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公开(公告)号：JP6316446B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2016549722
申请日：2015-02-04
Applicant: サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ
Inventor： パンカジ・シン・ガウタム , ウィリアム・イー・ホラー・ジュニア , セルジオ・フェルール・ナダル , ジョン・ジョセフ・アンダーソン
CPC classification number: C07C68/02 , B01J8/0285 , B01J8/0438 , B01J8/0442 , B01J8/067 , B01J19/245 , B01J2208/00185 , B01J2208/00194 , B01J2208/00221 , B01J2208/00238 , B01J2208/00513 , B01J2208/02 , B01J2208/065 , B01J2219/00015 , B01J2219/192 , B01J2219/1923 , B01J2219/194 , B01J2219/1943 , B01J2219/1944 , B01J2219/1946 , B01J2219/1947 , C01B32/80 , F28F1/025 , F28F1/08 , F28F1/10 , F28F1/16 , F28F1/24 , F28F1/34 , F28F1/38 , F28F1/40 , F28F1/426 , F28F13/08 , F28F2210/02 , C07C69/96
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公开(公告)号：JP6062244B2
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：JP2012510307
申请日：2010-05-12
Applicant: ロンザ アーゲー
Inventor： ロベルジュ、ドミニク , コックマン、ノルベルト , ゴットスポナー、ミハエル , アイホルツァー、マルクス
CPC classification number: B01J19/0093 , B01J2219/00015 , B01J2219/00783 , B01J2219/00804 , B01J2219/0086 , B01J2219/00889 , B01J2219/00995 , Y10T137/0402
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公开(公告)号：JP5931135B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2014153730
申请日：2014-07-29
Applicant: エボニック デグサ ゲーエムベーハー , Evonik Degussa GmbH
Inventor： ユルゲン エルヴィン ラング , カール−フリードリヒ ホッペ , ハルトヴィッヒ ラウレーダー , エッケハルト ミュー
IPC: A62C3/00
CPC classification number: B01J19/00 , B01J2219/00015 , B01J2219/00022 , B01J2219/00225
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公开(公告)号：JP2012520174A
公开(公告)日：2012-09-06
申请号：JP2011554051
申请日：2010-03-12
Applicant: プレジデント アンド フェローズ オブ ハーバード カレッジ
Inventor： アダム アール． アベート， , デイビッド エー． ウェイツ， , マーク ロマノフスキー，
CPC classification number: B01F13/0062 , B01F3/0807 , B01F3/0811 , B01F2215/0037 , B01J19/0093 , B01J2219/00015 , B01J2219/00783 , B01J2219/00828 , B01J2219/00831 , B01J2219/00833 , B01J2219/00837 , B01J2219/00889 , B01J2219/00891 , B01J2219/0097 , B01J2219/00975 , B01L3/502784 , B01L2200/0636 , B01L2200/0673 , B01L2300/0816 , B01L2300/0861 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
Abstract: 流体中の同様の、または異なるサイズの不連続区画を集束および／または形成するためのマイクロ流体方法およびデバイスの併用を説明する。 いくつかの側面では、本発明は、概して、流動集束型技術に関し、マイクロ流体工学にも関し、より具体的には、分散剤の中の分散相ならびに多相流体系の中の分散相のサイズおよびサイズ分布を制御するように配列されるマイクロ流体システムと、複数のかかるデバイスへの流体成分の送達のためのシステムとの併用に関する。
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公开(公告)号：JP2017522415A
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：JP2016575126
申请日：2015-06-04
Inventor： ハウリリューク、アンドルー
CPC classification number: B01J19/0066 , B01F7/1675 , B01F7/22 , B01F15/00857 , B01F15/00922 , B01F2215/0036 , B01F2215/0049 , B01F2215/0404 , B01F2215/0409 , B01J19/18 , B01J2219/00011 , B01J2219/00015 , B01J2219/00166 , B01J2219/00761 , C08F2/01 , G01F1/7086 , G01N21/6408 , G01N21/6456 , C08F10/00 , C08F2/06
Abstract: 攪拌槽型化学反応器における反応器内容物の平均齢は、例えば、生成物の均質性を含む生成物の特性のいくつかに影響を与える。反応器の透明なモデルを製作して、蛍光色素を含み、使用中の反応器の流動特性と同等の流動特性を有する流体でこのモデルを満たすことにより、反応器内容物の平均齢を決定できる。反応条件下で流体を攪拌しながら流体に光を当て、透明な流体をモデルに流入させる。反応器内容物の画像を撮影し、内容物の出口齢に対して、モデルの内容物の平均流体齢を決定する。反応器の機能を改善するために、この手法を適用して、例えば、どの反応器ポートを使用するか、どのような攪拌機を使用するか、どのような流量を用いるかを決定できる。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP5909095B2
公开(公告)日：2016-04-26
申请号：JP2011554051
申请日：2010-03-12
Applicant: プレジデント アンド フェローズ オブ ハーバード カレッジ
Inventor： ロマノフスキー, マーク , アベート, アダム アール. , ウェイツ, デイビッド エー.
CPC classification number: B01F13/0062 , B01F3/0807 , B01F3/0811 , B01J19/0093 , B01L3/502784 , B01J2219/00015 , B01J2219/00783 , B01J2219/00828 , B01J2219/00831 , B01J2219/00833 , B01J2219/00837 , B01J2219/00889 , B01J2219/00891 , B01J2219/0097 , B01J2219/00975 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
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7.发明专利
公开(公告)号：JP5291282B2
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：JP2005513164
申请日：2004-08-11
Applicant: 株式会社トクヤマ
CPC classification number: B01F3/02 , B01F5/0618 , B01F5/0646 , B01F5/0647 , B01F5/065 , B01F5/0655 , B01F2005/0625 , B01F2005/0636 , B01F2005/0637 , B01J19/0053 , B01J19/2415 , B01J19/2425 , B01J19/244 , B01J2219/00015 , C01B33/02 , C01B33/03 , Y10T117/10 , Y10T117/1028
Abstract: There is provided a reaction vessel whereby silicon produced can be smoothly recovered dropwise without excessive thermal load on constitutional parts of the reaction vessel, a silicon deposition feedstock gas can be reacted efficiently even when the reaction vessel is scaled up to industrial large-scale equipment, generation of silicon fine powder and silane oligomers can be suppressed, and industrial silicon production can be performed over extended periods. The tubular reaction vessel comprises a longitudinally-extending wall with a space thereinside, wherein a silicon deposition feedstock gas inflow opening and a deposited silicon discharge opening are provided at an upper portion and a lower end portion respectively, and a flow resistance-increasing region is created on a wall surface of the tubular reaction vessel that is contacted with a feedstock gas. The flow resistance-increasing region is at least one of protrudent, concave and sloped regions.
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公开(公告)号：JP2008532758A
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：JP2008501480
申请日：2006-03-17
Applicant: サソール テクノロジー(プロプライエタリー)リミテッド
Inventor： アンドレ ペーター ステインベルク、 , デーク ウィレム フレデリック ブリルマン、 , バートホールド ベレンド ブレマン、
CPC classification number: B01J8/28 , B01J8/0055 , B01J8/065 , B01J8/067 , B01J8/1836 , B01J8/22 , B01J8/226 , B01J8/34 , B01J19/248 , B01J19/249 , B01J2208/00132 , B01J2208/0015 , B01J2208/0061 , B01J2208/0084 , B01J2208/022 , B01J2219/00015 , B01J2219/0002 , B01J2219/245 , B01J2219/2453 , B01J2219/2458 , B01J2219/2462 , B01J2219/247 , B01J2219/2474 , B01J2219/2481 , B01J2219/2496 , B01J2219/2497 , C10G2/344 , C10G2300/1022 , F28D7/00 , F28D7/163 , F28D9/00 , F28F9/22 , Y02P20/582
Abstract: 低いレベルで、少なくとも１つの気体反応物を、垂直に延在する、懸濁液中に懸濁された固体粒子のスラリー体中に供給する工程であって、スラリー体が、共通反応器シェル内に収容された、少なくとも２つの垂直に延在するシャフト内に収容され、各シャフトが、少なくともいくつかがスラリー流連通する、複数の垂直に延在する流路に分割され、スラリー体が、流路の少なくともいくつかに存在する工程を含む、三相スラリー反応器を動作させる方法。 気体反応物は、シャフトの流路の少なくともいくつかに存在するスラリー体を通って上方に進むときに反応させられ、それにより、非気体および／または気体生成物を形成する。 存在する場合気体生成物、および／または未反応の気体反応物が、スラリー体の上のヘッド空間内で、スラリー体から離脱される。
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公开(公告)号：JP2016005837A
公开(公告)日：2016-01-14
申请号：JP2015134627
申请日：2015-07-03
Applicant: プレジデント アンド フェローズ オブ ハーバード カレッジ
Inventor： マーク・ロマノフスキー , アダム・アール・アベート , デイビッド・エー・ウェイツ
IPC: B01J19/00
CPC classification number: B01F13/0062 , B01F3/0807 , B01F3/0811 , B01J19/0093 , B01L3/502784 , B01J2219/00015 , B01J2219/00783 , B01J2219/00828 , B01J2219/00831 , B01J2219/00833 , B01J2219/00837 , B01J2219/00889 , B01J2219/00891 , B01J2219/0097 , B01J2219/00975 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
Abstract: 【課題】分散剤内の分散相ならびに多相流体系の中の分散相のサイズおよびサイズ分布を制御するように配設されるマイクロ流体システムと、複数のかかるデバイスへの流体成分の送達のためのシステムとの並行使用方法の提供。 【解決手段】流体中の同様の、又は異なるサイズの不連続区画を集束及び/又は形成するためのマイクロ流体方法及びデバイスの併用を説明する。いくつかの側面では、概して、流動集束型技術に関し、マイクロ流体工学にも関し、より具体的には、分散剤の中の分散相ならびに多相流体系の中の分散相のサイズおよびサイズ分布を制御するように配列されるマイクロ流体システムと、複数のかかるデバイスへの流体成分の送達のためのシステムとの併用に関する方法。 【選択図】図1
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于平行使用微流体系统的方法，所述微流体系统布置成控制分散剂内的分散相以及分散相在多相流体系统中的尺寸和尺寸分布，以及用于输送 流体组分到多个这样的装置。解释：并行使用微流体方法和装置用于在流体中聚焦和/或形成类似或不同尺寸的不连续部分。 在一些方面，本发明一般涉及流动聚焦型技术，还涉及微流体，更具体地说，并行使用布置成控制分散剂内的分散相的微流体系统，以及尺寸和尺寸分布 分散相在多相流体系统中，以及用于将流体组分输送到多个这样的装置的系统。
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公开(公告)号：JP5674271B2
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：JP2008501480
申请日：2006-03-17
Applicant: サソール テクノロジー(プロプライエタリー)リミテッド , サソール テクノロジー(プロプライエタリー)リミテッド
Inventor： アンドレ ペーター ステインベルク、 , アンドレ ペーター ステインベルク、 , バートホールド ベレンド ブレマン、 , バートホールド ベレンド ブレマン、 , デーク ウィレム フレデリック ブリルマン、 , デーク ウィレム フレデリック ブリルマン、
CPC classification number: B01J8/28 , B01J8/0055 , B01J8/065 , B01J8/067 , B01J8/1836 , B01J8/22 , B01J8/226 , B01J8/34 , B01J19/248 , B01J19/249 , B01J2208/00132 , B01J2208/0015 , B01J2208/0061 , B01J2208/0084 , B01J2208/022 , B01J2219/00015 , B01J2219/0002 , B01J2219/245 , B01J2219/2453 , B01J2219/2458 , B01J2219/2462 , B01J2219/247 , B01J2219/2474 , B01J2219/2481 , B01J2219/2496 , B01J2219/2497 , C10G2/344 , C10G2300/1022 , F28D7/00 , F28D7/163 , F28D9/00 , F28F9/22 , Y02P20/582
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