公开(公告)号：JP6977662B2

公开(公告)日：2021-12-08

申请号：JP2018093292

申请日：2018-05-14

Applicant: 三菱ケミカル株式会社

Inventor： 植松 卓也 ,  関口 直人

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1339 ,  C08F2/50 ,  C08F2/44 ,  G03F7/031

公开(公告)号：JP2021128259A

公开(公告)日：2021-09-02

申请号：JP2020022948

申请日：2020-02-14

Applicant: サンアプロ株式会社

Inventor： 木村 秀基 ,  白石 篤志

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  A61K6/887 ,  G03F7/029

Abstract: 【課題】歯科材料のように遮光性の高い、高濃度の充填剤を含みながら、可視光領域の光源に対し硬化性が優れる感光性組成物であり、硬化物の色相に優れる感光性組成物を提供する。 【解決手段】本発明は、 (A)一般式(1)で表されるジアリールヨードニウム塩 (B)増感剤 (C)ラジカル重合性化合物 (D)充填剤 を必須成分として含有することを特徴とする、感光性組成物である。 (Ar 1 ) 2 I + [ (R 1 )(R 2 )(R 3 )(R 4 )Ga] − (1) 【選択図】 なし

公开(公告)号：JP6912885B2

公开(公告)日：2021-08-04

申请号：JP2016251978

申请日：2016-12-26

Applicant: 東友ファインケム株式会社 ,  DONGWOO FINE−CHEM CO., LTD.

Inventor： 森脇 章太 ,  土谷 崇夫

IPC: C08L101/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G09F9/30 ,  G02F1/1335 ,  C08K5/3415 ,  C08K3/08 ,  C09D201/00 ,  C09B57/10 ,  C09B67/46 ,  C09B67/20 ,  H01L27/146 ,  G02B5/20

公开(公告)号：JP6897667B2

公开(公告)日：2021-07-07

申请号：JP2018508294

申请日：2016-03-31

Applicant: 昭和電工マテリアルズ株式会社

Inventor： 小野 敬司 ,  成田 真生

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/028

公开(公告)号：KR102237366B1

公开(公告)日：2021-04-06

申请号：KR1020170167461A

申请日：2017-12-07

Applicant: 삼성에스디아이 주식회사

Inventor： 김정연 ,  김동준

IPC: G03F7/004 ,  G02B5/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G02B5/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/032

Abstract: (A) 양자점; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; (E) 광 확산제; 및 (F) 용매를 포함하고, 상기 광 확산제는 1차 입경이 80nm 내지 200nm이고, 2차 입경이 120nm 내지 250nm인 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터가 제공된다.

公开(公告)号：KR20210032320A

公开(公告)日：2021-03-24

申请号：KR1020207037264A

申请日：2019-07-18

Applicant: 미쯔비시 케미컬 주식회사

Inventor： 에리코 도시미츠 ,  시하루 히라오카 ,  요시타카 사와이 ,  가즈히로 나카타니 ,  게이코 사이토

IPC: G03F7/004 ,  C08K5/00 ,  C08K5/3417 ,  G03F7/028 ,  G03F7/105 ,  G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

CPC classification number: C08K5/0041 ,  C08K5/3417 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105 ,  G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

Abstract: 발잉크성이 높고, 또한 테이퍼 형상이 양호한 격벽을 형성하는 것이 가능한 감광성 착색 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 감광성 착색 수지 조성물은, (A) 광중합 개시제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 광중합성 화합물, (D) 착색제, 및 (E) 발액제를 함유하는 감광성 착색 수지 조성물로서, 상기 (A) 광중합 개시제가, 파장 400 ㎚ 에 있어서의 흡광도가, 파장 300 ∼ 400 ㎚ 사이의 극대 흡수 파장 (λ
max ) 에 있어서의 흡광도에 대하여 20 ％ 이상인 옥심에스테르계 광중합 개시제 (A1) 와, 파장 400 ㎚ 에 있어서의 흡광도가, 파장 300 ∼ 400 ㎚ 사이의 극대 흡수 파장 (λ
max ) 에 있어서의 흡광도에 대하여 10 ％ 이하인 옥심에스테르계 광중합 개시제 (A2) 를 함유하고, 상기 (E) 발액제가, 가교기를 갖는 불소 원자 함유 수지를 함유한다.

公开(公告)号：KR102230622B1

公开(公告)日：2021-03-22

申请号：KR1020180131270A

申请日：2018-10-30

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 박은석 ,  임민영 ,  김지혜

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/033 ,  C08F220/1804 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/11

Abstract: 본 발명은 미세 패턴 형성시 우수한 패턴 성능을 구현할 수 있고, 도금액에 대한 화학적 안정성이 우수한 포토레지스트 필름을 제조할 수 있는 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 필름에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR20210030368A

公开(公告)日：2021-03-17

申请号：KR1020217001814A

申请日：2019-07-08

Applicant: 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤

Inventor： 무네토시 이리사와 ,  노보루 이토 ,  마사히로 다나베 ,  유지 도요다 ,  구니히토 가지야

IPC: G03F7/004 ,  C08F257/02 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/004 ,  C08F2/48 ,  C08F212/08 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C08F222/20 ,  C08F257/02 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

Abstract: 15 ∼ 45 질량％ 의 알칼리 금속 수산화물 및 5 ∼ 40 질량％ 의 에탄올아민 화합물을 함유하는 강알칼리성의 에칭액에 대한 내성이 우수한 감광성 수지 조성물과 그 감광성 수지 조성물을 이용하는 에칭 방법을 제공하는 것을 과제로 하고, 적어도 (A) 알칼리 가용성 수지, (B) 광중합 개시제 및 (C) 중합성 단량체를 함유하고, (C) 중합성 단량체로서, 일반식 (i) 로 나타내고, m ＋ n 이 2 이상 7 이하인 화합물을 5 ∼ 80 질량％ 함유하거나, 또는 (A) 알칼리 가용성 수지가 스티렌 및 메타크릴산의 공중합체이고, (C) 중합성 단량체로서, 일반식 (i) 로 나타내고, m ＋ n 이 2 이상 20 이하인 화합물을 함유하고, m ＋ n 이 2 이상 7 이하인 화합물의 함유량이 80 질량％ 이하인 감광성 수지 조성물, 그리고, 그 감광성 수지 조성물을 이용하는 에칭 방법 및 수지 구조체의 제조 방법에 의해 상기 과제를 해결하였다.

公开(公告)号：KR102227564B1

公开(公告)日：2021-03-15

申请号：KR1020140006654A

申请日：2014-01-20

Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 ,  주식회사 동진쎄미켐

Inventor： 전준 ,  박정민 ,  박성균 ,  김지현 ,  주진호 ,  윤혁민 ,  김동명 ,  김진선 ,  여태훈 ,  김병욱

IPC: G03F7/004 ,  G02F1/13 ,  G03F7/028 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: A63H33/046 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0045 ,  A63H33/084 ,  A63H33/086 ,  C08F212/34 ,  C08F220/10 ,  C08F220/16 ,  C08F220/18 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/30 ,  G09B1/38 ,  H01F7/02 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31138 ,  H01L51/102 ,  G02F1/13625

Abstract: 본 발명의 일례는 산과 반응하여 분해 가능한 산 반응성 폴리머, 광산발생제, 9 이하의 pKa 값을 갖는 유기염기 및 용매를 포함하는 포토레지스트 조성물을 제공한다.

公开(公告)号：KR20210027203A

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：KR1020200109993A

申请日：2020-08-31

Applicant: 아지노모토 가부시키가이샤

Inventor： 마사히로 가라카와

IPC: C08F265/06 ,  C08F290/14 ,  C08J5/18 ,  C08L33/06 ,  C08L63/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  H05K3/34

CPC classification number: C08F265/06 ,  C08F2/50 ,  C08F290/144 ,  C08J5/18 ,  C08L33/068 ,  C08L63/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/033 ,  H05K3/3452

Abstract: [과제] 언더컷 내성이 우수한 경화물을 얻을 수 있고, 해상성이 우수한 감광성 수지 조성물 등의 제공.
[해결수단] (A) 에틸렌성 불포화기와 카복실기를 함유하는 수지, (B) 광중합 개시제, (C) 에폭시 수지 및 (D) 휘발 성분을 함유하는 감광성 수지 조성물로서, 감광성 수지 조성물을 130℃에서 15분간 건조시켰을 때의 중량 감소율(%)을 a라고 하고, 감광성 수지 조성물을 180℃에서 15분간 건조시켰을 때의 중량 감소율(%)을 b라고 했을 때, 이하의 수학식 1 및 수학식 2의 관계를 충족시키는, 감광성 수지 조성물.
[수학삭 1]
V=a
2 ＋b
2 단, V≤30
[수학식 2]
a/b≤0.6