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公开(公告)号：JP6235592B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2015531159
申请日：2013-09-04
发明人： アバラジス・エス・ハリ , ブルース・ジェイ・サバトスキ , デーヴィッド・エム・グロウチェウスキー , シエンイー・カオ
CPC分类号： C08F2/00 , C08F2/34 , G06F19/702 , C08F2400/02
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公开(公告)号：JP6235341B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2013543300
申请日：2011-12-07
发明人： ジャクバウスキー,ヴォイチエク , スパンズウィック,ジェームズ
CPC分类号： C08F4/04 , C08F2/001 , C08F2/38 , C08F220/18 , C08F4/00 , C08F4/40 , C08F4/50 , C08F2400/02 , C08F2438/01 , C08F2438/03
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公开(公告)号：JP6170839B2
公开(公告)日：2017-07-26
申请号：JP2013546356
申请日：2011-12-21
发明人： デシュパンデ,キショリ , ステファンソン,セレナ ケィ. , ディジット,ラヴィンドラ エス.
CPC分类号： C08F210/14 , C08F10/02 , G01N21/65 , C08F210/16 , C08F2400/02 , G01N2021/8416 , G01N2201/129
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公开(公告)号：JP2017082246A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2017023471
申请日：2017-02-10
申请人： ロディア オペレーションズRhodia Operations , Rhodia Operations , ロディア オペレーションズRhodia Operations , サントル ナスィオナル ド ラ ルシェルシュ スィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) , Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) , サントル ナスィオナル ド ラ ルシェルシュ スィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.)
CPC分类号： C08F271/00 , C08F2/38 , C08F293/005 , C08F2400/02
摘要： 【課題】非常に高い分子量、100000g/モルよりはるかに高い分子量、好ましくは少なくとも500000g/モルの分子量の親水性ポリマーを得ることが可能であり且つ、ポリマーの分子量の制御、転化に対して実質的に直線的な分子量の増大及び平均値周辺の狭い分子量分布を保証する方法を提供すること。【解決手段】本発明は、ポリマーを調製するための方法であって、次のもの:・エチレン性不飽和水溶性モノマー群(これらは同一であっても異なっていてもよい);・前記モノマーの重合に適したフリーラジカル源、典型的にはレドックス系;及び・ラジカル重合制御剤、好ましくはチオカルボニルチオ基−S(C=S)−を含むもの:を接触させる少なくとも1のゲル重合工程(E)を含み、工程(E)の反応媒体中のモノマーの濃度が、もしも重合を制御剤なしで実施していたら媒体中でゲル化を引き起こすのに充分高い濃度である、前記方法に関する。【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6023141B2
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：JP2014204078
申请日：2014-10-02
发明人： チェン,リンフェン
CPC分类号： B01J8/1872 , B01J8/1809 , C08F10/02 , C08F10/06 , C08F110/06 , B01J31/0201 , B01J31/0212 , B01J31/0272 , B01J31/128 , B01J31/143 , B01J31/2213 , B01J31/2226 , C08F210/06 , C08F2400/02
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公开(公告)号：JP5576281B2
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：JP2010522032
申请日：2008-08-21
发明人： チェン，リンフェン , キャンプベル，リチャード，イー． , エッグモンド，ジャン，ダブリュ． バン
CPC分类号： C08F10/02 , B01J8/1809 , B01J8/1872 , C08F10/06 , C08F110/06 , C08F210/06 , C08F2400/02 , C08F2/40 , C08F2/00 , C08F2/34 , C08F2500/18 , C08F2500/24 , C08F210/16 , C08F4/6465
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公开(公告)号：JP2014502645A
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：JP2013543300
申请日：2011-12-07
发明人： ジャクバウスキー，ヴォイチエク , スパンズウィック，ジェームズ
CPC分类号： C08F4/04 , C08F2/001 , C08F2/38 , C08F4/00 , C08F4/40 , C08F4/50 , C08F220/18 , C08F2400/02 , C08F2438/01 , C08F2438/03
摘要： 制御されたラジカル重合プロセスにおいて、改良された温度制御の手法が開示されている。 当該手法は、継続的あるいは断続的にラジカル剤またはラジカル前駆物質を複数の添加口の一つを介して反応媒質に供給することにより、ＡＴＲＰおよびＮＭＰの重合手法における安定ラジカルの濃度およびＲＡＦＴ重合プロセスにおけるラジカル濃度を制御することを目的としている。
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公开(公告)号：JP2011514251A
公开(公告)日：2011-05-06
申请号：JP2010548924
申请日：2009-02-27
CPC分类号： F27B15/18 , B01J8/003 , B01J8/0035 , B01J8/1872 , B01J2208/0061 , B01J2208/00725 , B01J2208/00761 , B01J2208/00769 , C08F10/00 , C08F2400/02 , C08F2/34
摘要： 流動床反応器からの製造物排出を制御し、反応器から固体ポリマー製造物を除去した際の流動ガスにおける未反応モノマーの損失を最小限に抑えるための方法および装置を開示する。 該方法および装置は、製造物タンクまたはそのベントラインにおける少なくとも１つの検出器ならびに検出器および製造物タンク充填バルブと連通する制御システムを利用して、あるアルゴリズムに従って反復プロセスにより製造物排出時間を調整することによって、製造物タンクにおける樹脂充填量を最大にするとともに、反応ガス容量の損失を最小限に抑える。
【選択図】図１-
公开(公告)号：JP2011503279A
公开(公告)日：2011-01-27
申请号：JP2010532581
申请日：2008-11-05
发明人： シロー，ダニエル
CPC分类号： C08F10/02 , C08F210/16 , C08F2400/02 , C08F2/00 , C08F2/14 , C08F210/14
摘要： 【課題】ループ反応装置中で、エチレンモノマーと、希釈剤と、触媒と、任意成分のコモノマーおよび水素との存在下で、重合温度を膨潤温度以下に維持してエチレンをスラリー重合する方法。
【解決手段】膨潤温度（Ts-final）をコモノマ濃度と最終製品のポリエチレンの数平均分子量（Ｍｎ）との関数として計算する。-
公开(公告)号：JP2011500943A
公开(公告)日：2011-01-06
申请号：JP2010531170
申请日：2008-10-22
发明人： マリン，ウラデイミル , ラザビ，アバ , ロペス，マルガリト
IPC分类号： C08F4/6592 , C08F4/02
CPC分类号： C08F10/00 , B01J21/12 , B01J37/26 , C08F4/65912 , C08F4/65927 , C08F10/06 , C08F110/06 , C08F210/06 , C08F2400/02 , Y10S526/943 , C08F4/65916 , C08F2/00 , C08F4/025 , C08F2500/20 , C08F2500/03 , C08F2500/12 , C08F210/14 , C08F2500/04 , C08F210/16
摘要： 本明細書では担持触媒系およびこれを生じさせる方法を記述する。 この方法は、一般に、無機担体材料を準備しそして前記無機担体材料を式ＡｌＦ
ｐ Ｘ
３−ｐ Ｂ
ｑ ［式中、ＸはＣｌ、ＢｒおよびＯＨ
− から選択され、ＢはＨ
２ Ｏであり、ｐは１から３より選択され、そしてｑは０から６より選択される］で表されるフッ化アルミニウムと接触させることでアルミニウム含浸担体を生じさせることを包含する。 この方法は、更に、前記アルミニウム含浸担体を式［Ｌ］
ｍ Ｍ［Ａ］
ｎ ［式中、Ｌはかさ高い配位子であり、Ａは脱離基であり、Ｍは遷移金属であり、そしてｍおよびｎは、配位子の総結合価が前記遷移金属の原子価に相当するような数である］で表される遷移金属化合物と接触させることで担持触媒系を生じさせることも包含する。
【選択図】 図１
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