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    走査型顕微鏡
    1.
    发明专利
    走査型顕微鏡 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018037366A

    公开(公告)日：2018-03-08

    申请号：JP2016171641

    申请日：2016-09-02

    Applicant: 株式会社日立製作所

    Inventor： 荒木 亮子 ,  金 惠眞 ,  備前 大輔

    IPC: G01N23/2251 ,  G01N23/203 ,  H01L21/66 ,  H01J37/28

    CPC classification number: G02B21/008 ,  G01B9/04 ,  G02B21/0016 ,  G02B21/0032 ,  G02B21/0036 ,  G02B21/0052 ,  H01J37/263 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/244 ,  H01J2237/2485

    Abstract: 【課題】走査型顕微鏡において、試料上のコンタミネーションの影響を低減する条件を設定する。 【解決手段】走査型顕微鏡であって、試料に照射される荷電粒子線を出力する荷電粒子線源と、前記試料からの荷電粒子を検出する検出器と、前記荷電粒子線源及び前記検出器を制御する、コントローラと、を含み、前記コントローラは、1以上の可変パラメータを変化させて、複数の異なるパラメータ値セットを決定し、前記複数の異なるパラメータ値セットそれぞれにおける、対象試料材料の吸収電流の時間変化の測定結果を取得し、前記測定結果に基づいて、前記複数の異なるパラメータ値セットから対象試料の測定に使用するパラメータ値セットを選択する。 【選択図】図3

    電子ビーム装置
    5.
    发明专利
    電子ビーム装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019169362A

    公开(公告)日：2019-10-03

    申请号：JP2018056586

    申请日：2018-03-23

    Applicant: 株式会社日立製作所

    Inventor： 早田 康成 ,  備前 大輔 ,  榊原 慎

    IPC: H01J37/28 ,  H01J37/09 ,  H01J37/141

    Abstract: 【課題】深溝や深孔の底部を大電流条件で高精度に観察するのに適した電子ビーム装置を提供する。 【解決手段】電子ビーム装置は、電子源100からの電子ビーム116を開口153に照射する照射光学系と、開口の開口像を試料114上に投影結像する縮小投影光学系とを有する電子光学系と、試料上に投影結像された開口の開口像の投影倍率と、電子光学系により試料に照射された電子ビームの開口角402とを制御する制御部146とを有する。 【選択図】図1

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