公开(公告)号：JP2018515685A

公开(公告)日：2018-06-14

申请号：JP2017545549

申请日：2016-03-21

申请人： エーエスエム インターナショナル エヌ. ヴェー. ,  ASM International N.V.

发明人： フランネマン,エルンスト ヘンドリック アウフスト ,  コーレン,ミヒール レオナルド マチュー ,  ファン フェルゼン,ヴィルヘルムス ヘラルドゥス

IPC分类号： C23C16/44 ,  C11D7/32 ,  C11D7/06 ,  H01L21/308 ,  C23C4/10 ,  C23C4/129 ,  C23G1/14 ,  C23C28/00

CPC分类号： C23C16/4404 ,  C23C16/4407

摘要： CVD、PECVD、ALD、PVDおよび蒸着の1つを使用して少なくとも1つの層を付与するために基材が処理される、成膜装置の成膜空間部材から成膜残渣を容易に除去するための方法。成膜空間壁にて囲まれた成膜空間を有する成膜装置において、少なくとも1回の成膜処理を行って、成膜空間内の基材上に1つの層を付与する。成膜空間壁には皮膜を設ける。成膜空間壁は、選択的ウェットエッチング処理にて洗浄する。成膜空間壁に影響を与えずに成膜残渣が除去されるように、成膜空間壁の皮膜の組成は、成膜処理の間に成膜空間壁上に付着する成膜残渣、および選択的ウェットエッチング処理の間に使用される液体エッチング剤の組成に適応している。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6050317B2

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：JP2014505216

申请日：2012-04-10

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

发明人： バンダ スマンス ,  サン ジェニファー ,  デュアン レン‐グァン ,  グレーブス トーマス ,  ボイド ウェンデル グレン ジュニア ,  ドュドレイ ランドルフ ウィリアム ジュニア ,  ドアン コイ ,  ルー ウィリアム ミン‐イェ

IPC分类号： C23C16/44 ,  H01L21/3065

CPC分类号： B24B37/042 ,  B08B1/04 ,  B24B27/033 ,  B24B37/107 ,  B24B37/245 ,  B24B37/26 ,  C23C16/4407 ,  Y10T137/85938 ,  Y10T156/11

公开(公告)号：JP5998176B2

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：JP2014114614

申请日：2014-06-03

申请人： クアンタム グローバル テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー

发明人： タン サマンサ エス エイチ ,  ワング ジアンキ

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： C23C16/4407 ,  C23C14/564

公开(公告)号：JP2016063226A

公开(公告)日：2016-04-25

申请号：JP2015178095

申请日：2015-09-10

申请人： ラム リサーチ コーポレーション ,  LAM RESEARCH CORPORATION

发明人： アーメン・アボヤン ,  ケネット・バイロン

IPC分类号： C23F1/16 ,  C23G1/00 ,  H01L21/31 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/67017 ,  B08B3/08 ,  C23C16/4407 ,  H01J37/32862 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02054

摘要： 【課題】プラズマ処理チャンバの構成部品を洗浄するシステムおよび方法を提供する。 【解決手段】プラズマ処理チャンバから構成部品を取り出すことを含み、取り出した構成部品は、構成部品の表面に堆積した物質を含む。構成部品に堆積した物質に加熱した酸化性溶液を当てて、堆積物質の第1の部分を酸化させる。構成部品に剥離液を当てて、堆積物質の酸化した第1の部分を除去する。エッチング液を当てて、堆積物質の第2の部分を除去し、洗浄した構成部品をすすいで乾燥させる。 【選択図】図3A

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种清洁等离子体处理室的部件的系统和方法。解决方案：该方法包括从等离子体处理室中去除部件，去除的部件包括沉积在部件表面上的材料。 将加热的氧化溶液施加到沉积在部件上的材料，以氧化沉积材料的第一部分。 将剥离溶液施加到组分以除去沉积材料的氧化的第一部分。 施加蚀刻溶液以去除沉积材料的第二部分，并且可以清洗和干燥清洁的部件。选择的图示：图3A

公开(公告)号：JP5657540B2

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：JP2011525121

申请日：2009-08-24

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated ,  アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated

发明人： ジョセフ エフ ソマーズ ,  ジョセフ エフ ソマーズ ,  キース エイ ミラー ,  キース エイ ミラー

IPC分类号： C23C14/00 ,  H01L21/205

CPC分类号： H01J37/32495 ,  C23C14/35 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4407 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32504 ,  H01J37/3408

公开(公告)号：JP2014194085A

公开(公告)日：2014-10-09

申请号：JP2014114614

申请日：2014-06-03

申请人： Quantam Global Technologies Llc ,  クアンタム グローバル テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー

发明人： TAN SAMANTHA S H ,  WANG JIANQI

IPC分类号： C23C14/00

CPC分类号： C23C16/4407 ,  C23C14/564

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for recovering ruthenium so as to be reused, by cleaning deposited ruthenium from a vapor deposition apparatus, in manufacture of an electronic device.SOLUTION: A method is provided for recovering a metal from electronic device deposition equipment including: providing 102 deposition equipment at least partially coated with a deposited metal; blasting 106 the deposition equipment with a grit to remove at least some of the deposited metal to form a blasted grit and a removed metal; and separating at least some of the removed metal from the blasted grit to dissolve the blasted grit recovering a metal.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种回收钌以便重新使用的方法，通过从蒸镀装置中清除沉积的钌，制造电子器件。提供一种从电子设备沉积设备中回收金属的方法 包括：提供至少部分涂覆有沉积金属的102个沉积设备; 用沉砂处理沉积设备106以除去至少一些沉积的金属以形成喷砂砂粒和去除的金属; 并将去除的金属中的至少一些与喷砂砂粒分离，以溶解回收金属的喷砂砂粒。

公开(公告)号：JP5218091B2

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：JP2009011808

申请日：2009-01-22

申请人： 三菱マテリアル株式会社

发明人： 俊秀 遠藤 ,  昌之 手計 ,  敏由記 石井 ,  昌晃 坂口

IPC分类号： C01B33/02 ,  F27D25/00 ,  B08B3/02 ,  C01B33/035

CPC分类号： B08B9/28 ,  B08B3/02 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B9/34 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4407

公开(公告)号：JP2013033866A

公开(公告)日：2013-02-14

申请号：JP2011169445

申请日：2011-08-02

申请人： Sharp Corp ,  シャープ株式会社

发明人： YOKOGAWA MASAHIRO

IPC分类号： H01L21/31 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C16/4407

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning method of a deposition apparatus that suppresses the occurrence of static electricity.SOLUTION: A cleaning method of a deposition apparatus comprises: a step of humidifying the periphery of the deposition apparatus (S40); a step of releasing the deposition apparatus to the air (S60); and a step of removing sediment inside the deposition apparatus (S70).

摘要翻译： 要解决的问题：提供抑制静电发生的沉积设备的清洁方法。 解决方案：沉积设备的清洁方法包括：加湿沉积设备的周边的步骤（S40）; 将沉积装置释放到空气的步骤（S60）; 以及除去沉积装置内的沉积物的步骤（S70）。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2013504694A

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：JP2012529843

申请日：2010-09-14

申请人： クアンタム グローバル テクノロジーズ リミテッド ライアビリティ カンパニー

发明人： ジョセフ エフ ソマーズ ,  ジャンシェン ワン ,  デヴィッド ドゥ ,  サチャナラヤナ アダマラ ,  ロナルド トラハン

IPC分类号： C23G3/00 ,  B08B3/12 ,  H01L21/3065

CPC分类号： B08B3/04 ,  C23C16/4407 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67724

摘要： 【解決手段】 本発明の実施形態は、一般的には、チャンバ構成部品の外部位置洗浄のための方法及び装置に関する。 一実施形態では、洗浄化学物質で構成部品を洗浄するためのシステムを提供する。 システムは、洗浄プロセス中洗浄すべき１つ又はそれ以上の構成部品を保持するための洗浄槽組立体を含むウェットベンチ装置と、洗浄プロセス中１つ又はそれ以上の洗浄化学物質を洗浄槽組立体に供給するための、洗浄槽組立体と着脱可能に連結された着脱可能な洗浄カートを含む。
【選択図】 図１

公开(公告)号：JP4757856B2

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：JP2007308337

申请日：2007-11-29

申请人： ティーイーエス シーオー エルティディ

发明人： ソンリョル キム

IPC分类号： H01L21/3065

CPC分类号： H01L21/02057 ,  C23C16/4407