-
1.
公开(公告)号:KR20210033055A
公开(公告)日:2021-03-25
申请号:KR1020217007409A
申请日:2019-08-12
申请人: 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드
发明人: 재연 김 , 패트릭 언더우드 , 수잔 디. 스트로더스 , 시-야오 린 , 마이클 디. 페이톤 , 스코트 알. 사이리스
CPC分类号: C23C14/564 , H01J37/3435 , C23C14/34 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23C24/04 , H01J37/32871 , H01J37/3491
摘要: 전방 표면, 전방 표면 반대편의 후방 표면, 및 후방 표면의 적어도 일부분 상에 형성된 스퍼터 트랩(sputter trap), 및 스퍼터 트랩 상에 형성된 금속성 입자의 코팅을 포함하는 스퍼터링 챔버 구성요소. 코팅은 두께가 약 0.025 mm 내지 약 2.54 mm(0.001 인치 내지 약 0.1 인치)이고 코팅에는 불순물이 실질적으로 없고 코팅의 입자는 실질적으로 확산된다.