パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池
    4.
    发明专利
    パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池 有权
    图形电极的形成方法,结构,生产方法和二次电池

    公开(公告)号:JP2014199276A

    公开(公告)日:2014-10-23

    申请号:JP2013073803

    申请日:2013-03-29

    Abstract: 【課題】短時間で、同一又は異なるパターン材料からなる複数個のパターンを支持体上に形成可能なパターン形成方法、この方法で形成されるパターンを備える構造体、上記方法を用いた櫛型電極の製造方法、及びこの方法で製造された櫛型電極を有する二次電池を提供する。【解決手段】本発明に係るパターン形成方法は、n個(n≧2)のパターンを支持体上に形成するものであり、支持体表面に1番目のレジスト層を形成させ、k番目(k=1〜(n−1))のパターン材料及びレジスト層につき、k=1〜(n−1)の順に、露光・現像によるk番目のレジスト層を貫通するガイド孔の形成、スクリーン印刷法によるガイド孔へのk番目のパターン材料の充填、k番目のレジスト層の除去、支持体及び全パターン材料上への(k+1)番目のレジスト層の形成を繰り返し、ガイド孔の形成及びn番目のパターン材料の充填を同様に行い、n番目のレジスト層を除去することを含む。【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种图案形成方法,通过该图案形成方法可以在短时间内在支撑体上形成由相同图案材料或不同图案材料制成的多个图案,并且提供具有由 方法,使用上述图案形成方法制造叉指电极的方法和具有通过该方法制造的叉指电极的二次电池。解决方案:图案形成方法旨在在支撑体上形成n(n≥2)个图案 并且包括以下步骤:在支撑体表面上形成第一抗蚀剂层; 并且在从1到(n-1)的k中顺序地使第k-th(其中k是1到(n-1))图案材料和抗蚀剂层重复形成穿过k- 通过曝光和显影来形成第k抗蚀剂层,通过丝网印刷方法用第k图案材料填充引导孔,去除第k抗蚀剂层,以及在支撑体上形成第(k + 1)抗蚀剂层,以及 整个图案材料; 以与上述相同的方式形成导孔并用第n图案材料填充孔; 并除去第n抗蚀剂层。

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