研磨装置
    2.
    发明专利
    研磨装置 有权
    抛光装置

    公开(公告)号:JP2015100911A

    公开(公告)日:2015-06-04

    申请号:JP2013245970

    申请日:2013-11-28

    Inventor: 坂田 桂介

    CPC classification number: B24B37/013 B24B49/12 B24B49/14

    Abstract: 【課題】研磨ヘッドおよび研磨テーブルの少なくとも一方に、物理的に接触点のない非接触型伝送コネクタを設置することにより、研磨ヘッドおよび/または研磨テーブル内の各機器に非接触型による電源供給、信号伝送および通信を行うことができる研磨装置を提供する。 【解決手段】研磨テーブル1および研磨ヘッド3の少なくとも一方に、固定側ユニット15Sと回転側ユニット15Rとが互いに非接触で対向して固定側ユニット15Sと回転側ユニット15Rとの間で電力又は信号の授受、または通信を行う非接触型伝送コネクタ15を設け、研磨テーブル1および研磨ヘッド3の少なくとも一方に設置された機器と研磨テーブル1または研磨ヘッド3の外部との間で非接触型伝送コネクタ15を介して電力又は信号の授受、または通信を行うようにした。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种抛光装置,其能够通过安装物理上没有接触点的非接触型传输连接器来实​​现与研磨头和/或抛光台内的各个装置的非接触电源,非接触式信号传输和非接触通信 在抛光头和抛光台中的至少一个中。解决方案:非接触式传输连接器15设置在抛光台1和抛光头3中的至少一个中,用于执行电力或信号的发送/接收 或固定侧单元15S与旋转侧单元15R之间的通信,或者通过非接触式相互对置固定侧单元15S和旋转侧单元15R,以及电力或信号的接收或通信 通过非接触式传输连接器15在安装在抛光台1和抛光头3中的至少一个中的装置上进行; 和抛光台1或抛光头3的外部。

    扉の開閉検知装置
    3.
    发明专利
    扉の開閉検知装置 审中-公开
    门开启/关闭检测器

    公开(公告)号:JP2016125292A

    公开(公告)日:2016-07-11

    申请号:JP2015000989

    申请日:2015-01-06

    Inventor: 坂田 桂介

    CPC classification number: E05B41/00 E05B47/00 E05F7/00

    Abstract: 【課題】複数枚の扉に対して、単一の扉スイッチで各扉の開閉を検知することができ、単一の電気制御式ロック機構で各扉のロックを行うことができる扉の開閉検知装置を提供する。 【解決手段】開口部に設置された2枚以上の扉の開閉を検知する扉の開閉検知装置であって、2枚以上の扉3に共通の単一の扉スイッチ5を設け、扉スイッチ5は、2枚以上の扉の各々に対応して2以上の扉開閉検知部5Sを備え、2以上の扉開閉検知部5Sの出力回路は前記扉スイッチ5内で直列接続又は並列接続されている。 【選択図】図3

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种能够通过单个门开关检测多个门的打开/关闭的门打开/关闭检测器,并且能够通过单个电控锁定机构锁定每个门。解决方案:门 打开/关闭检测器检测安装在开口中的两个或多个门的打开/关闭。 两个以上的门3设置有共同的单门开关5.在门开关5中,分别设置有两个以上的门开闭检测部5S,以对应于两个以上的门。 两个或多个门开/关检测部件5S的输出电路串联连接或并联连接在门开关5内。选择图:图3

    非接触伝送システム及び基板処理装置

    公开(公告)号:JP2019110209A

    公开(公告)日:2019-07-04

    申请号:JP2017242133

    申请日:2017-12-18

    Inventor: 坂田 桂介

    Abstract: 【課題】組み立て時のユニット間の位置ズレ及び組み立て後に生じ得るユニット間の位置ズレによる伝送効率の低下を抑制できる非接触伝送システム及び基板処理装置の提供。 【解決手段】非接触伝送システム70は、第1ベースユニット2Aと第2ベースユニット2Bとが対向する対向箇所100において、電力、信号及び通信のうち少なくともいずれか一つの伝送を非接触で行う非接触伝送装置72を備え、非接触伝送装置72は、第1ベースユニット2Aに設けられた非接触伝送素子73Aと、第2ベースユニット2Bに設けられた非接触伝送素子73Bと、第1ベースユニット2A及び第2ベースユニット2Bと独立して、非接触伝送素子73A及び非接触伝送素子73Bの相対位置関係を調整する位置調整機構74と、を備える。 【選択図】図4

    基板処理装置の運転方法
    6.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018186148A

    公开(公告)日:2018-11-22

    申请号:JP2017085861

    申请日:2017-04-25

    Abstract: 【課題】基板処理装置の電力消費を削減することができる基板処理装置の運転方法を提供する。 【解決手段】基板処理装置の運転方法は、基板処理部100の動作モードを、待機モードから処理モードに切り替え、基板を基板処理部100で処理し、基板の処理が終了した後に、基板処理部100の動作モードを処理モードから待機モードに切り替え、かつ基板処理部100の少なくとも1つのモータへの電力ライン109を遮断する。 【選択図】図6

    基板処理方法
    8.
    发明专利
    基板処理方法 审中-公开

    公开(公告)号:JP2018186203A

    公开(公告)日:2018-11-22

    申请号:JP2017087405

    申请日:2017-04-26

    Abstract: 【課題】基板処理装置のピーク電力を削減することができる基板処理方法を提供する。 【解決手段】基板処理方法は、研磨レシピから予想研磨時間を算出し、洗浄レシピから予想洗浄時間を算出し、予想研磨時間を研磨部内の研磨ユニットの数で割り算して研磨スループット指標値を算出し、予想洗浄時間を洗浄部内の洗浄レーンの数で割り算して洗浄スループット指標値を算出し、研磨スループット指標値が洗浄スループット指標値よりも大きい場合は、洗浄側基板搬送システムの動作加速度の設定値を下げ、洗浄スループット指標値が研磨スループット指標値よりも大きい場合は、研磨側基板搬送システムの動作加速度の設定値を下げる。 【選択図】図7

    研磨テーブルおよび研磨装置
    9.
    发明专利
    研磨テーブルおよび研磨装置 审中-公开
    抛光台和抛光装置

    公开(公告)号:JP2015104769A

    公开(公告)日:2015-06-08

    申请号:JP2013247215

    申请日:2013-11-29

    Inventor: 坂田 桂介

    Abstract: 【課題】基板を押圧して研磨する研磨面を有した研磨テーブルに接触して研磨テーブルおよび研磨面の温度調節を行う温度調節部材を設置することにより、研磨テーブルおよび研磨面を直接に冷却又は加熱することができる研磨テーブルおよび該研磨テーブルを備えた研磨装置を提供する。 【解決手段】基板を押圧して研磨する研磨面2aを有した研磨テーブル1において、研磨テーブル1に接触して設置され、研磨テーブル1から吸熱又は研磨テーブル1に放熱することにより研磨面2aの温度調節を行う温度調節部材17A,17B,17Cを備えた。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种抛光台和具有该抛光台的抛光装置,其可以通过布置控制抛光台和抛光表面的温度的温度控制件来直接冷却和加热抛光台和抛光表面 通过与具有挤压和抛光基板的抛光表面的抛光台接触。解决方案:具有用于压制和抛光基板的抛光表面2a的抛光台1包括布置和接触的温度控制部件17A,17B,17C 并且通过从抛光台1吸收或散发热量来控制抛光表面2a的温度。

Patent Agency Ranking