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公开(公告)号：JP2020100887A
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018241260
申请日：2018-12-25
Applicant: 株式会社ダイヘン
Inventor： 玉城 怜士
Abstract: 【課題】溶融させるワイヤの微細化の程度を容易に調節することができる溶射ガンの提供。 【解決手段】ガン本体21と、ガン本体の先端に設けられたノズル24と、ノズルの内部空間に配置され、一対のワイヤWをガイドしつつ挿通させるための貫通孔を含む一対の給電チップ22と、ガン本体側から内部空間に向けて圧縮ガスを供給するためのガス供給路25と、を備え、ノズルは、その中心軸線CLに沿って基端側から先端側に向かう方向である第1方向xを向くガス噴出孔242を先端部に有し、一対の給電チップは、互いの貫通孔の軸線が第1方向xに向かうほど近接し、かつノズルの先端部よりも第1方向xに離間する位置で交わる交点Oxを有するように配置されている溶射ガンにおいて、内部空間には、一対の給電チップの間において、ノズルの中心軸線CLに沿う移動行程に沿って移動可能であり、かつ移動行程における位置を調節可能な障害物26が設けられている。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2020070458A
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：JP2018203266
申请日：2018-10-29
Applicant: 東京エレクトロン株式会社 , CKD株式会社
Abstract: 【課題】水分、窒素、及び酸素と反応させずにフィーダの容器に粉末を補給できる技術を提供する。 【解決手段】本開示の一態様による粉末供給装置は、フィーダからノズルに粉末を供給する粉末供給装置であって、粉末を出し入れする口部と、前記口部を開閉する開閉弁とを有し、気密状態で前記粉末を収納するカートリッジと、前記カートリッジを着脱可能に接続する接続部と、前記接続部に接続された前記カートリッジ内の前記粉末を前記フィーダ内に補給する補給口と、前記補給口を開閉する開閉弁とを有し、前記補給口から補給された前記粉末を前記ノズルに投入するフィーダと、を備え、前記カートリッジ及び前記フィーダは、前記接続部に前記カートリッジが接続されることにより、前記口部と前記補給口との間に密閉空間を形成する。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JP6501863B2
公开(公告)日：2019-04-17
申请号：JP2017505171
申请日：2015-06-22
Inventor： アンドレアス エーベンベック , ガーハルト アウフシュラガー , マルク ケスティング , ラルフ フェリンガー
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公开(公告)号：JP2018202361A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2017113771
申请日：2017-06-08
Applicant: 東京エレクトロン株式会社
Inventor： 小林 義之
Abstract: 【課題】複数の溶射銃の間隔を狭く配置することが可能なプラズマ溶射ヘッドを提供すること。 【解決手段】一実施形態のプラズマ溶射ヘッドは、溶射材料の粉末をプラズマにより溶融し、溶融した粉末により被対象物に成膜するプラズマ溶射ヘッドであって、前記溶射材料の粉末をプラズマ生成ガスにより運び、先端部の開口から噴射するノズルと、前記ノズルが噴射する前記プラズマ生成ガスを直流電源が出力する電力により分解して前記ノズルと軸芯が共通するプラズマを生成するプラズマ生成部と、を含む溶射銃と、複数の前記溶射銃を一体支持し、内部に冷媒が通流する冷媒流路を含む本体部と、を有する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018104732A
公开(公告)日：2018-07-05
申请号：JP2016249363
申请日：2016-12-22
Applicant: 株式会社ダイヘン
Abstract: 【課題】溶射被膜の品質低下を抑制するのに適した溶射システムを提供すること。 【解決手段】上部開口75および下部開口74を有して上下方向X1−X2に延びる筒状の被溶射体7、の内側面73に溶射を行うための溶射システムA1であって、溶射物を噴射する噴射部44を有し、被溶射体7に内挿され、且つ上下方向X1−X2に沿って移動可能な溶射ガン40と、被溶射体7の上部開口75に通じ、且つ外部空間から区画された上部通路61、および被溶射体7の下部開口74に通じ、且つ外部空間から区画された下部通路62、を有し、上部通路61の気体および下部通路62の気体を吸引する吸引機構5と、上部通路61における吸引力を調整する開閉弁64(吸引力調整機構)と、を備える。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018508644A
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2017530220
申请日：2015-07-17
Applicant: プログレッシヴ・サーフェス・インコーポレイテッド , PROGRESSIVE SURFACE, INC.
Inventor： ヴァネヴェリー、ケント
Abstract: 溶射システム及び方法は、スポットとして基板表面に突出するガス柱の形態で基板に向かって加熱ガスを加速させるノズルを備えた高温ガス発生器を含む。ガス柱に向けられたノズル出口に近接する1つ又は複数の供給原料注入装置は、供給原料源に接続される。高温ガス流は、熱及び運動量を供給原料に伝え、供給原料粒子を基板に衝突させてコーティングを形成する。このシステムは、軸に向けられて液体の源に接続されるノズル出口に近接する1つ又は複数の液体注入装置をさらに含む。このシステムは、液体が注入されるフロー及び速度を制御し、ガス柱内への液体の進入の深さの制御を可能にする。この方法は、準最適な供給原料粒子が基板に付着するのを選択的に防ぐと共に、準最適な堆積物を現場で除去することを可能にする。
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公开(公告)号：JP2017218619A
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：JP2016112707
申请日：2016-06-06
Applicant: 株式会社ダイヘン
Abstract: 【課題】溶射ヒューム等の付着を防止するのに適した溶射ガンを提供する。 【解決手段】本発明の溶射ガン200は、筒状のケース体210と、ケース体210の先端側に設けられた一対の給電チップ230と、ケース体210の内部に設けられたガス流路250と、ケース体210の先端側に設けられ、ガスを噴出するノズル216と、を備え、ノズル216は、ケース体210の軸方向でケース体210の先端側である方向xを向く吐出口216aと、方向xと交差する方向yを向く吐出口216bと、方向x,yのいずれにも直角である方向に見て方向yよりも方向x側に傾く方向を向き、吐出口216a,216bよりもケース体210の基端側に位置する吐出口216cと、を含む。吐出口216cは、ケース体210の軸方向に見て、当該吐出口216cの指向方向が前方に向かうにつれて収束するように方向付けられている。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6227809B2
公开(公告)日：2017-11-08
申请号：JP2016576081
申请日：2015-05-22
Applicant: エレメント、シックス、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング , ELEMENT SIX GMBH
Inventor： アンドレアス、クレン
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公开(公告)号：JP2017519111A
公开(公告)日：2017-07-13
申请号：JP2016576080
申请日：2015-05-22
Applicant: エレメント、シックス、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングElement Six Gmbh , エレメント、シックス、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングElement Six Gmbh
Inventor： アンドレアス、クレン
Abstract: 前駆材料を、基材本体に結合される積層された材料の層に変形させるための溶射アセンブリが提供される。プラズマトーチは、プラズマノズルからプラズマジェットを作製する。供給機構は、前駆材料を使用中のプラズマジェットに誘導し、開条件の時に供給オリフィスを供給する。供給機構は、誘導チャンバーおよび移動可能な誘導機構を含んでなり、誘導チャンバーは前駆材料を供給オリフィスに誘導可能であり、前駆材料は、当該供給オリフィスを通って誘導チャンバーから移動し、誘導機構の移動に対応してプラズマノズルから可変平均距離にあるプラズマジェットに入り得る。
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公开(公告)号：JP6055169B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2011124717
申请日：2011-06-03
Applicant: ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Inventor： ユック−チュー・ラウ , ジョセフ・アルバニーズ
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