公开(公告)号：KR102222658B1

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：KR1020157032069A

申请日：2014-06-12

申请人： 디아이씨 가부시끼가이샤

发明人： 도모유키 이마다 ,  유스케 사토 ,  세이지 기모토

IPC分类号： C07C39/17 ,  C07C39/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11

CPC分类号： C08G8/20 ,  C07C39/14 ,  C07C39/17 ,  C08G8/04 ,  C09D161/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0236 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  C07C2603/92

摘要： 내열성이 뛰어난 페놀성 수산기 함유 화합물, 내열분해성, 광감도 및 해상도가 뛰어난 레지스트용 조성물, 내열분해성 및 드라이에칭 내성이 뛰어난 레지스트 하층막용 조성물을 제공한다. 하기 구조식(1)

(식 중, R
1 은 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기이며, n은 2∼10의 정수이다. R
2 는 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아랄킬기, 할로겐 원자 중 어느 하나이며, m은 0∼4의 정수이다. m이 2 이상의 경우, 복수의 R
2 는 각각 동일해도 되며 달라도 되며, 나프틸렌 골격의 2개의 방향환 중 어느 쪽에 결합하고 있어도 된다)으로 표시되는 분자 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 페놀성 수산기 함유 화합물.

公开(公告)号：JP6418412B2

公开(公告)日：2018-11-07

申请号：JP2016225412

申请日：2016-11-18

申请人： 日産化学株式会社

发明人： 志垣 修平 ,  谷口 博昭 ,  柴山 亘 ,  坂本 力丸 ,  何 邦慶

IPC分类号： G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC分类号： H01L21/3081 ,  C08G77/26 ,  C08G77/388 ,  C09D183/04 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/3086 ,  C08K5/548 ,  C08K5/5455

公开(公告)号：JP6399083B2

公开(公告)日：2018-10-03

申请号：JP2016507466

申请日：2015-03-03

申请人： JSR株式会社

发明人： 中川 恭志 ,  齊藤 隆一 ,  栗田 俊輔 ,  酒井 達也

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144

公开(公告)号：JP2018136557A

公开(公告)日：2018-08-30

申请号：JP2018062105

申请日：2018-03-28

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

发明人： ピーター・トレフォナス ,  フィリップ・デネ・フスタッド ,  シンシア・ピエール

IPC分类号： G03F7/40 ,  C08F212/04 ,  C08F220/10 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/0388 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  C08F212/08 ,  C08F220/18 ,  C08F297/026 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/165 ,  G03F7/26

摘要： 【課題】ブラシポリマー組成を調節して、表面極性をリソグラフィ的に変え、その面上に自己組織化層が形成されうるパターン形成された面を形成するようにする。 【解決手段】感光層の一部分を照射することにより発生した酸を、酸感受性コポリマーを含む下層に拡散させる工程、酸感受性コポリマーは基体表面に共有結合されているか、ポリマー間架橋を形成しているかの少なくともいずれかで、拡散した酸と反応して下層表面に極性領域パターン形状を有する;感光層を除去する工程;下層の表面上に自己組織化層を形成する工程、第1ブロックと、第2ブロックとを有するブロックコポリマーを含み、第1ブロックは極性領域に対し整列する第1ドメインを形成し、第2ブロックは第1ドメインの隣に整列する第2ドメインを形成する;並びに第1もしくは第2ドメインのいずれかを除去して下にある下層の部分を露出させる工程;を含むパターンを形成する方法。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2018124546A

公开(公告)日：2018-08-09

申请号：JP2018003350

申请日：2018-01-12

申请人： 三星エスディアイ株式会社 ,  SAMSUNG SDI Co., LTD.

发明人： ▲はい▼ 信 孝 ,  權 純 亨 ,  朴 賢 ,  白 載 烈 ,  周 範 俊 ,  崔 有 廷 ,  韓 權 愚

IPC分类号： G03F7/26 ,  G03F7/20 ,  C08G75/045 ,  G03F7/11

CPC分类号： G03F7/092 ,  C08G59/245 ,  C08G59/4238 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3088

摘要： 【課題】所定の波長の光に対する優れた吸収性を有するとともに、優れたコーティング性を有するレジスト下層膜用組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供する。 【解決手段】本発明の一実施形態に係るレジスト下層膜用組成物は、下記化学式1および化学式2で表される部分構造を有する重合体と、溶媒と、を含む。 前記化学式1および化学式2の定義は、明細書内に記載のとおりである。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6368956B2

公开(公告)日：2018-08-08

申请号：JP2015534263

申请日：2014-08-27

申请人： 日産化学株式会社

发明人： 大橋 智也 ,  木村 茂雄 ,  臼井 友輝 ,  緒方 裕斗

IPC分类号： G03F7/40 ,  C08F20/32 ,  G03F7/11

CPC分类号： H01L21/3086 ,  C08F8/14 ,  C08F220/32 ,  G03F7/038 ,  G03F7/094 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  C08F220/26 ,  C08F220/14 ,  C08F220/18

公开(公告)号：JP6361657B2

公开(公告)日：2018-07-25

申请号：JP2015523959

申请日：2014-06-09

申请人： JSR株式会社

发明人： 中藤 慎也 ,  豊川 郁宏 ,  若松 剛史 ,  高杉 晋吾 ,  木村 徹

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  C07C15/50 ,  C07C15/54 ,  C07C33/28 ,  C07C211/53 ,  C08F38/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  C07C15/14 ,  C07C15/18 ,  C07C15/50 ,  C07C15/54 ,  C07C15/58 ,  C07C25/24 ,  C07C33/28 ,  C07C33/38 ,  C07C39/21 ,  C07C43/215 ,  C07C211/50 ,  C07C211/58 ,  C08F38/00 ,  G03F7/094 ,  G03F7/168 ,  G03F7/36 ,  H01L21/0271

公开(公告)号：JP6311702B2

公开(公告)日：2018-04-18

申请号：JP2015508171

申请日：2014-02-18

申请人： JSR株式会社

发明人： 中川 恭志 ,  酒井 達也 ,  栗田 俊輔 ,  出井 慧 ,  高梨 和憲 ,  滝本 嘉夫 ,  元成 正之

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/11

CPC分类号： H01L21/3081 ,  C07F5/00 ,  C07F5/003 ,  C07F5/06 ,  C07F7/28 ,  C07F9/00 ,  C07F11/00 ,  C07F13/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/09 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/36 ,  H01L21/0332

公开(公告)号：JP6307036B2

公开(公告)日：2018-04-04

申请号：JP2015060478

申请日：2015-03-24

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 豊岡 健太郎

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F290/00 ,  G06F3/044 ,  B32B27/00 ,  G06F3/041

CPC分类号： G06F3/044 ,  B32B27/00 ,  B32B37/02 ,  B32B2307/20 ,  B32B2307/412 ,  C08F265/06 ,  C08F290/00 ,  C08F290/126 ,  C09D151/003 ,  G03F7/033 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/161 ,  G03F7/168 ,  G06F2203/04103 ,  C08F2222/1013

公开(公告)号：JP6290332B2

公开(公告)日：2018-03-07

申请号：JP2016159080

申请日：2016-08-15

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： ヤン・チョル・ペ ,  スン−ヒョン・リー

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/094 ,  G03F7/2041 ,  Y10T428/24355