公开(公告)号：JP5761521B2

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：JP2011543939

申请日：2011-05-26

申请人： 栗田工業株式会社

发明人： 内田 稔 ,  大津 徹

IPC分类号： H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC分类号： H01L21/31133 ,  C25B1/285 ,  C25B9/08 ,  H01L21/67017

公开(公告)号：JP5570627B2

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：JP2013038806

申请日：2013-02-28

申请人： エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH

发明人： レーマン トーマス ,  シュテナー パトリック

IPC分类号： C01B15/08 ,  C25B1/30 ,  C25B1/28 ,  C25B11/04 ,  C25B11/06 ,  C25B11/12

CPC分类号： C25B1/285

公开(公告)号：JP5358303B2

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：JP2009139821

申请日：2009-06-11

申请人： クロリンエンジニアズ株式会社 ,  株式会社東芝 ,  芝浦メカトロニクス株式会社

发明人： 宏紀 土門 ,  裕介 尾川 ,  昌明 加藤 ,  剛陸 岸 ,  直哉 速水 ,  真紀子 田家 ,  禎明 黒川 ,  信雄 小林

IPC分类号： H01L21/304 ,  C25B1/30 ,  C25B11/12 ,  H01L21/027

CPC分类号： C11D11/007 ,  C11D7/08 ,  C11D11/0047 ,  C25B1/285 ,  G03F7/423 ,  H01L21/31133

摘要： The cleaning method by electrolytic sulfuric acid and the manufacturing method of semiconductor device comprising: the process in which the first sulfuric acid solution is supplied from outside to the sulfuric acid electrolytic cell to form the first electrolytic sulfuric acid containing oxidizing agent in the sulfuric acid electrolytic cell; the process in which the second sulfuric acid solution, which is higher in concentration than said the first sulfuric acid solution previously supplied, is supplied from outside to said sulfuric acid electrolytic cell; said the second sulfuric acid solution and the first electrolytic sulfuric acid are mixed in said sulfuric acid electrolytic cell; and electrolysis is performed to form the cleaning solution comprising the second electrolytic sulfuric acid containing sulfuric acid and oxidation agent in said sulfuric acid electrolytic cell and the process in which cleaning treatment is performed for the cleaning object with said cleaning solution.

公开(公告)号：JP2012132066A

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：JP2010285100

申请日：2010-12-21

申请人： Chlorine Engineers Corp Ltd ,  クロリンエンジニアズ株式会社

发明人： KATO MASAAKI ,  DOMON HIROKI ,  KOSAKA JUNKO

IPC分类号： C25B11/06 ,  C25B1/28

CPC分类号： C25B11/0447 ,  C25B1/285 ,  C25B1/30

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive diamond electrode showing high durability of the electrode and a high oxidizable substance production efficiency at a low cell voltage by controlling the thickness of a conductive diamond layer and crystallinity of conductive diamond; and to provide a sulfuric acid electrolysis method and a sulfuric acid electrolysis apparatus, each of which uses the electrode.SOLUTION: The conductive diamond electrode includes a conductive substrate and a conductive diamond layer coated on the conductive substrate, wherein (1) the conductive diamond layer has a thickness of 1 to 25 μm, (2) a potential window satisfies formula (1): 2.1 V≤potential window≤3.5 V, and (3) the ratio (A/B) of a diamond component A to a non-diamond component B as determined by Raman spectroscopy satisfies formula (2): 1.5

摘要翻译： 要解决的问题：通过控制导电金刚石层的厚度和导电金刚石的结晶度，提供在低电池电压下显示高电极寿命的高导电金刚石电极和高可氧化物质的生产效率; 并提供硫酸电解方法和硫酸电解装置，其中每一种都使用电极。 导电金刚石电极包括导电基板和涂覆在导电基板上的导电金刚石层，其中（1）导电金刚石层具有1至25μm的厚度，（2）电位窗满足公式（ 1）：2.1V≤电势窗≤3.5V，（3）通过拉曼光谱测定的金刚石成分A与非金刚石成分B的比（A / B）满足式（2）：1.5 - 1 拉曼光谱。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4734416B2

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：JP2008533807

申请日：2008-01-11

申请人： クロリンエンジニアズ株式会社 ,  株式会社東芝 ,  芝浦メカトロニクス株式会社

发明人： 昌明 加藤 ,  信雄 小林 ,  幸弘 柴田 ,  直哉 速水

IPC分类号： C25B1/28 ,  H01L21/304

CPC分类号： C25B1/285 ,  H01L21/67051

公开(公告)号：JP2008514541A

公开(公告)日：2008-05-08

申请号：JP2007534683

申请日：2005-09-22

申请人： ユーオーピー エルエルシー

发明人： オロスカー，アニル，アール． ,  カルプラシパンジャ，サンティ ,  タウラ，ギャビン，ピィ． ,  ネイメット，ラースロウ，ティ． ,  ボッシュ，カート，エム． バンデン

IPC分类号： C01B15/03 ,  B01J20/26 ,  C01B15/013 ,  C25B1/30

CPC分类号： C01B15/03 ,  C25B1/28 ,  C25B1/285 ,  C25B1/30 ,  C25B15/08

摘要： 必要性に応じて過酸化水素を生成する装置が開示される。 この装置は、電気分解装置（10）、加水分解装置（20）、及び分離装置（30）によって構成される。 酸化剤を生成し、水と反応させることによって過酸化水素を生成する。
【選択図】 図２

公开(公告)号：JP5259899B2

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：JP2001119889

申请日：2001-04-18

申请人： エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH

发明人： レーマン トーマス ,  シュテナー パトリック

IPC分类号： C01B15/08 ,  C25B1/30 ,  C25B1/28 ,  C25B11/04 ,  C25B11/06

CPC分类号： C25B1/285

公开(公告)号：JP5105081B2

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：JP2008099888

申请日：2008-04-08

申请人： 栗田工業株式会社

发明人： 内田　　稔 ,  達夫 永井 ,  晴義 山川

IPC分类号： H01L21/304 ,  C25B1/30

CPC分类号： C25B1/285 ,  C25B15/08

公开(公告)号：JP4852037B2

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：JP2007513875

申请日：2005-06-03

申请人： デグサ イニシエータース ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトDegussa Initiators GmbH & Co. KG

发明人： ティーレ ヴォルフガング ,  クラーマー ハンス−ユルゲン ,  フェルスター ハンス−ユルゲン

IPC分类号： C25B1/30 ,  C01B15/00 ,  C25B1/00 ,  C25B1/28 ,  C25B9/06 ,  C25B9/20 ,  C25B11/04 ,  C25B11/10 ,  C25B11/12

CPC分类号： C25B11/0447 ,  C25B1/22 ,  C25B1/285 ,  C25B1/30 ,  C25B9/063 ,  C25B9/203 ,  C25B11/0405 ,  C25B11/0421

摘要： A process for preparing or regenerating peroxodisulfuric acid and its salts by electrolysis of an aqueous solution containing sulfuric acid and/or metal sulfates at diamond-coated electrodes without addition of promoters is described, with bipolar silicon electrodes which are coated with diamond on one side and whose uncoated silicon rear side serves as cathode being used.

公开(公告)号：JP2010031362A

公开(公告)日：2010-02-12

申请号：JP2009139822

申请日：2009-06-11

申请人： Chlorine Eng Corp Ltd ,  Shibaura Mechatronics Corp ,  Toshiba Corp ,  クロリンエンジニアズ株式会社 ,  株式会社東芝 ,  芝浦メカトロニクス株式会社

发明人： KATO MASAAKI ,  OGAWA YUSUKE ,  DOMON HIROKI ,  HAYAMIZU NAOYA ,  TAYA MAKIKO ,  KUROKAWA SADAAKI ,  KOBAYASHI NOBUO

IPC分类号： C25B15/08 ,  C25B1/28 ,  C25B11/06

CPC分类号： C25B1/285

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sulfuric acid electrolysis process for stably producing an oxidizing substance by directly electrolyzing concentrated sulfuric acid by using a conductive diamond anode.
SOLUTION: In the sulfuric acid electrolysis process, the temperature of an electrolyte containing sulfuric acid supplied to an anode compartment 4 and a cathode compartment 12 is controlled to be 30°C or higher; the flow rate F1 (L/min) of the electrolyte containing sulfuric acid supplied to the anode compartment 4 is controlled to be 1.5 times or more (F1/Fa≥1.5) of the flow rate Fa (L/min) of the gas formed on an anode side calculated from formula (1) of Fa=(I×S×R×T)/(4×Faraday constant), also the flow rate F2 (L/min) of the electrolyte containing sulfuric acid supplied to the cathode compartment 12 is controlled to be 1.5 times or more (F2/Fc≥1.5) of the flow rate Fc (L/min) of gas formed on the cathode side calculated from formula (2) of Fc= (I×S×R×T)/(2×Faraday constant).
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供通过使用导电金刚石阳极直接电解浓硫酸来稳定地生产氧化物质的硫酸电解方法。 解决方案：在硫酸电解方法中，将供给阳极室4和阴极室12的含有硫酸的电解质的温度控制在30℃以上; 供给阳极室4的含有硫酸的电解质的流量F1（L / min）被控制为形成的气体的流量Fa（L / min）的1.5倍以上（F1 /Fa≥1.5） 在Fa =（I×S×R×T）/（4×法拉第常数）的式（1）计算出的阳极侧，也提供给阴极的含有硫酸的电解质的流量F2（L / min） 根据式（2）计算的阴极侧气体的流量Fc（L / min）控制为室温12的1.5倍以上（F2 /Fc≥1.5）=（I×S×R× T）/（2×法拉第常数）。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT