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    プラズマに基づく化学源装置およびその使用方法
    4.
    发明专利
    プラズマに基づく化学源装置およびその使用方法 审中-公开
    基于等离子体的化学源装置及其使用方法

    公开(公告)号：JP2015134167A

    公开(公告)日：2015-07-27

    申请号：JP2015009663

    申请日：2015-01-21

    申请人： コロラド ステート ユニバーシティ リサーチ ファンデーション

    发明人： クー,イル‐ギョ ,  ムーア,キャメロン,エー. ,  コリンズ,ジョージ,ジェイ.

    IPC分类号： H05H1/24 ,  A61N1/44 ,  A61B18/12

    CPC分类号： H05H1/24 ,  A61B18/042 ,  H01J37/32348 ,  H01J37/3255 ,  H05H1/2406 ,  C23C16/513 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/2418 ,  H05H2001/2431 ,  H05H2001/2443 ,  H05H2001/245

    摘要： 【課題】電源、イオン化媒体源、および前駆体源に連結されたプラズマ装置を含むプラズマシステムを提供する。 【解決手段】操作の間、イオン化媒体源16はイオン化媒体を提供し、前駆体18のイオン化媒体源は、1つ以上の化学種、特定波長の光子を提供するとともに、相乗効果と一致して作用させることにより、選択的に組織被処理対象の表面を処置するさまざまな反応性官能基および/または要素も含有する。化学種およびイオン化ガスは、プラズマ装置12の点火点の上流または中流のどちらかで混合され、混合されると、電源14からの電気エネルギーの適用下においてその中で点火される。結果として、プラズマ放出物および光子源が形成され、点火されたプラズマ原料および反応性種の混合物が、所定の反応を実行するように被処理対象の表面に搬送される。 【選択図】図1

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种等离子体系统，其包括耦合到电源，可电离介质源和前体源的等离子体装置。解决方案：在操作期间，可电离介质源16提供可离子化介质，并且可离子化介质源用于 前体18提供一种或多种化学物质和特定波长的光子，以及包含各种反应性官能团和/或组分，以通过与协同效应协同工作来选择性地处理组织工件表面。 化学物质和可电离气体在等离子体装置12的点火点的上游或中游混合，并且一旦混合，在来自电源14的电能的施加下被点燃。结果，等离子体流出物和光子 形成源，其将点燃的等离子体原料和反应物质的混合物携带到工件表面，以进行预定的反应。

    Operation method of plasma irradiation treatment device
    5.
    发明专利
    Operation method of plasma irradiation treatment device 有权
    等离子体辐照处理装置的操作方法

    公开(公告)号：JP2014179329A

    公开(公告)日：2014-09-25

    申请号：JP2014086028

    申请日：2014-04-18

    申请人： National Institute Of Advanced Industrial & Technology ,  独立行政法人産業技術総合研究所

    发明人： SAKAKIDA SO ,  IKEHARA YUZURU ,  KIYAMA MANABU

    IPC分类号： H05H1/24 ,  A61B18/00

    CPC分类号： H05H1/24 ,  A61B18/042 ,  A61B2018/00589 ,  A61B2018/00982 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/245

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an operation method of a plasma irradiation treatment device capable of easily and surely initiating plasma generation without the risk of discharging an object to be irradiated, and in which a mild plasma jetting state is stably maintained without being varied.SOLUTION: A plasma irradiation treatment device comprises: a plasma initiation/stabilization part AA' surface on which an insulator such as a dielectric including a slot communicating to a plasma jetting part, a trigger and stabilization electrode and an intense electric field electrode are mounted; and a plasma generation part BB' surface on which the insulator and a plasma generation electrode for mainly generating plasma during operation are mounted. All the electrodes are covered by the dielectric without being exposed to an overall space in the slot. The operation method of the plasma irradiation treatment device includes the steps of: by the trigger and stabilization electrode and the intense electric field electrode, initiating plasma with gas supplied from an upstream side into the slot; and, by the trigger and stabilization electrode and the plasma generation electrode, stably and continuously generating the started plasma.

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种等离子体照射处理装置的操作方法，其能够容易且可靠地启动等离子体产生，而不会放射待照射物体的风险，并且其中温和的等离子体喷射状态被稳定地保持而不变化。 解决方案：等离子体照射处理装置包括：等离子体起始/稳定部分AA'表面，其上安装绝缘体，例如包括与等离子体喷射部分连通的狭缝的电介质，触发器和稳定电极以及强电场电极; 和等离子体产生部分BB'表面，其上安装有用于在操作期间主要产生等离子体的绝缘体和等离子体产生电极。 所有的电极被电介质覆盖，而不会暴露在槽中的整个空间中。 等离子体照射处理装置的操作方法包括以下步骤：通过触发稳定电极和强电场电极，将从上游侧供给的气体引入槽内; 并且通过触发稳定电极和等离子体产生电极稳定且连续地产生开始的等离子体。

    Atmospheric pressure plasma jet
    7.
    发明专利
    Atmospheric pressure plasma jet 有权

    公开(公告)号：JP2008529243A

    公开(公告)日：2008-07-31

    申请号：JP2007553419

    申请日：2006-02-06

    申请人： ヴラームス インステリング ヴール テクノロギシュ オンデルゾーク エヌ.ヴイ. (ヴイアイティーオー)

    发明人： ヤン ヨゼフ クールズ， ,  ダニー ハヴェルマンズ， ,  ロビー ヨゼフ マーティン レゴ，

    IPC分类号： H05H1/24 ,  C08J7/00

    CPC分类号： H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2001/245

    摘要： 本発明は物品のプラズマ処理を実施するためのプラズマジェット装置に関し、（ａ）細長い中心電極（２，１５）、（ｂ）前記中心電極を取り囲みかつ前記中心電極と共軸である細長い円筒状外部電極（１）または二つの外部電極（１５，１６）、または中心電極に実質的に平行な二つの電極、（ｃ）前記外部電極（単数または複数）と前記中心電極の間に配置された電気絶縁体（３）または絶縁体（１８，１９）、ここで遠位端と近位端を持つ放電内腔が前記中心電極と前記電気絶縁体（単数または複数）の間に規定される、（ｄ）前記放電内腔の前記遠位端に配置されたプラズマ生成ガスを前記放電内腔に供給するための供給開口（６）、（ｅ）前記中心電極と前記外部電極の間に電圧を与えるための電源（９）、を含み、前記電気絶縁体が前記近位端で前記外部電極（単数または複数）の外表面を越えて半径方向または外向き延長部（４０，２０）を持つことを特徴とする。
    【選択図】 図２

    CVD装置、及び、CVD膜の製造方法
    10.
    发明专利
    CVD装置、及び、CVD膜の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017112366A

    公开(公告)日：2017-06-22

    申请号：JP2016235463

    申请日：2016-12-02

    申请人： 株式会社和廣武

    发明人： 楠原 昌樹

    IPC分类号： C23C16/42 ,  C23C16/503 ,  H01L31/18 ,  H05H1/30 ,  H01L21/31

    CPC分类号： H01J37/3255 ,  C23C16/345 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45574 ,  C23C16/45595 ,  C23C16/50 ,  H01L31/02168 ,  H05H1/2406 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02274 ,  H05H2001/2418 ,  H05H2001/2431 ,  H05H2001/245 ,  H05H2001/2456

    摘要： 【課題】低コストで太陽電池を製造できる、大気圧下で窒化膜の成膜が可能なCVD装置を提供する。 【解決手段】流路板201、202を所定枚数積み重ねて構成され、流路板のガス出口側端面に、中空部を有するセラミック部材203、204の中空部内に電極線205、206が非接触状態で配置されてなる放電電極が設けられる、プラズマヘッド単位部材を有する。セラミック部材を介して電界又は磁界を印加しプラズマを発生させるプラズマヘッド単位部材を複数並列に並べたプラズマヘッドにより、誘電体バリア放電による大気圧プラズマCVDで窒化膜を形成する。誘電体バリア放電により大気圧でも安定したグロー放電プラズマを形成することができ、隣接するプラズマ吹出し口から異なるガスのプラズマを発生、反応させることにより、大気圧での窒化膜形成が可能になり、低コストの太陽電池製造が実現可能になった。 【選択図】図1