专利检索 ap:("株式会社JCU" OR "互応化学工業株式会社") AND inv:"佐波正浩" 第 1 页

1.

发明专利
電気銅めっき浴有权

公开(公告)号：JP6782477B2

公开(公告)日：2020-11-11

申请号：JP2019551418

申请日：2018-08-28

申请人： 株式会社JCU , 互応化学工業株式会社

发明人： 池田健 , 岸本一喜 , 高谷康子 , 安田弘樹 , 下村彩 , 原崎裕介 , 佐波正浩 , 清原靖 , 藤原伊織 , 田中正夫 , 阿部峰大

IPC分类号： C25D7/00 , H05K3/18 , C25D3/38

2.

发明专利
電気銅めっき浴审中-公开

公开(公告)号：JPWO2020044432A1

公开(公告)日：2020-09-10

申请号：JP2018031730

申请日：2018-08-28

申请人： 株式会社JCU , 互応化学工業株式会社

发明人： 池田健 , 岸本一喜 , 高谷康子 , 安田弘樹 , 下村彩 , 原崎裕介 , 佐波正浩 , 清原靖 , 藤原伊織 , 田中正夫 , 阿部峰大

IPC分类号： C25D7/00 , H05K3/18 , C25D3/38

摘要： ビアホールのフィリング性に優れる電気銅めっき浴を提供する。電気銅めっき浴は、分子内にアミノ基を含有する化合物と、分子内にエポキシ基を含有する化合物との、酸の存在下における反応生成物を含有する。前記分子内にアミノ基を含有する化合物が、特定の一般式で表されるアミン化合物を含む。前記分子内にエポキシ基を含有する化合物が、特定の一般式で表されるエポキシド化合物を含む。

3.

发明专利
プラズマ処理装置有权

公开(公告)号：JP5996654B2

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：JP2014531421

申请日：2012-08-22

申请人： 株式会社JCU

发明人： 佐波正浩 , 上山浩幸

IPC分类号： H01L21/3065 , C23F4/00 , C23G5/00 , H01L21/304 , H05K3/26 , H05H1/46

CPC分类号： H01J37/32403 , H01J37/32357 , H01J37/32568 , H01J37/32715 , H01J37/32844 , H01J37/32853 , H01L24/78 , H01L24/85 , H01L21/4835 , H01L2224/45144 , H01L2224/48225 , H01L2224/48227 , H01L2224/48245 , H01L2224/48247 , H01L2224/7801 , H01L2224/7865 , H01L2224/789 , H01L2224/7898 , H01L2224/85013 , H01L2224/97 , H01L24/45 , H01L24/97 , H01L2924/15311 , Y02C20/30 , Y02P70/605