公开(公告)号：JP5872746B1

公开(公告)日：2016-03-01

申请号：JP2015554917

申请日：2015-08-28

申请人： 住友電工ハードメタル株式会社

发明人： 金岡 秀明 ,  今村 晋也 ,  パサート アノンサック ,  出谷 隆典

IPC分类号： B23B51/00 ,  B23C5/20 ,  B23B27/14

CPC分类号： B23B27/148 ,  B23B2224/04 ,  B23B2224/28 ,  B23B2224/36 ,  B23B2228/04 ,  B23B2228/105 ,  B23C5/20 ,  B23C2224/04 ,  B23C2224/28 ,  B23C2224/36 ,  B23C2228/04 ,  B23C2228/10 ,  C23C16/029 ,  C23C16/403 ,  C23C16/45523

摘要： 表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備え、該被膜に関して、α−Al 2 O 3 層を含み、該α−Al 2 O 3 層は、α−Al 2 O 3 結晶粒と硫黄とを含み、かつ配向性指数TC(hkl)においてTC(006)が5を超え、該硫黄は、該α−Al 2 O 3 層の厚み方向において、該基材側から遠ざかる方向にその濃度が減少する濃度分布を有する。

摘要翻译： 表面被覆切削工具包括基材和形成在基材上的涂层，相对于所述涂料，包括所述α-AL2 O3层，所述α-AL2 O3层，α-AL2 O3谷物和硫 其中，并超出TC（006）为5的取向指数TC的（hkl），硫是在α-AL2 O3层的厚度方向上，密度分布从基板侧降低其在一个方向上远离浓度 一。

公开(公告)号：JP5647997B2

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：JP2011550914

申请日：2011-01-19

申请人： Jx日鉱日石金属株式会社 ,  Jx日鉱日石金属株式会社

发明人： 桃井　元 ,  元 桃井 ,  浩二 角田 ,  浩二 角田

IPC分类号： C30B29/40 ,  C23C16/30 ,  C30B25/18 ,  H01L31/10

CPC分类号： C30B29/40 ,  C23C16/029 ,  C23C16/301 ,  C30B25/18 ,  H01L21/02392 ,  H01L21/0243 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/02461 ,  H01L21/02463 ,  H01L21/02505 ,  H01L21/0251 ,  H01L21/02543 ,  H01L21/02546 ,  H01L21/02587 ,  H01L21/02609 ,  H01L21/0262

公开(公告)号：JP5519111B2

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：JP2008021297

申请日：2008-01-31

申请人： セコ ツールズ アクティエボラーグ

发明人： ルッピ サカリ

IPC分类号： B23B27/14 ,  C22C29/08 ,  C23C16/36

CPC分类号： C23C16/403 ,  B22F2005/001 ,  C22C29/08 ,  C22C2204/00 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/029 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45555 ,  C23C30/005 ,  Y10T428/12576 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/252 ,  Y10T428/265

公开(公告)号：JP2014056633A

公开(公告)日：2014-03-27

申请号：JP2012202233

申请日：2012-09-14

申请人： Fuji Electric Co Ltd ,  富士電機株式会社

发明人： SATO SHIGEMI ,  KUMAGAI AKIYASU ,  KATANO TOMONORI ,  TANIGUCHI KATSUMI ,  ONO HIROMI

IPC分类号： G11B5/84

CPC分类号： C23C16/56 ,  C23C16/02 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/029 ,  C23C16/26 ,  C23C16/36 ,  G11B5/72 ,  G11B5/82 ,  G11B5/8408

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for obtaining a protection layer having both excellent corrosion resistance and adhesiveness of a lubricant.SOLUTION: A method for manufacturing a magnetic recording medium including a magnetic layer, a protection layer lower layer, a protection layer upper layer and a lubricant layer which are formed on a base plate and configured so that a total film thickness of the protection layer lower layer and the protection layer upper layer is 2.5 nm or less includes a step (1) for forming the protection layer lower layer, a step (2) for applying oxygen plasma treatment to the protection layer lower layer, a step (3) for forming the protection layer upper layer, and a step (4) for applying nitrogen plasma treatment to the protection layer upper layer in the order. It is preferred that the protection layer lower layer and the protection layer upper layer are composed of a carbon-base material and it is further preferred that these layers are composed of diamond-like carbon. It is preferred that a contact angle of the protection layer lower layer with water in atmosphere is 25 degrees or less.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种获得具有优异的耐腐蚀性和润滑剂的粘合性的保护层的制造方法。解决方案：一种制造包括磁性层，保护层下层，保护层的磁记录介质的方法 上层和润滑剂层，其形成在基板上并且被构造成使得保护层下层和保护层上层的总膜厚度为2.5nm以下包括用于将保护层形成为下层的工序（1） 层，用于对保护层下层施加氧等离子体处理的工序（2），形成保护层上层的工序（3）和将氮等离子体处理施加到保护层上层的工序 命令。 优选的是，保护层下层和保护层上层由碳基材料构成，更优选这些层由类金刚石碳组成。 保护层下层与大气中的水的接触角优选为25度以下。

公开(公告)号：JP5108774B2

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：JP2008532536

申请日：2006-11-16

申请人： ベーレリト ゲーエムベーハー ウント コー. カーゲー.

发明人： ピトナック、ラインハルト ,  ガルシア、ジョゼ ,  ワイゼンバッヒャー、ロナルド ,  ロイツデアー、クラウス

IPC分类号： C23C16/36 ,  B23B27/14 ,  C04B41/87

CPC分类号： C23C16/36 ,  C23C16/029

公开(公告)号：JP5016067B2

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：JP2009554727

申请日：2008-03-20

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

发明人： イム、カン、サブ ,  エーデルシュタイン、ダニエル、シー ,  グエン、ヴゴック、トラン ,  グリル、アルフレッド ,  ゲイツ、ステファン、エム ,  デモズ、アレクサンドロス ,  モリス、スティーヴン、イー ,  レイター、スティーヴン ,  レスタイノ、ダリル、ディー

IPC分类号： H01L21/312 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/532

CPC分类号： C23C16/401 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/029 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/31695 ,  H01L21/7682 ,  H01L21/76832 ,  H01L21/76834 ,  H01L21/76835 ,  Y10T428/24851 ,  Y10T428/249961

摘要： Disclosed is a structure and method for forming a structure including a SiCOH layer having increased mechanical strength. The structure includes a substrate having a layer of dielectric or conductive material, a layer of oxide on the layer of dielectric or conductive material, the oxide layer having essentially no carbon, a graded transition layer on the oxide layer, the graded transition layer having essentially no carbon at the interface with the oxide layer and gradually increasing carbon towards a porous SiCOH layer, and a porous SiCOH (pSiCOH) layer on the graded transition layer, the porous pSiCOH layer having an homogeneous composition throughout the layer. The method includes a process wherein in the graded transition layer, there are no peaks in the carbon concentration and no dips in the oxygen concentration.

公开(公告)号：JP4420482B2

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：JP25194998

申请日：1998-08-20

申请人： ゲーエフエー メディカル アクチェンゲゼルシャフトGfE MEDICAL AG

发明人： ファン オステン カール‐ウヴェ ,  グエーテル フォルケル ,  ブレメ フランク

IPC分类号： A61L27/00 ,  C23C16/30 ,  B32B9/00 ,  C23C16/02 ,  C23C16/18 ,  C23C30/00

CPC分类号： C23C16/30 ,  C23C16/029 ,  C23C16/18 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31544 ,  Y10T428/31609 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31692 ,  Y10T428/31765 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31855

摘要： A composite material comprises a plastic substrate and a closed, ductile, metal-containing layer with a thickness of less than 2 mu m adhering firmly to the substrate. The layer comprises a compound of formula MaObCxNyBz (I), where: M = titanium, tantalum, niobium, zirconium or hafnium; a = 0.025-0.9; b = 0.025-0.7; x = 0.2-0.9; y = 0-0.7; z = 0-0.7; and a + b + x + y + z = 1. The value of a increases towards the surface of the layer from a value close to zero at the substrate surface, and at least 50% of the carbon atoms at the base of the layer are linked to other carbon atoms by C-C bonds. Also claimed is the production of the above material.

公开(公告)号：JP2008511179A

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：JP2007530040

申请日：2005-08-23

申请人： サン−ゴバン セラミックス アンド プラスティクス,インコーポレイティド

发明人： エー． シンプソン，マシュー ,  ナレンダー，イェシュワンス ,  アール． ヘングスト，リチャード

IPC分类号： H01L21/22 ,  C23C16/44 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/324 ,  H01L21/683

CPC分类号： C04B35/16 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5024 ,  C04B41/5027 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3227 ,  C04B2235/3427 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2235/9692 ,  C23C14/08 ,  C23C16/029 ,  C23C16/40 ,  C23C16/401 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4581 ,  H01J37/32477 ,  H01L21/673 ,  Y10T428/30 ,  C04B35/10 ,  C04B35/565 ,  C04B35/52 ,  C04B2103/0021

摘要： 半導体処理の構成材は基材および基材の上にある層を含む。 層は組成物ＲｅＡ
ｙ Ｏ
１．５＋２ｙ を有す、ここで、ＲｅはＹ、Ｌａ、ランタノイド族元素、またはそれらの組み合わせ、Ａは（Ｓｉ
１−ａ Ｇｅ
ａ ）、０．２５≦ｙ≦１．２且つ０≦ａ≦ｌである。

公开(公告)号：JP2005508728A

公开(公告)日：2005-04-07

申请号：JP2002591166

申请日：2002-03-28

申请人： カール − ツァイス − シュティフツング

发明人： ヴァルター、マーテン ,  ヴォルフ、デトレフ ,  キュッペル、トーマス ,  クール、マルクス ,  クリッペ、ルーツ ,  コッペ、フランク ,  ハインツ、ヨヒェン ,  バウアー、ステファン ,  ベヴィック、ラース ,  ベーレ、ステファン ,  マリング、ヴォルフラム ,  モーレ、クリストフ

IPC分类号： G02B1/11 ,  B05D3/10 ,  B05D7/00 ,  B05D7/02 ,  B05D7/24 ,  C23C16/02 ,  C23C16/30 ,  C23C16/515 ,  G02B1/10

CPC分类号： G02B1/10 ,  B05D1/62 ,  B05D7/02 ,  B05D7/52 ,  C23C16/029 ,  C23C16/515

摘要： 本発明は、コーティング物体を製造するためプラスチック基材のコーティング、そのような方法を実施するための装置、およびその使用に関する。

公开(公告)号：JP3588334B2

公开(公告)日：2004-11-10

申请号：JP2001111503

申请日：2001-04-10

申请人： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated

发明人： ケネス ホッチバーグ アーサー ,  アンソニー トーマス ノーマン ジョン ,  センザキ ヨシヒデ

IPC分类号： C23C16/34 ,  C23C16/02 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40 ,  C23C16/52 ,  H01L21/316 ,  H01L21/318 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/029