KR102226734B1 - Illumination optical unit for euv projection lithography

    公开(公告)号:KR102226734B1

    公开(公告)日:2021-03-12

    申请号:KR1020157011707A

    申请日:2013-10-28

    Inventor: 토마스 피셔

    Abstract: EUV 투영 리소그래피용 조명 광학 유닛은 제 1 패싯 미러 및 제 2 패싯 미러를 갖고, 각각은 지지부 상의 복수의 반사 패싯을 갖는다. 제 2 패싯 미러의 패싯은 여러 경사 위치 사이에서 스위칭될 수 있다. 각각의 경사 위치에서, 경사가능한 제 1 패싯은 이러한 제 2 패싯(11)의 방향으로 EUV 방사선을 편향하기 위한 제 2 패싯 미러(11)의 제 2 패싯(11)에 할당된다. 제 1 패싯(7)의 각각은 그 경사 위치에 의해 제 2 패싯(11)의 설정(AAA, aaa...)에 할당된다. 2개의 패싯 미러는, 제 1 패싯(7)에 의해 충돌되는 제 2 패싯(11)의 배열 분포가 조명 필드의 조명의 조명각 분포를 야기하는 방식으로 배열된다. 제 2 패싯(11)의 세트(YYYY)의 각각에 속하는 제 2 패싯(11)은 제 2 패싯 미러(10) 상의 원형(28)에 놓이고, 상기 원형의 직경은 제 2 패싯 미러(10) 상의 모든 제 2 패싯(11)의 전체 배열의 전체 직경(GD)의 70% 미만이다. 이것은 조명 광학 유닛을 야기하고, 여기서, 다수의 규정된 조명 세팅 사이의 변화는 적은 비용으로 가능하다.

    照明光学装置、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法

    公开(公告)号:JP2018112755A

    公开(公告)日:2018-07-19

    申请号:JP2018070576

    申请日:2018-04-02

    Inventor: 谷津 修

    CPC classification number: G02B26/0833 G03F7/70116 G03F7/70191

    Abstract: 【課題】 照明光学系に用いられて瞳強度分布の強度レベルに関する自由度を向上させることのできる空間光変調ユニット。 【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニットは、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、光源から入射した光に空間的な光変調を付与して、複数の光学要素の要素毎にその位置に応じた強度レベルの光束を入射させる空間光変調素子と、複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する情報に基づいて複数の光学要素を個別に制御する制御部とを備えている。 【選択図】 図2

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