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    高温架橋された破砕流体
    3.
    发明专利
    高温架橋された破砕流体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019504142A

    公开(公告)日：2019-02-14

    申请号：JP2018528958

    申请日：2016-12-01

    申请人： サウジ アラビアン オイル カンパニー

    发明人： リエン,フォン ,  レディ,ビー ラガヴァ ,  リ,ライミン ,  アル‐ムンタシュリ,ジーガン エイ.

    IPC分类号： C08F222/38 ,  C08F222/02 ,  E21B43/267 ,  C09K8/68

    摘要： 2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸モノマー単位と、アクリルアミドモノマー単位と、アクリル酸モノマー単位又はその塩とを有するコポリマーを含む水性コポリマー組成物と、架橋剤との混合物を含む破砕流体。架橋剤は金属を含み、コポリマーに対する金属の重量比は0.01〜0.08の範囲である。地下層の処理が、破砕流体を地下層へ導入するステップ、及び地下層において破砕流体を架橋して架橋された破砕流体を生成するステップを含む。ゲルの温度が148.9℃〜204.4℃(300°F〜400°F)の範囲で40s −1 のせん断速度に曝されたとき、架橋された破砕流体は少なくとも0.500Pa・s(500cP)の粘度を少なくとも80分間有する。

    アクリル系重合体
    4.
    发明专利
    アクリル系重合体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019019338A

    公开(公告)日：2019-02-07

    申请号：JP2018204534

    申请日：2018-10-30

    申请人： FUJIKURA KASEI KK

    发明人： INADA MASAYOSHI

    IPC分类号： C08F2/38 ,  C08F220/10 ,  C08F222/38 ,  C08F293/00

    摘要： 【課題】一級ラジカルを発生させるRAFT剤や、フェニルアセテートラジカル以外の二級ラジカルを発生させるRAFT剤を使用した場合でも、メタクリル酸エステルを含んだ単量体をRAFT重合することが可能な可逆的付加開裂連鎖移動重合方法によって得られるアクリル系共重合体を提供する。【解決手段】RAFT剤として、脱離によって一級ラジカルを発生させるRAFT剤、もしくは、脱離によってフェニルアセテートラジカル以外の二級ラジカルを発生させるRAFT剤の何れかを用い、メタクリル酸エステルとアクリルアミド単量体とを含み、且つ、該アクリルアミド単量体を5mol%以上20mol%以下で含む単量体(a)を重合して得た重合体(D)からなるアクリル系重合体である。【選択図】なし

    細胞内の温度を測定するためのレシオ型蛍光性プローブ
    6.
    发明专利
    細胞内の温度を測定するためのレシオ型蛍光性プローブ 有权
    用于细胞温度测量的比例型荧光探针

    公开(公告)号：JP2015218304A

    公开(公告)日：2015-12-07

    申请号：JP2014104567

    申请日：2014-05-20

    申请人： キリン株式会社 ,  国立大学法人 東京大学

    发明人： 辻 俊 一 ,  井 門 久美子 ,  内 山 聖 一 ,  河 本 恭 子

    IPC分类号： C12Q1/02 ,  C08F220/60 ,  C08F220/34 ,  C08F220/56 ,  C08F222/38

    摘要： 【課題】蛍光寿命測定での、短時間定量測定、高時間分解能が可能な、蛍光団が組み込まれたポリアクリルアミド蛍光性温度センサーの提供。 【解決手段】感熱性ユニット、カチオン性ユニット及び蛍光性ユニットを含む共重合体を含む温度感受性プローブ。感熱性ユニットは、式(a)で表されるモノマーに由来する繰り返し構造を有する温度感受性プローブ。 [R1はH及びC1−3アルキル;R4及びR5は、独立に、H及び、置換基を有してもよいC1−20アルキル、又はR4及びR5は結合する窒素原子と4〜8員含窒素ヘテロ環を形成し、当該ヘテロ環は、C1−6アルキル、C1−6アルコキシ、ニトロ、ハロゲン原子、C1−10アルキルカルボニルアミノ及びアリールカルボニルアミノから選択される1以上の置換基により置換されていてもよい] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供能够在荧光寿命测量中进行短时间定量测量和高时间分辨率的含荧光团的聚丙烯酰胺荧光温度传感器。解决方案：提供一种温度敏感探针，其包括共聚物，其包含热敏单元 ，阳离子单元和荧光单元。 热敏单元具有由式（a）表示的单体衍生的重复结构。 在式（a）中，R 1为H和C 1-3烷基; R 4和R 5独立地为H和可具有取代基的C 1-20烷基，或者R 4和R 5与键合的氮原子形成4至8元含氮杂环，杂环可被一个或多个 选自C 1-6烷基，C 1-6烷氧基，硝基，卤素原子，C 1-10烷基羰基氨基和芳基羰基氨基的取代基。

    Resin composition for fine pattern formation, method for forming fine pattern, and polymer
    9.
    发明专利
    Resin composition for fine pattern formation, method for forming fine pattern, and polymer 有权
    精细图案形成的树脂组合物，形成微细图案的方法和聚合物

    公开(公告)号：JP2011033679A

    公开(公告)日：2011-02-17

    申请号：JP2009177537

    申请日：2009-07-30

    申请人： Jsr Corp ,  Jsr株式会社

    发明人： FUJIWARA KOICHI ,  WAKAMATSU TAKASHI ,  ANNO YUSUKE ,  ITO NOBUJI

    IPC分类号： G03F7/40 ,  C08F212/14 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F222/38 ,  H01L21/027

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition for fine pattern formation, which smoothly shrinks a resist pattern by a heat treatment, and is easily removed by subsequent treatment with an aqueous alkali solution. SOLUTION: The resin composition for fine pattern formation contains a resin, a crosslinking agent for crosslinking the resin, and a solvent and is used for microfabrication of a resist pattern. The resin contains a repeating unit (I) expressed by formula (1) and a repeating unit (II) expressed by formula (2). In the formula (1): R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 2 represents a single bond, a methylene group, a 2-5C chain or branched alkylene group, an -NH- group, an -O- group, a -COO- group, or a -CINH- group; R 3 each independently represents a hydrogen atom, a 1-6C saturated chain hydrocarbon group, a 3-8C monocyclic hydrocarbon group, or a 7-10C polycyclic hydrocarbon group; m represents 1 to 2; and n represents 0 to 2. In the second formula (2): R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; X represents a methylene group, a methylidene group, a 2-10C straight-chain or branched alkylene group, a 3-12C bivalent alicyclic hydrocarbon group, or a -NH- group; R 4 each independently represents 1-10C straight-chain or branched alkyl group, a 1-10C alkoxyl group, or a -O-Si=R' 3 group; R' each independently represents a 1-10C straight-chain or branched alkyl group or a 1-10C alkoxyl group. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种通过热处理使抗蚀剂图案平滑收缩的精细图案形成用树脂组合物，并且通过后续的碱性水溶液处理容易地除去。 解决方案：用于精细图案形成的树脂组合物包含树脂，用于交联树脂的交联剂和溶剂，并且用于抗蚀剂图案的微细加工。 树脂含有由式（1）表示的重复单元（I）和由式（2）表示的重复单元（II）。 在式（1）中：R“SP”表示氢原子或甲基; R 2 表示单键，亚甲基，2-5C链或支链亚烷基，-NH-基，-O-基，-COO-基或-CINH - 组; R“3”各自独立地表示氢原子，1-6C饱和链烃基，3-8C单环烃基或7-10C多环烃基; m表示1〜2; 在第二式（2）中，R 1表示氢原子或甲基。 X表示亚甲基，亚甲基，2-10C直链或支链亚烷基，3-12C二价脂环族烃基或-NH-基团; R 4 各自独立地表示1-10C直链或支链烷基，1-10C烷氧基或-O-Si = R'SB 3基团; R'各自独立地表示1-10C直链或支链烷基或1-10C烷氧基。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT