公开(公告)号：JP2019185972A

公开(公告)日：2019-10-24

申请号：JP2018073717

申请日：2018-04-06

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 西畑 貴博 ,  大崎 真由香 ,  山本 琢磨 ,  ▲浜▼口 晶 ,  飯田 悠介

IPC: H01J37/28 ,  G01B15/02 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】深さ計測誤差を低減する。 【解決手段】第1のパターンの周辺領域に形成された第2のパターンを有する基板(試料200)の第1のパターンに対して一次電子線102を照射する一次電子線照射手段(電子銃101)と、一次電子線102が照射された基板(試料200)から放出される後方散乱電子(BSE110)を検出する検出手段(YAGシンチレータ106)と、検出した後方散乱電子(BSE110)の強度に対応する電子線画像を生成する画像生成手段113と、生成した電子線画像上で第1のパターンが存在する深さ計測領域を指定する指定手段(入出力部024)と、深さ計測領域の画像信号と第2のパターンが存在する前記周辺領域内のパターン密度を求め、その結果に基づいて深さ計測領域内の第1のパターンの深さを推定する処理手段(処理部022)とを有する走査電子顕微鏡システム100。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP6068624B2

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：JP2015513713

申请日：2014-04-17

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 後藤 泰範 ,  山本 琢磨

IPC: G01N23/225 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/222 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/281 ,  H01J2237/2815 ,  H01L22/12

公开(公告)号：JP2017134882A

公开(公告)日：2017-08-03

申请号：JP2014090393

申请日：2014-04-24

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 野尻 正明 ,  山本 琢磨 ,  石川 修平 ,  谷本 憲史 ,  板井 秀樹

IPC: H01L21/683 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01L21/683

Abstract: 【課題】観察中や計測中における帯電が観察画面に与える影響を低減する。 【解決手段】試料が試料室内にロードされてからアンロードされるまでの間に、試料を静電チャックから持ち上げる上昇動作と、持ち上げた試料を再び静電チャックに載置する下降動作とを少なくとも1回実行するウェハリフト機構を有する荷電粒子線装置を提供する。 【選択図】図6A

公开(公告)号：JP5965819B2

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：JP2012236901

申请日：2012-10-26

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 山本 琢磨 ,  船越 知弘 ,  谷本 憲史

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/222 ,  G01B15/00 ,  G03F7/00 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/2815 ,  H01J2237/2817

公开(公告)号：JP2019184354A

公开(公告)日：2019-10-24

申请号：JP2018073716

申请日：2018-04-06

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 西畑 貴博 ,  大崎 真由香 ,  山本 琢磨 ,  ▲浜▼口 晶 ,  飯田 悠介 ,  井田 知宏

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  G01B15/00

Abstract: 【課題】電子線の照射位置周辺の対象形状に依存する計測誤差を抑制する。 【解決手段】一次電子発生部(電子銃101)が発射した一次電子102が試料120に照射され、試料120から反射した反射電子110を検出する検出部106と、検出部106からの出力に基づいて、反射電子110による試料120の表面の画像を生成する画像生成部113と、画像生成部113で生成した画像の微分波形信号を生成し、微分波形信号の情報を用いて画像を処理し、試料120に形成されたパターンの寸法を計測する処理部022とを有する電子顕微鏡装置。 【選択図】図1A

公开(公告)号：JP6316578B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2013249249

申请日：2013-12-02

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 宍戸 千絵 ,  山本 琢磨 ,  山田 慎也 ,  田中 麻紀

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01L21/66 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/29 ,  G01B15/00 ,  G01B15/04 ,  G01B2210/56 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/24495 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/281 ,  H01J2237/2815 ,  H01L22/12

公开(公告)号：JP6281019B2

公开(公告)日：2018-02-14

申请号：JP2017508223

申请日：2016-03-11

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 宍戸 千絵 ,  山本 琢磨 ,  田中 麻紀

IPC: G01N23/203 ,  G01N23/2206 ,  G01N23/2251

CPC classification number: G01N23/203 ,  G01N23/22 ,  G01N23/225

公开(公告)号：JP5965851B2

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：JP2013027894

申请日：2013-02-15

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 土肥 歩未 ,  船越 知弘 ,  山本 琢磨 ,  田盛 友浩 ,  堺 恒弘

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22

CPC classification number: H01J37/263 ,  H01J37/241 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/225 ,  H01J2237/281

公开(公告)号：JP2015106530A

公开(公告)日：2015-06-08

申请号：JP2013249249

申请日：2013-12-02

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 宍戸 千絵 ,  山本 琢磨 ,  山田 慎也 ,  田中 麻紀

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01L21/66 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/29 ,  G01B15/00 ,  G01B15/04 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  G01B2210/56 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/24495 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/281 ,  H01J2237/2815 ,  H01L22/12

Abstract: 【課題】3D−NANDの穴開け工程に代表される、超高アスペクト比の穴の開口/非開口の判定、あるいは、穴のトップ径/ボトム径を検査・計測ために、穴底で発生した後方散乱電子(BSE)を検出できるようにする。 【解決手段】高加速電圧で加速した一次電子線を試料に照射し、低角(例えば仰角5度以上)の後方散乱電子(BSE)を検出することによって、穴底から放出され側壁を突き抜けた、“突き抜けBSE”で穴底観察を行うようにした。また、穴が深いと突き抜け距離が相対的に長くなるので、突き抜けBSEの量が減って像が暗くなるという特性を利用して、穴深さvs明るさの検量線を与えて、穴深さの計測を行うようにした。 【選択図】図1A

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种扫描电子显微镜系统，其能够检测以超高深度比例的孔的底部出现的向后散射的电子（BSE），其以3D-NAND的钻孔步骤中形成的孔为代表， 确定是否打开/未打开孔，或检查和测量孔的顶部/底部直径。解决方案：扫描电子显微镜系统布置成通过“穿透”观察孔的底部 BSE“从孔的底部发射并通过用高加速度电压加速的一次电子束照射样品而穿过侧壁，并且检测低角度（例如5度或更大）的向后散射电子（例如5度或更大） 仰角）。 扫描电子显微镜系统的布置采用BSE显示相对较长的穿透距离的特征，因此，在深孔的情况下，“穿透BSE”数量减少，图像变黑， 提供深度与亮度标准曲线，并根据标准曲线确定孔深。

公开(公告)号：JP2019204618A

公开(公告)日：2019-11-28

申请号：JP2018097543

申请日：2018-05-22

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 山本 琢磨

IPC: H01J37/21

Abstract: 【課題】コストや装置小型化の面から高性能なリターディング電圧印加電源を採用できない場合、高加速領域では印加電圧の可変範囲内において十分な焦点位置調整が行えず、焦点評価値が最大となる点を見つけ出すことが困難であった。 【解決手段】上記課題を解決するために、電子源から放出された電子ビームを集束する対物レンズと、対物レンズに励磁電流を供給するための電流源と、試料に電子ビームの減速電界を形成するための負電圧印加電源と、試料に対する電子ビームの照射によって得られる荷電粒子を検出する検出器と、検出器の出力に基づいて形成した画像から焦点評価値を算出する制御装置を備え、制御装置は、印加電圧を変化させたときの焦点評価値を算出し、焦点評価値の増減値に応じて励磁電流を増加させるか或いは減少させるかを判定し、判定結果に基づいて励磁電流を供給することを特徴とする走査型電子顕微鏡を提案する。 【選択図】 図3(A)