パラジウム粒子を有機高分子化合物に担持した複合体
    5.
    发明专利
    パラジウム粒子を有機高分子化合物に担持した複合体 有权
    与有机聚合物化合物上携带的钯颗粒复合

    公开(公告)号:JP2015172123A

    公开(公告)日:2015-10-01

    申请号:JP2014047843

    申请日:2014-03-11

    CPC分类号: Y02P20/584

    摘要: 【課題】 本発明は、炭素−炭素二重結合を極めて高い選択性で水素化でき、転化率が格段に高い触媒活性を有する複合体を提供する。 【解決手段】 芳香族環残基で置換されている環状ボロン酸エステルであって、該芳香族環残基及び/又は環状ボロン酸エステル部分がボロニレート基及び/又は水酸基で置換されている高分子化合物に、パラジウムが担持されてなる複合体。 【選択図】 なし

    摘要翻译: 要解决的问题:提供具有可以极高选择性使碳 - 碳双键氢化的催化剂活性的复合物,并且显示出显着的转化率。解决方案:本发明提供了一种复合物,其中钯载在聚合物上 作为被芳环残基取代的环状硼酸酯的化合物,芳香环残基和/或环状硼酸酯部分被硼酸酯基和/或羟基取代。

    Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process
    8.
    发明专利
    Silicon-containing resist underlayer film-forming composition and patterning process 有权
    含硅含量薄膜成膜组合物和图案处理

    公开(公告)号:JP2013114059A

    公开(公告)日:2013-06-10

    申请号:JP2011260525

    申请日:2011-11-29

    摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist underlayer film applicable not only to a resist pattern formed of a hydrophilic organic compound obtained by negative development but also to a resist pattern formed of a hydrophobic compound obtained by conventional positive development.SOLUTION: Provided is a silicon-containing resist underlayer film-forming composition containing at least a condensation product and/or hydrolysis condensation product of a mixture comprising: one or more kinds of compound (A) selected from the group consisting of an organic boron compound shown by the general formula (1), namely, RB(OH)(OR), and condensation products thereof; and one or more kinds of silicon compound (B) shown by the general formula (2), namely, RRRSi(OR).

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种抗蚀剂下层膜,不仅可用于由通过负显影获得的亲水性有机化合物形成的抗蚀剂图案,而且还适用于通过常规阳性显影获得的疏水性化合物形成的抗蚀剂图案。 解决方案:提供含有至少含有缩合产物和/或水解缩合产物的含硅抗蚀剂下层膜形成组合物,其包含:一种或多种选自以下的化合物(A): 由通式(1)表示的有机硼化合物,即,R(SP)=“POST”> m0 B / POST“> m1 (OR)(3-m0-m1)及其缩合产物; 和由通式(2)表示的一种或多种硅化合物(B),即R 10 11 m11 R 12 m12 < / SB> Si(OR 13 (4-m10-m11-m12)。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT