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    発光装置および感放射線性材料
    1.
    发明专利
    発光装置および感放射線性材料 审中-公开
    发光装置和辐射敏感材料

    公开(公告)号：JP2016167447A

    公开(公告)日：2016-09-15

    申请号：JP2016014421

    申请日：2016-01-28

    申请人： JSR株式会社

    发明人： 勝井 宏充 ,  安田 博幸 ,  山村 哲也 ,  工藤 和生

    IPC分类号： H01L51/50 ,  H05B33/22 ,  G03F7/023 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  H05B33/12

    摘要： 【課題】発光層から放射された光の、発光ムラおよび外部への取出し効率が改善された発光装置を提供する。 【解決手段】基板と、前記基板上に形成された、複数の画素と、前記基板上の領域を前記画素ごとに区画する第1隔壁とを備え、前記画素が、各々離間して配置された発光領域からなる、複数のサブ画素と、前記画素上の領域を前記サブ画素ごとに区画する、波長589nmでの屈折率が1.40〜1.55の第2隔壁とを有する、発光装置。 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种发光装置，其中从发光层发射的光对外部的不均匀发射和提取效率得到改善。解决方案：发光装置具有基板，多个像素 形成在基板上，以及第一分隔壁，用于对基板上的每个像素的区域进行分割。 所述像素具有多个子像素，所述子像素由发射区域组成，所述发射区域彼此之间具有空间，并且在波长589nm处具有折射率为1.40-1.55的第二分隔壁，并且在像素上划分所述像素上的区域 每个子像素。选择图：无

    感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機EL素子
    8.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機EL素子 审中-公开
    辐射敏感性树脂组合物，绝缘膜及其制造方法及有机EL元件

    公开(公告)号：JP2015232688A

    公开(公告)日：2015-12-24

    申请号：JP2015040106

    申请日：2015-03-02

    申请人： JSR株式会社

    发明人： 安田 博幸

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  H05B33/10 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22 ,  C08G73/10 ,  G03F7/023

    摘要： 【課題】溶剤としてN−メチル−2−ピロリドン以外の他の溶剤を使用したポリイミド系重合体を含む感放射線性樹脂組成物の提供。 【解決手段】特定の構造単位を有するポリイミド、および前記ポリイミドの前駆体から選択される少なくとも1種の重合体と、感放射線性酸発生剤と、式(G1−1)で表される化合物、および式(G1−2)で表される化合物から選択される少なくとも1種の溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。 [式(G1−1)中、R G1 はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基等であり、R G2 はカルボニル基等であり、R G3 は水素原子、炭化水素基であり、R G4 はアルキル基、アルコキシアルキル基である。式(G1−2)中、X G1 はC−H、窒素原子であり、少なくとも1つのX G1 は窒素原子であり、X G2 は水素原子、炭化水素基、アルコキシアルキル基である。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种使用除了N-甲基-2-吡咯烷酮以外的溶液作为溶剂的含有聚酰亚胺基聚合物的辐射敏感性树脂组合物。溶液：提供含有至少一种 选自具有特定结构单元的聚酰亚胺和聚酰亚胺前体的聚合物，辐射敏感性酸产生剂和选自式（G1-1）表示的化合物和由式（G1-1）表示的化合物的至少一种溶剂 -2）; 在式（G1-1）中，R分别独立地表示氢原子，烃基等; R表示羰基等; R表示氢原子和烃基; 并且R表示烷基和烷氧基烷基。 在式（G1-2）中，X表示C-H和氮原子; 至少一个X表示氮原子; X表示氢原子，烃基或烷氧基烷基。

    感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機EL素子
    9.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機EL素子 审中-公开
    辐射敏感性树脂组合物，绝缘膜，其制造方法和有机EL元件

    公开(公告)号：JP2015215397A

    公开(公告)日：2015-12-03

    申请号：JP2014096644

    申请日：2014-05-08

    申请人： JSR株式会社

    发明人： 高松 信博 ,  安田 博幸 ,  奥村 佳久 ,  山村 哲也

    IPC分类号： G03F7/004 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22 ,  H01L21/027 ,  C08F2/44 ,  C08J3/28 ,  G03F7/023

    摘要： 【課題】波長400nmにおいて遮光性を有し、かつ低吸水性を有する絶縁膜を形成することが可能な感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】(A)式(A1)で表される構造単位を有するポリイミド、前記ポリイミドの前駆体(A2)、および特定のアルカリ可用性重合体(A3)から選択される少なくとも1種の重合体と、(B)感放射線性酸発生剤と、(C)ノボラック樹脂と、(D)イソシアネート基が保護基によりブロックされた基を有する化合物と、(E)溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。 [式(A1)中、R 1 は水酸基を有する2価の基であり、Xは4価の有機基である。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供能够形成在400nm波长下具有遮光性的绝缘膜和低吸水率的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含：（A） 选自具有由式（A1）表示的结构单元的聚酰亚胺，聚酰亚胺的前体（A2）和特定的碱溶性聚合物（A3）的至少一种聚合物; （B）辐射敏感酸产生剂; （C）酚醛清漆树脂; （D）具有被保护基封端的异氰酸酯基的化合物; 和（E）溶剂。 [式（A1）中，R为具有羟基的二价基团，X为四价有机基团。