚至当模式不太可能通过扫描进行测量或检查时，也可以基于正确的设备参数的设置来精确地执行模式测量或检查 使用边缘效应的带电粒子束。提出了一种用于设置器件参数的方法或带电粒子束器件，其中用带电粒子束扫描聚合物化合物，并且基于扫描获得的图像的评估 被评估，重复执行带有带电粒子束的扫描和图像的评估，直到评估结果满足预定参数，并且当图像满足预定参数时获得的扫描参数被设置为带电的扫描参数 启动扫描前的粒子束，以获取图像进行集成。选择图：图24
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公开(公告)号：JP2017067443A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2013270811
申请日：2013-12-27
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G01N23/2206 , G01B15/00 , G01N23/2251 , G03F7/0002 , G01B2210/56 , G01N2223/071 , G01N2223/6116
Abstract: 【課題】 本発明は、DSA法によって形成されるパターンを高精度に定量評価することをパターン測定装置の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明は、試料に形成されたパターン間の寸法を測定するパターン測定装置であって、画像内に含まれる複数のパターンの重心を求め、複数のパターンの重心間の距離等を求め、当該求められた重心間の距離等に基づいて、特定の条件のパターンを、当該特定の条件のパターンとは異なるパターンと識別、又は特定の条件のパターンの数、特定の条件のパターンを含む領域の大きさ、及び特定の条件のパターン間の仮想線分の数に関する情報を演算するパターン測定装置を提案する。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2017067442A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2013270795
申请日：2013-12-27
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01L21/027 , H01L21/66 , G01B15/00 , G01B15/04
CPC classification number: G01B15/00 , H01J37/28 , H01L21/0335 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L22/12 , G01B2210/56 , H01J2237/2817
Abstract: 【課題】 本発明は、フォトマスクにはないパターンを形成するパターニング法によって形成されたパターンを適正に評価するパターン測定装置の提供を目的とする。 【解決手段】 本発明は、上記目的を達成するために、試料に形成されたパターン間の寸法を測定する演算装置を備えたパターン測定装置であって、ビームを照射することによって得られる被測定データから、試料に形成されたパターンの重心を抽出し、当該抽出された重心と、測定始点或いは測定終点となる基準が設定される測定基準データとの間で位置合わせ処理を実行し、当該位置合わせされた測定基準データの前記測定始点或いは測定終点と、前記被測定データに含まれるパターンの重心、或いはエッジとの間の寸法を測定するパターン測定装置を提案する。 【選択図】 図7
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