公开(公告)号：JPWO2020137935A1

公开(公告)日：2021-11-11

申请号：JP2019050261

申请日：2019-12-23

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 大松 禎 ,  松本 正裕 ,  由利 道裕 ,  片岡 健太郎 ,  佐藤 隆 ,  越後 雅敏

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07C67/14 ,  C07C67/08 ,  C07C33/46 ,  C07C39/27 ,  C07C35/52 ,  C08L33/16 ,  C08F220/22 ,  G03F7/20 ,  C07C69/653

Abstract: 本発明は、高解像度かつ高感度を有する膜を形成可能な組成物等を提供することを目的とする。前記目的は次の化合物によって達成することができる。一般式(1)で表される、ヨウ素含有(メタ)アクリレート化合物。 【化1】 (式(1)中、 R 1 は、水素原子、メチル基、又はハロゲンを表し、 R 2 は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20の直鎖状の有機基、炭素数3〜20の分岐状の有機基、又は炭素数3〜20の環状の有機基を表し、 Aは、炭素数1〜30の有機基を表し、 n 1 は0又は1を表し、 n 2 は1〜20の整数を表す。)

公开(公告)号：JP2021172779A

公开(公告)日：2021-11-01

申请号：JP2020079653

申请日：2020-04-28

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 野副 寛

IPC: G02B5/30 ,  C08F220/22

Abstract: 【課題】本発明は、溶解性に優れ、配向性と均質な塗布性に優れる膜を形成することができるフッ素原子含有共重合体、上記共重合体を含有する組成物、上記組成物から形成される層を有する光学フィルム、液晶フィルム、ハードコートフィルム、偏光板を提供することを課題とする。 【解決手段】下記一般式(1)で表される繰返し単位を含み、ブロック構造、グラフト構造、スター構造もしくは分岐構造を有するフッ素原子含有共重合体。 一般式(1)中、R 1 は水素原子、ハロゲン原子、またはアルキル基を表す。L 1 は二価の連結基を表す。Rfは少なくとも1つのフッ素原子を含有する置換基を表す。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6943288B2

公开(公告)日：2021-09-29

申请号：JP2019546520

申请日：2018-04-09

Applicant: 株式会社ニコン

Inventor： 染谷 尚宏 ,  四篠 雅之

IPC: C08F220/22 ,  C08F220/18 ,  G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  C07C69/54 ,  C08F290/06

公开(公告)号：JPWO2020054559A1

公开(公告)日：2021-09-16

申请号：JP2019034886

申请日：2019-09-05

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 青木 貴志 ,  原 育成 ,  原 由香里 ,  松永 佳 ,  山中 一広

IPC: C08K5/05 ,  C08K5/06 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F218/08 ,  C08F216/12 ,  C08K5/17 ,  G03F7/038 ,  H01L21/312 ,  H01L51/30 ,  C08L33/16

Abstract: 本開示の含フッ素樹脂組成物は、下記(A)成分、(B)成分、(C)成分、および(D)成分を含むことを特徴とする。 (A)成分:式(1)および(2)で表される繰り返し単位を含む重合体。 (B)成分:硬化剤。 (C)成分:硬化触媒。 (D)成分:溶剤。 【化55】 (式中、R 1 、R 2 は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、またはメチル基を示す。Xは炭素数1〜20の含フッ素炭化水素基である。Yは単結合、または炭素数1〜15の直鎖状、炭素数3〜15の環状の2価の有機基である。)

公开(公告)号：JP2021524611A

公开(公告)日：2021-09-13

申请号：JP2020573495

申请日：2018-06-28

Applicant: アキュイティー ポリマーズ、インコーポレイテッド

Inventor： ボナフィニ、ジェイムズ、エイ.、ジュニア

IPC: C08F220/22 ,  G02C7/04

Abstract: 超高Dk材料を製造する方法は、フルオロアルキルメタクリラートと、アルキルグリコールジメタクリラートと、メタクリル酸のような親水性剤と、ヒドロキシアルキルトリス(トリメチルシロキシ)シランと、ヒドロキシアルキル末端ポリジメチルシロキサンと、スチリルエチルトリス(トリメチルシロキシ)シランと、が接触すること及び反応することを含む。上記反応は、不活性雰囲気内で、少なくとも25ポンド/平方インチ(PSI)の圧力で、一定期間、上記超高Dk材料を製造するのに十分な温度で行われる。

公开(公告)号：JP6931696B2

公开(公告)日：2021-09-08

申请号：JP2019508598

申请日：2018-01-16

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 深川 玲子 ,  朝日 美帆

IPC: C08L33/16 ,  C08K3/22 ,  C08K5/103 ,  G02B1/118 ,  C08F220/22

公开(公告)号：JPWO2020066806A1

公开(公告)日：2021-09-02

申请号：JP2019036643

申请日：2019-09-18

Applicant: 日本ゼオン株式会社

Inventor： 星野 学

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/22

Abstract: 耐熱性に優れ、且つ、解像度および明瞭性に優れるレジストパターンの形成が可能な主鎖切断型のポジ型レジストとして良好に使用可能な共重合体を提供する。 下記式(I)で表される単量体単位(A)および下記式(II)で表される単量体単位(B)を有し、分子量分布が1.7以下である、共重合体。なお、式中、Lは、単結合または2価の連結基であり、Arは、置換基を有していてもよい芳香環基であり、R 1 は、アルキル基であり、R 2 は、アルキル基、ハロゲン原子またはハロゲン化アルキル基であり、pは、0以上5以下の整数であり、R 2 が複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。 [化1]

公开(公告)号：JP2021517183A

公开(公告)日：2021-07-15

申请号：JP2020546423

申请日：2019-03-07

Applicant: トータル・マーケティング・サービシーズ ,  サントル・ナショナル・ド・ラ・ルシェルシェ・シアンティフィーク(セーエヌエールエス) ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE(CNRS) ,  エコール・スペリウル・ドゥ・フィジック・エ・ドゥ・シミ・アンデュストリエル・ドゥ・ラ・ヴィル・ドゥ・パリ(ウーエスペーセーイー) ,  ECOLE SUPERIEURE DE PHYSIQUE ET DE CHIMIE INDUSTRIELLES DE LA VILLE DE PARIS(ESPCI)

Inventor： デクロワ・グレゴリー ,  ブリアン・ファニ ,  ニコライ・ルノー ,  ドゥルーノ・ティボー

IPC: C10M145/00 ,  C10M169/04 ,  C10M145/04 ,  C10M155/04 ,  C08L51/00 ,  C08F220/22 ,  C08F212/32 ,  C08F265/06 ,  C10N40/25 ,  C10N40/04 ,  C10N30/02 ,  C10N30/06 ,  C08L25/18

Abstract: 【課題】本発明は、櫛型ポリジオール共重合体A1および少なくとも2つのボロン酸エステル官能基を含む化合物A2の混合に少なくとも起因する潤滑組成物に関する。 【解決手段】前記組成物は、前記櫛型ポリジオール共重合体A1が、主鎖および側鎖で構成され、前記共重合体A1の少なくとも側鎖の一部が、オリゴマーで構成される。前記組成物は、化合物A1とA2の使用割合に応じて、非常に多様なレオロジー特性を示す。本発明は、さらに、少なくとも1種の潤滑油と会合性で交換可能な重合体組成物との混合に起因する組成物に関し、機械部品を潤滑するためのこの組成物の使用に関する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021050300A

公开(公告)日：2021-04-01

申请号：JP2019175499

申请日：2019-09-26

Applicant: 第一工業製薬株式会社

Inventor： 池田 元城 ,  岩木 徹

IPC: C08F220/22

Abstract: 【課題】樹脂に対して優れた撥水撥油性を均一に付与できる技術を提供する。 【解決手段】樹脂用添加剤は、炭素数1〜6のフルオロアルキル基を有する(メタ)アクリレート化合物(a1)と、直鎖または分岐鎖の脂肪族炭化水素を有する非フッ素(メタ)アクリレート化合物(a2)と、芳香族基を有する非フッ素(メタ)アクリレート化合物(a3)と、を含む構成モノマーを重合して得られた共重合体を含む。 【選択図】なし

公开(公告)号：JPWO2019151021A1

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：JP2019001698

申请日：2019-01-21

Applicant: 日本ゼオン株式会社

Inventor： 星野 学

IPC: G03F7/32 ,  C08F220/22 ,  C08L25/18 ,  C08L33/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

Abstract: 下式(I)及び(II)でそれぞれ表される単位を有する重合体と、溶剤とを含むポジ型レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程と、露光工程と、現像工程と、現像されたレジスト膜を表面張力が20.0mN/m以下のリンス液を用いてリンスする工程と、を含むレジストパターン形成方法である。なお、式(I)中、R 1 は、フッ素原子数3〜7の有機基であり、式(II)中、R 2 は、水素原子、フッ素原子、非置換又はフッ素原子で置換されたアルキル基であり、R 3 は、水素原子、非置換又はフッ素原子で置換されたアルキル基であり、p及びqは、0〜5の整数であり、p+q=5である。