高純度電気銅およびその電解精錬方法

    公开(公告)号:JP2017141514A

    公开(公告)日:2017-08-17

    申请号:JP2017051177

    申请日:2017-03-16

    IPC分类号: C22C9/00 C25C1/12

    CPC分类号: C25D3/38 C25C1/12

    摘要: 【課題】高純度電気銅とその電解精製方法を提供する。 【解決手段】PEGとPVAの混合物からなる添加剤を20ppm以上含有する硝酸銅溶液からなる電解液中において、PEGの分子量をZ、電解時の電流密度をX(A/dm 2 )とするとき、1000≦Z≦2000、かつ、1.2—(Z−1000)×0.0008≦X≦2.2−(Z−1000)×0.001を満足する条件で電解精製した高純度電気銅であって、金属不純物の含有量合計が1ppm以下、S含有量0.01ppm以下であり、高純度電気銅の表面側の結晶子サイズが400nm以下、裏面側の結晶子サイズが140nm以上、裏面側の(1,1,1)面の配向指数>(2,2,0)面の配向指数を満足する。 【選択図】図1

    銅粉の製造方法、及びそれを用いた導電性ペーストの製造方法

    公开(公告)号:JP2017066461A

    公开(公告)日:2017-04-06

    申请号:JP2015192149

    申请日:2015-09-29

    发明人: 山下 雄 岡田 浩

    摘要: 【課題】銅粉同士の接点を多くして優れた導電性を確保しつつ、導電性ペーストや電磁波シールド等の用途として好適に利用することができる銅粉の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る銅粉の製造方法は、電解法により電解液から陰極上に析出させて銅粉を製造する方法であって、その銅粉が、主幹とその主幹から分かれた複数の枝とを有する樹枝状の形状をなし、主幹及び枝は断面平均厚さが0.02μm〜5.0μmの平板状の銅粒子から構成され、平均粒子径(D50)が1.0μm〜100μmとなる製造方法である。電解法による製造方法において、その電解液には、銅イオンと、1mg/L〜10,000mg/Lの含有量で、特定のフェナジン構造を有する化合物、特定のアゾベンゼン構造を有する化合物、及び特定のフェナジン構造とアゾベンゼン構造とを有する化合物から選ばれる1種又は2種以上とを含有させる。 【選択図】図1

    精製銅の製造方法及び電線の製造方法
    4.
    发明专利
    精製銅の製造方法及び電線の製造方法 有权
    制造方法和纯化的铜电线的制造方法

    公开(公告)号:JP6066007B1

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:JP2016094587

    申请日:2016-05-10

    IPC分类号: H01B1/02 C22C9/00 C25C1/12

    摘要: 【課題】硫黄や塩素の濃度を適正な範囲に制御した精製銅及びその製造方法を実現することによって、高品質な銅線(導電率が高く軟化温度が低い銅線)を安定に生産すると同時に製造コストの低減を図ることができる電線の製造方法及び電線を提供する。 【解決手段】本発明の精製銅の製造方法は、電解めっき法又は無電解めっき法によって、“硫黄、塩素及び酸素のいずれの元素も含まず、溶液中における銅イオンの価数が+1となる銅化合物”の溶液を用いたアルカリ性のめっき浴内でカソードに精製銅を析出させる工程を有する。 【選択図】図1

    摘要翻译: 通过实现纯化铜A被控制在适当范围内的硫和氯及其制造方法的浓度,并在同一时间高质量铜(软化温度高的导电性低的铜),以产生稳定 提供一种制造方法,并且可以降低制造成本的导线的导线。 也不包括用于生产纯化的铜本发明涉及电解电镀法或无电镀法,“硫,无论是单质氯和氧的方法,铜离子在溶液中的化合价是1之间 在包括使用铜化合物”碱性镀浴溶液中沉淀纯化的铜阴极的工序。 点域1