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公开(公告)号：JP6372100B2
公开(公告)日：2018-08-15
申请号：JP2014045990
申请日：2014-03-10
申请人： セイコーエプソン株式会社
发明人： 宮澤 久
IPC分类号： B41J2/165
CPC分类号： B41J2/16535 , B05B15/52 , B08B1/006 , B08B1/007 , B08B1/008 , B41J2/16538 , B41J2/16541 , B41J2/16544
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公开(公告)号：JP6151674B2
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：JP2014204595
申请日：2014-10-03
申请人： ファナック株式会社
发明人： 各務 正宏
CPC分类号： B24B55/02 , B05B1/00 , B05B1/3006 , B05B12/085 , B05B15/008 , B05B15/02 , B05B15/0208 , B05B15/0216 , B05B15/0225 , B05B15/0233 , B05B15/40 , B05B15/50 , B05B15/52 , B05B15/522 , B05B15/5223 , B05B15/5225 , B23B27/10 , B23Q11/1076 , Y10S239/12 , Y10S239/19
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公开(公告)号：JP6346158B2
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2015234487
申请日：2015-12-01
申请人： デュール システムズ アーゲー , Durr Systems AG
发明人： クライナー、マルクス , バウマン、ミヒャエル , ブック、トーマス , シェーファー、ラルフ , ゾンマー、ゲオルク エム , ヴルスト、マルティン , ヘルレ、フランク
CPC分类号： B08B1/002 , A46B13/001 , B05B15/52 , B05B15/555 , B08B1/04 , B08B3/02
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公开(公告)号：JP6322640B2
公开(公告)日：2018-05-09
申请号：JP2015540677
申请日：2013-10-08
发明人： リタ モハンティ , ロバート ダブリュ.トレイシー , スコット エー.リード
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公开(公告)号：JP2018153800A
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2018012400
申请日：2018-01-29
发明人： ラルフ シー ネルソン , ジェレッド ウィルバーン , アラン アール ルイス
CPC分类号： B05B15/522 , B05B15/52 , B05C21/00 , B08B9/023 , B08B13/00
摘要： 【課題】自動化された態様で、より効率的にディスペンシングノズルを洗浄できるシステムを提供すること。 【解決手段】一つの特徴において、ディスペンサのノズルを洗浄するシステムはプラットフォームと、当該プラットフォームによって支持される洗浄基質と、を備え得る。前記洗浄基質は、前記ノズルから材料を除去するように構成された複数のフック構造を有し得る。 【選択図】図7
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公开(公告)号：JP2018140393A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2018074358
申请日：2018-04-09
发明人： リタ モハンティ , ロバート ダブリュ.トレイシー , スコット エー.リード
摘要： 【課題】回路基板組立てプロセスの供給ヘッドのノズル又はニードルの効率的で繰返し可能な清掃システム及び方法を備えた材料堆積システムを提供する。 【解決手段】材料堆積システムはフレーム20と、フレーム20に結合され、堆積動作の間、電子基材を支持するように構成される支持体22と、フレーム20に結合されるガントリ24と、ガントリ24に結合される2つの堆積ヘッド14、16とを備える。各堆積ヘッドはニードルを備え、堆積ヘッド14、16はガントリ24の動きによって支持体22にわたって移動可能である。材料堆積システムは、ニードルクリーナーガントリ24上で移動可能であり、堆積ヘッド14、16のニードルを清掃するように構成されるニードルクリーナー組立体を更に備える。材料堆積システムは、ニードル清掃動作を実行するようにニードルクリーナー組立体の動作を制御するように構成されるコントローラー18を更に備える。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018001156A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2017122992
申请日：2017-06-23
申请人： エクセル インダストリー
发明人： エリク プリュ , シリル メダール , フィリップ プロバンス
CPC分类号： B08B3/02 , B05B13/0452 , B05B14/41 , B05B15/52 , B05B15/555 , B05B16/00 , B05B16/40 , B08B1/002 , B08B1/04 , B08B3/024 , B08B3/08 , B08B3/14 , B08B5/02 , B08B9/00 , B08B9/093 , B25J11/0085 , F26B9/06 , F26B25/003
摘要： 【課題】被洗浄要素(8a,8b)の全て、又は少なくとも一部が洗浄される洗浄シーケンス中に実施される自動洗浄プロセスの提供。 【解決手段】被洗浄要素(8a,8b)の全て、又は少なくとも一部が洗浄される洗浄シーケンス中に実施される自動洗浄プロセスであって、各被洗浄要素がコーティング設備に属する制御された雰囲気のブース(C)内に配置されている自動洗浄プロセス。1つ又は複数の要素(8a,8b)の洗浄シーケンスは、設備の強制的な製造停止中に設定される。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2017185488A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：JP2017076883
申请日：2017-04-07
申请人： 船井電機株式会社
发明人： ノラサック・サム
CPC分类号： A24F47/004 , A24F47/008 , A61M15/0021 , A61M15/025 , A61M15/06 , B05B15/50 , B05B15/52 , A61M11/041 , A61M2209/10
摘要： 【目的】流体噴射および気化装置、ならびにそれらのメンテナンス装置を提供する。 【解決手段】メンテナンス装置は、前記流体噴射および気化装置の噴射ヘッドを掃引するワイパーブレードと、前記ワイパーブレードと係合して、前記流体噴射および気化装置を流れる空気の流れにより動作し、前記噴射ヘッドを横切って前記ワイパーブレードを移動させる空気作動機構と、を備える。 【選択図】図5
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公开(公告)号：KR102237185B1
公开(公告)日：2021-04-07
申请号：KR1020190073458A
申请日：2019-06-20
申请人： 엘지전자 주식회사
CPC分类号： C23C14/24 , B05B15/14 , B05B15/52 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/52 , C23C14/54 , C23C14/564
摘要： 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치 시스템은 진공 챔버; 상기 진공 챔버의 일면에 적어도 하나 이상 구비되는 뷰포트; 상기 진공 챔버 내부에 수용되고, 증착 원료가 수용되는 도가니와, 상기 도가니를 가열하는 히터 유닛과, 상기 증착 원료에서 증발된 증착 물질이 통과하는 적어도 하나 이상의 노즐을 포함하는 증착 장치; 상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 촬영하는 카메라; 상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 향하여 레이저 광선을 출력하는 레이저; 상기 레이저로부터 출력되는 레이저 광선을 상기 노즐의 한 지점으로 이동시키는 레이저 이동수단; 및 상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지를 수신하고, 상기 노즐 이미지에서 클로깅을 감지한 결과에 따라 상기 레이저와 레이저 이동수단의 작동을 제어하는 제어부;를 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：KR20210035783A
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：KR1020210023662A
申请日：2021-02-22
申请人： (주)동성화인텍
CPC分类号： B05B13/04 , B05B15/52 , B05B15/555 , B05B7/0093 , B05B7/24 , G01L5/04
摘要： 자동화 도장 장치가 제공된다. 일 실시예에 있어서, 도장 대상면에 혼합원료를 분사하는 분사모듈; 상기 분사모듈에 연결된 복수의 케이블의 길이를 제어하여 상기 분사모듈을 미리 설정된 패턴을 따라 위치 이동시키는 윈치모듈; 상기 케이블 각각의 장력을 측정하는 장력센서; 및 상기 윈치모듈을 제어하여 상기 분사모듈이 이동하면서 혼합원료를 분사하도록 제어하는 제어부;를 포함하고, 상기 제어부는 상기 장력센서에 의해 측정된 장력 정보로부터 초기 입력된 상기 분사모듈의 위치 정보를 자동으로 보정하여, 상기 분사모듈이 위치한 지점을 실시간으로 파악할 수 있다.
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