-
公开(公告)号:JP2018128462A
公开(公告)日:2018-08-16
申请号:JP2018060555
申请日:2018-03-27
申请人: ケーエルエー−テンカー コーポレイション
发明人: チェン グレース エイチ , ブルナー ルドルフ , ガオ リーシェン , ダネン ロバート エム , チェン ルウ
IPC分类号: H01L21/66 , G01N21/956
CPC分类号: G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N21/95623 , G01N2021/8822 , G01N2021/95676 , G01N2201/061 , G01N2201/0638 , G01N2201/068 , G01N2201/12
摘要: 【課題】検査装置のための照明瞳開口を最適化する。 【解決手段】光学検査装置において、照明瞳領域にわたって、照明瞳領域の複数の各開口位置において照明開口を一度に1つ開く。開口の開口位置のそれぞれについて、照明ビームの対応する光線束が対応するセットの1つ以上の入射角で試料に向かって選択的に通過するように入射ビームを照明瞳領域に方向付け、対応するセットの1つ以上の入射角で試料に入射する入射ビームの対応する光線束に反応して試料から放射する出力ビームを検知する。各開口位置に関する欠陥検知特性を、各開口位置について検知された出力ビームに基づいて決定する。最適開口配置を、各開口位置について決定された欠陥検知特性に基づいて決定する。 【選択図】図10
-
公开(公告)号:JP2016038302A
公开(公告)日:2016-03-22
申请号:JP2014162012
申请日:2014-08-08
申请人: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号: H01L21/66 , G01N21/956
CPC分类号: G01N21/95623 , G01N2021/9513 , G01N21/9501 , G01N2201/0638
摘要: 【課題】光学式暗視野欠陥検査において、欠陥の種類、欠陥形状の方向性、又は背景パターンの方向性に依存しない、垂直照明を用いた検査を提供する。 【解決手段】欠陥検査において、光源101から発射されたレーザを線状に集光し、線状に集光したレーザをミラーで反射し、反射したレーザを対物レンズ102を介してテーブルに載置した試料に垂直方向から照射し、レーザを垂直方向から照射した試料からの反射散乱光を対物レンズ102で集光し、対物レンズ102で集光した試料からの反射散乱光のうち試料上に形成された周期的なパターンから発生する回折光とミラーから発生する散乱光とを空間フィルタで遮光し、空間フィルタで遮光されなかった試料からの反射散乱光を結像レンズ105に入射させて反射散乱光の像を形成し、形成した反射散乱光の像を検出器で検出し、検出器106で反射散乱光の像を検出して得た検出信号を処理して試料上の欠陥を検出する。 【選択図】図1
摘要翻译: 要解决的问题:使用不依赖于缺陷形状的缺陷形状的方向特性或背景图案的方向性的光学暗场缺陷检查中的垂直照明的检查。解决方案:在缺陷检查中 从光源101发射的激光线被线性收集,线性收集的激光被反射镜反射,反射的激光通过物镜102从垂直方向照射在安装在台上的样本上,反射散射 从垂直方向辐射激光的样品的光由物镜102收集,从形成在样品上的周期性图案产生的衍射光和来自反射散射光的反射镜产生的散射光 由物镜102收集的样本被空间滤光片遮蔽, 未被空间滤光器屏蔽的e样品进入图像形成透镜105以形成反射散射光的图像,由反射散射光形成的图像由检测器检测,并且获得的检测信号 通过检测器106检测反射散射光的图像进行处理,以便检测样本上的缺陷。图1:图1
-
公开(公告)号:JP5847304B2
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:JP2014515530
申请日:2013-04-01
申请人: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号: G01N21/956
CPC分类号: G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/95623 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G01N2201/12
-
公开(公告)号:JP2014041081A
公开(公告)日:2014-03-06
申请号:JP2012184034
申请日:2012-08-23
发明人: SUGIHARA SHINJI , OGAWA TSUTOMU , INOUE HIROSHI
IPC分类号: G01N21/956 , G01B11/30 , G06T1/00 , H01L21/027
CPC分类号: G01N21/95623 , G01N21/9501
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect detection method capable of detecting a defect in a minute pattern.SOLUTION: By radiating light from a light source constituting an optical system, an optical image of a specimen having a repeated pattern of a size equal to or smaller than the resolution of the optical system is obtained a plurality of times under different conditions of the optical system. Correction processing is performed on the plurality of optical images with the use of at least one of a noise filter and a convolution filter. On the basis of any one of the plurality of optical images, positions of the other optical images are shifted, a relation between a shift amount of the other optical images and a change of correlation of gradation values among the plurality of optical images is obtained, and alignment of the plurality of optical images is performed based on the shift amount when the correlation is highest.And then a defect in the specimen is detected with the use of the plurality of optical images after alignment. Defect detection is performed by plotting each pixel of the plurality of optical images in a gradation value space, and separating pixels with a defect from pixels without a defect.
摘要翻译: 要解决的问题:提供能够检测微小图案中的缺陷的缺陷检测方法。解决方案:通过从构成光学系统的光源照射光,具有尺寸等于 或小于光学系统的分辨率在光学系统的不同条件下多次获得。 利用噪声滤波器和卷积滤波器中的至少一个对多个光学图像执行校正处理。 基于多个光学图像中的任何一个,其他光学图像的位置被移位,获得其他光学图像的偏移量与多个光学图像之间的灰度值的相关性变化之间的关系, 并且基于相关性最高时的偏移量来执行多个光学图像的对准。然后通过使用对准后的多个光学图像来检测样本中的缺陷。 通过绘制灰度值空间中的多个光学图像的每个像素,并且将缺陷的像素与不存在缺陷的像素分开来执行缺陷检测。
-
公开(公告)号:JP5237874B2
公开(公告)日:2013-07-17
申请号:JP2009105913
申请日:2009-04-24
申请人: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号: G01N21/956
CPC分类号: G01N21/95623 , G01N21/95607 , G01N2021/8822 , G01N2201/062 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
-
公开(公告)号:JP5221858B2
公开(公告)日:2013-06-26
申请号:JP2006234600
申请日:2006-08-30
申请人: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号: G01N21/956 , G01B11/30 , H01L21/66
CPC分类号: G01N21/9501 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N21/95623 , G06K9/2036 , G06K2209/19 , G06T7/0006 , G06T2207/30148
-
公开(公告)号:JP5216752B2
公开(公告)日:2013-06-19
申请号:JP2009262445
申请日:2009-11-18
申请人: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号: G01N21/956
CPC分类号: G01N21/8806 , G01N21/21 , G01N21/47 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N21/95623 , G01N2021/8822 , G01N2021/8848 , G01N2201/06113 , G01N2201/063
摘要: The disclosed device, which, using an electron microscope or the like, minutely observes defects detected by an optical appearance-inspecting device or an optical defect-inspecting device, can reliably insert a defect to be observed into the field of an electron microscope or the like, and can be a device of a smaller scale. The electron microscope, which observes defects detected by an optical appearance-inspecting device or by an optical defect-inspecting device, has a configuration wherein an optical microscope that re-detects defects is incorporated, and a spatial filter and a distribution polarization element are inserted at the pupil plane when making dark-field observations using this optical microscope. The electron microscope, which observes defects detected by an optical appearance-inspecting device or an optical defect-inspecting device, has a configuration wherein an optical microscope that re-detects defects is incorporated, and a distribution filter is inserted at the pupil plane when making dark-field observations using this optical microscope.
-
公开(公告)号:JP2013518261A
公开(公告)日:2013-05-20
申请号:JP2012550335
申请日:2010-11-12
发明人: セラルドセン,ロバート , ボエフ,アリー デン , カテイ,エリック , シャマレフ,イェヴゲニー , ジェーコブス,リチャード
IPC分类号: G01N21/956 , G02B5/32 , G03F1/84
CPC分类号: G03H1/00 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N21/95623 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , G03H1/02 , G03H1/041 , G03H1/0443 , G03H1/08 , G03H2001/0204 , G03H2222/15 , G03H2222/43 , G03H2222/45 , G03H2223/12 , G03H2223/26 , G03H2223/53
摘要: Disclosed are apparatuses, methods, and lithographic systems for holographic mask inspection. A holographic mask inspection system (300, 600, 700) includes an illumination source (330), a spatial filter (350), and an image sensor (380). The illumination source being configured to illuminate a radiation beam (331) onto a target portion of a mask (310). The spatial filter (350) being arranged in a Fourier transform pupil plane of an optical system (390, 610, 710), where the spatial filter receives at least a portion of a reflected radiation beam (311) from the target portion of the mask. The optical system being arranged to combine (360, 660, 740) the portion of the reflected radiation beam (311) with a reference radiation beam (361, 331) to generate a combined radiation beam. Further, the image sensor (380) being configured to capture holographic image of the combined radiation beam. The image may contain one or more mask defects.
-
公开(公告)号:JP5171524B2
公开(公告)日:2013-03-27
申请号:JP2008256945
申请日:2008-10-02
申请人: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号: G01N21/956 , H01L21/66
CPC分类号: H01L21/02334 , B08B6/00 , G01B11/0625 , G01B11/303 , G01N3/04 , G01N21/15 , G01N21/94 , G01N21/9501 , G01N21/95623 , G01N2021/9563 , H01L21/02057 , H01L21/02082
-
公开(公告)号:JP2012117814A
公开(公告)日:2012-06-21
申请号:JP2010264802
申请日:2010-11-29
IPC分类号: G01N21/88 , G01N21/956
CPC分类号: G01N21/95623 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8477
摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect inspection device and a defect inspection method that prevents defect signals from dropping so as not to overlook defects.SOLUTION: In a defect inspection method and a defect inspection device using the method, an object to be inspected on whose surface a pattern is formed is irradiated with light. Reflection light, diffraction light, and scattered light emitted from the object to be inspected that has been irradiated with light are condensed, and then the condensed light passes through a first spatial filter having a first light-shielding pattern. A first detector receives a first optical image made of the light having passed the first spatial filter so that a first image is obtained. The reflection light, diffraction light, and scattered light emitted from the object to be inspected that has been irradiated with light are condensed, and then the condensed light passes through a second spatial filter having a second light-shielding pattern. A second detector receives a second optical image made of the light having passed the second spatial filter so that a second image is obtained. The obtained first image and second image are integrally processed so that a defect candidate can be determined.
摘要翻译: 要解决的问题:提供一种防止缺陷信号掉落以避免忽视缺陷的缺陷检查装置和缺陷检查方法。 解决方案:在使用该方法的缺陷检查方法和缺陷检查装置中,对其表面形成图案的被检查物体进行照射。 从被照射的被检查物体射出的反射光,衍射光和散射光被冷凝,然后会聚的光通过具有第一遮光图案的第一空间滤光器。 第一检测器接收由已经通过第一空间滤波器的光构成的第一光学图像,从而获得第一图像。 从被照射的被检查物体发出的反射光,衍射光和散射光被冷凝,然后聚集的光通过具有第二遮光图案的第二空间滤光器。 第二检测器接收由已经通过第二空间滤波器的光构成的第二光学图像,从而获得第二图像。 所获得的第一图像和第二图像被整体处理,使得可以确定缺陷候选。 版权所有(C)2012,JPO&INPIT
-
-
-
-
-
-
-
-
-