ガス処理装置
    9.
    发明专利
    ガス処理装置 有权
    天然气加工设备

    公开(公告)号:JP2017018901A

    公开(公告)日:2017-01-26

    申请号:JP2015139078

    申请日:2015-07-10

    摘要: 【課題】効率的なガスの処理を可能とするガス処理装置を提供する。 【解決手段】 実施形態のガス処理装置は、離間して並列に配置され、第1、第2の主面を有する、複数の誘電体基板と、前記複数の誘電体基板の第1、第2の主面上に配置される、複数の第1、第2の電極と、前記複数の誘電体基板の内部に配置される、複数の第3の電極と、を有し、間隔を有して配置される、複数の積層体と、前記複数の積層体間に対象ガスを供給するガス流路と、前記複数の第1、第2の電極と前記第3の電極間に交流電圧を印加して、前記複数の誘電体基板の間に前記対象ガスの複数のプラズマ誘起流を生成する交流電源と、前記複数の積層体の下流側に配置され、前記対象ガスの流量を制限する流量制限機構と、を具備する。 【選択図】図1

    摘要翻译: 一种气体处理装置,能够将气体的有效处理。 气体处理设备一个实施例的布置在间隔开的平行的,具有第一,第二主表面上,多个电介质基板,第一所述多个电介质基板的,第二 设置在所述多个第一和第二电极的主要表面上时,被设置的多个电介质基板的内部具有多个第三电极,以及在距离 放置,通过施加多个层压板,用于之间供给目标气体的气体流路,所述多个层叠体,其中,所述多个第一,第二电极之间的AC电压的第三电极 碲,其中,所述多个AC电源,以生成多个所述电介质基片之间的目标气体的等离子体诱导流动的被布置在所述多个层压板的下游侧,流限制机构,用于限制所述目标气体的流量 它包括:a。 点域1