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公开(公告)号:JP2020083797A
公开(公告)日:2020-06-04
申请号:JP2018217864
申请日:2018-11-21
Applicant: 株式会社トクヤマ
Inventor: 関 雅彦
IPC: C07C229/56 , C07C211/52 , C07C253/30 , C07C255/58 , C07C229/60 , C07C227/16 , C07C209/74
Abstract: 【課題】高効率で経済的に有利なハロゲン化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】銅触媒、および過硫酸塩の存在下、下記式(1) (R 1 はエステル基、カルボニル基、ニトリル基、ニトロ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、aは0〜4の整数)で示されるアニリン誘導体と、ハロゲン化剤とを反応させて、下記式(2) (Xはハロゲン原子、bは1〜5の整数)で示されるハロゲン化合物を製造する方法。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2019218336A
公开(公告)日:2019-12-26
申请号:JP2019102009
申请日:2019-05-31
Inventor: 橘 誠一郎 , 渡辺 武 , 新井田 恵介 , 長井 洋子 , 澤村 昂志 , 荻原 勤 , アレクサンダー エドワード ヘス , グレゴリー ブレイタ , ダニエル ポール サンダース , ルディ ジェイ ウォジテッキ
IPC: C07C2/00 , C07C43/20 , C07C41/24 , C07C43/263 , C07C211/54 , C07C209/74 , C08F38/00 , C07C15/60
Abstract: 【課題】空気中のみならず、不活性ガス中での成膜条件でも硬化し、副生物が発生せず、耐熱性や、基板上に形成されたパターンの埋め込みや平坦化特性に優れるだけでなく、基板加工時のドライエッチング耐性も良好な有機下層膜を形成できる化合物、該化合物の製造方法、及び該化合物を用いた有機膜形成用組成物を提供する。 【解決手段】下記式(A2)などで示される化合物。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP6097295B2
公开(公告)日:2017-03-15
申请号:JP2014527229
申请日:2012-08-20
Inventor: グローブス ジョン ティー. , リュウ ウェイ , フアン シォンイー
IPC: C07B59/00 , C07C17/10 , C07C22/02 , C07C22/04 , C07C22/08 , C07C23/10 , C07C23/14 , C07C23/16 , C07C23/28 , C07C23/36 , C07C23/38 , C07C29/62 , C07C35/48 , C07C41/22 , C07C43/225 , C07C45/63 , C07C49/457 , C07C49/483 , C07C67/287 , C07C67/307 , C07C69/63 , C07C69/65 , C07C69/75 , C07C69/78 , C07C209/74 , C07C211/38 , C07C213/08 , C07C217/74 , C07C227/16 , C07C229/28 , C07C231/12 , C07C233/13 , C07C233/14 , C07C233/47 , C07C233/48 , C07C315/04 , C07C317/14 , C07D209/42 , C07D307/92 , C07D311/96 , C07J1/00 , C07J11/00 , C07B39/00
CPC classification number: C07C67/307 , C07B39/00 , C07C17/06 , C07C17/35 , C07C19/01 , C07C22/00 , C07C22/04 , C07C22/08 , C07C231/12 , C07C233/14 , C07C69/608 , C07D307/83 , C07D401/14 , C07F13/00 , C07F5/025 , C07J1/0011 , Y02P20/582
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公开(公告)号:JP2017502007A
公开(公告)日:2017-01-19
申请号:JP2016539144
申请日:2014-11-18
Applicant: メルク パテント ゲーエムベーハー , メルク パテント ゲーエムベーハー
Inventor: ストエッセル、フィリップ , マルティノバ、イリナ , モンテネグロ、エルビラ , ムジカ−フェルナウド、テレサ , フォゲス、フランク , クロエベル、ヨナス・バレンティン , スティーバー、フランク
IPC: C07C211/61 , C07C209/10 , C07C209/74 , C07D209/86 , C07D307/91 , C07D333/76 , C09K11/06 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/006 , C07C209/60 , C07C211/61 , C07C2603/97 , C07D209/80 , C07D209/86 , C07D219/02 , C07D307/91 , C07D333/76 , C09K11/02 , C09K11/06 , C09K2211/1007 , C09K2211/1011 , C09K2211/1014 , C09K2211/1029 , C09K2211/1088 , C09K2211/1092 , H01L51/0056 , H01L51/0058 , H01L51/0059 , H01L51/0061 , H01L51/0072 , H01L51/0073 , H01L51/0074 , H01L51/5016 , H01L51/5056 , H01L51/506 , H01L51/5064 , H01L51/5088 , Y02E10/549
Abstract: 本発明は、電子素子、特に、有機エレクトロルミッセンス素子での使用のために適する式(1)の化合物に関する。
Abstract translation: 本发明涉及一种电子装置,特别地,它涉及下式的化合物(1)适用于有机电致发光鲁米津市传感元件的使用。
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5.ゼオライト−パラジウム複合体、その複合体の製造方法、その複合体を含む触媒、およびその触媒を用いるカップリング化合物の製造方法 有权
Title translation: 沸石 - 钯复合物,该复合物的制造方法,含有该复合物的催化剂,以及使用该催化剂偶合化合物的制造方法公开(公告)号:JP5757058B2
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:JP2011501597
申请日:2010-02-23
Applicant: 学校法人 工学院大学
IPC: C01B39/24 , C07C39/15 , C07C1/32 , C07C15/14 , C07C15/50 , C07C15/52 , C07C37/11 , C07C41/30 , C07C43/205 , C07C43/215 , C07C45/65 , C07C49/796 , C07C201/12 , C07C205/06 , C07C209/74 , C07C211/55 , C07C253/30 , C07C255/50 , C07C1/26 , C07C49/784 , C07C47/546 , C07C45/67 , B01J29/12
CPC classification number: B01J35/002 , B01J29/126 , B01J37/18 , B01J37/30 , C01B39/24 , C07C1/26 , C07C1/321 , C07C209/68 , C07C41/30 , C07C45/68 , C07C49/796 , C07C67/343 , C07C2523/44 , C07C2529/08
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公开(公告)号:JP5710972B2
公开(公告)日:2015-04-30
申请号:JP2010530307
申请日:2008-10-14
Applicant: ピラマル イメージング ソシエテ アノニム
Inventor: レーマン,ルッツ , ティール,アンドレア , ハインリッヒ,トビアス , ブルンビー,トーマス , ハルディン,クリステル , グルヤス,バラス , ナグ,サングラム
IPC: C07C211/42 , C07C217/60 , C07C309/66 , C07C309/73 , C07C209/74 , C07C213/08 , C07D307/52 , A61K31/137 , A61K31/255 , A61K31/341 , A61K51/00 , A61P25/00 , A61P43/00 , C07C211/29
CPC classification number: C07D291/08 , A61K51/04 , C07B59/00 , C07C211/42 , C07C309/66 , C07D307/52 , C07C2102/08 , C07C2102/10
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公开(公告)号:JP5685594B2
公开(公告)日:2015-03-18
申请号:JP2012528346
申请日:2010-09-08
Inventor: ニコラ キャトッツィ, , ニコラ キャトッツィ, , リヴィウス コタルカ, , リヴィウス コタルカ, , ジョニー フォレット, , ジョニー フォレット, , マッシミリアーノ フォルキャト, , マッシミリアーノ フォルキャト, , ロベルト ジョヴァネッティ, , ロベルト ジョヴァネッティ, , ジョルジーオ ソリアト, , ジョルジーオ ソリアト, , マッシーモ ヴェルツィニ, , マッシーモ ヴェルツィニ,
IPC: C07C211/30 , C07C209/70 , C07C209/74
CPC classification number: C07C211/30 , C07C209/74
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公开(公告)号:JP5295613B2
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:JP2008099209
申请日:2008-04-07
Applicant: 日宝化学株式会社
IPC: C07B39/00 , C07B61/00 , C07C17/12 , C07C25/02 , C07C37/62 , C07C39/27 , C07C41/22 , C07C43/225 , C07C201/12 , C07C205/26 , C07C209/74 , C07C211/52
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an iodinated aromatic compound having high positional selectivity and suited to an industrial production. SOLUTION: The present method for producing an iodinated aromatic compound comprises reacting an aromatic compound to the nucleus of which at least one substituent and at least two hydrogen atoms are bonded with 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin in the presence of an acid in an organic solvent. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP5161023B2
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:JP2008262502
申请日:2008-10-09
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D401/04 , C07B61/00 , C07C209/74 , C07C211/29 , C07C213/04 , C07C215/30 , C07D213/85
CPC classification number: C07C209/74 , C07C213/04 , C07C215/30 , C07D213/85 , C07C211/29
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