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公开(公告)号：JP6957611B2
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：JP2019516472
申请日：2017-09-26
发明人： クリスティーナ プフィルマン , ベルケム エズカヤ , フィリップ ヴァハター , ナンシー ボアン
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公开(公告)号：JP2021123744A
公开(公告)日：2021-08-30
申请号：JP2020017240
申请日：2020-02-04
申请人： 日本製鉄株式会社
摘要： 【課題】ジルコニウムを含有する化成処理皮膜を有していながらも、表面の色調が黄みを帯びておらず、また、経時で黄みを帯びにくいSn系めっき鋼板を提供すること。 【解決手段】本発明に係るSn系めっき鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも一方の面上に位置するSn系めっき層と、前記Sn系めっき層の上に位置する皮膜層と、を有し、前記Sn系めっき層は、Snを、金属Sn換算にて、1g/m 2 以上15g/m 2 以下含有し、前記皮膜層は、ジルコニウム酸化物を含有し、前記皮膜層の任意の断面での最大厚みが、10nm以上30nm以下であり、かつ、前記皮膜層の任意の断面での最大山部と最大谷部との間の長さが、5nm以上20nm以下である。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JPWO2020044714A1
公开(公告)日：2020-09-03
申请号：JP2019022692
申请日：2019-06-07
申请人： JFEスチール株式会社
摘要： 溶接性および加工後耐食性に優れる缶用鋼板およびその製造方法を提供することを目的とする。 鋼板の少なくとも一方の表面に、鋼板側から順に、鉄−ニッケル拡散層、金属クロム層および酸化クロム層を備え、前記鉄−ニッケル拡散層は、鋼板片面あたりのニッケル付着量が50mg/m 2 以上500mg/m 2 以下、かつ、鋼板片面あたりの厚さが、0.060μm以上0.500μm以下であり、前記金属クロム層は、平板状金属クロム層と、前記平板状金属クロム層の表面に形成された粒状金属クロム層とを有し、両者を合計した鋼板片面あたりのクロム付着量が60mg/m 2 以上200mg/m 2 以下であり、さらに、前記粒状金属クロム層は、単位面積あたりの個数密度が5個/μm 2 以上、かつ、最大粒径が150nm以下の粒状突起を有し、前記酸化クロム層は、鋼板片面あたりのクロム付着量が金属クロム換算で3mg/m 2 以上10mg/m 2 以下である缶用鋼板。
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公开(公告)号：JP2020100870A
公开(公告)日：2020-07-02
申请号：JP2018239574
申请日：2018-12-21
申请人： 日本製鉄株式会社
摘要： 【課題】より優れた耐硫化黒変性、耐食性、加工性、密着性、及び、溶接性を兼ね備える容器用鋼板を提供すること。 【解決手段】本発明に係る容器用鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも片面に位置し、付着量が金属Ni量で片面当たり0.3〜3g/m 2 の範囲内であるNiめっき層と、前記Niめっき層上に位置するクロメート皮膜又はZr皮膜と、を備え、前記Niめっき層は、金属Al量で片面当たり0.1〜3質量%の酸化アルミニウム粒子を含有する。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2018177613A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2017083466
申请日：2017-04-20
申请人： 国立大学法人豊橋技術科学大学 , 株式会社三ツ矢
摘要： 【課題】欠陥発光が抑制され、基板と酸化亜鉛ナノワイヤとの間の結晶格子ミスマッチが低減され、優れた発光特性を示す構造体の提供。 【解決手段】基板と酸化亜鉛ナノワイヤとを有する構造体で、酸化亜鉛ナノワイヤが基板上に直立している構造体。基板は、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)基板である。酸化亜鉛ナノワイヤは、40〜100nmの平均直径と200〜2000nmの平均長を有し、基板との結晶格子ミスマッチが0.1〜4%であり、3eV〜3.4eVの光子エネルギーの範囲で発光強度の最大を示す構造体。亜鉛イオン及び硝酸イオンを含有する電解液中にガリウム添加酸化亜鉛(GZO)基板を含浸し、電着により基板上に酸化亜鉛ナノワイヤを形成し、その後、200〜600℃で加熱することにより得らる構造体の製造方法。電解液中の亜鉛イオン及び硝酸イオンの夫々の濃度が0.8〜70mmol/lであることが、好ましい、構造体の製造方法。 【選択図】図2
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公开(公告)号：JPWO2016207967A1
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：JP2017524307
申请日：2015-06-23
申请人： 新日鐵住金株式会社
CPC分类号： C25D9/08
摘要： この容器用鋼板は、鋼板と、前記鋼板の少なくとも片面に形成されたNiめっき層と、前記Niめっき層上に形成された化成処理皮膜層と、を備え、前記Niめっき層は、金属Ni量で10〜1000mg/m2のNiを含有し、前記化成処理皮膜層は、金属Zr量で5〜30mg/m2のZr化合物を含有する。走査型プローブ顕微鏡により求めた、前記化成処理皮膜層の最表面の平均粗度Raが10nm〜100nmであり、前記化成処理皮膜層の前記最表面における1測定点について測定された黄色度の変化量を下記(2)式で表されるΔYIと定義したとき、前記最表面の単位面積に含まれる複数の前記測定点について得られた前記ΔYIの絶対値の平均値が5.0以下である。【数1】
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公开(公告)号：JP6187725B1
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：JP2017519005
申请日：2016-10-12
申请人： 新日鐵住金株式会社
CPC分类号： C25D9/08 , H01M10/0525 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/38 , H01M4/64
摘要： 塩化リチウム、塩化カリウム、及びアルカリ金属フッ化物からなる溶融塩中に、シリコン含有アルカリ金属塩及びシリコン含有アンモニウム塩の少なくとも一方を溶解して溶融塩電解浴を調製し、上記溶融塩電解浴に陰極としての金属板を浸漬した状態で、パルス幅としての通電時間が0.1秒〜3.0秒でありデューティ比が0.5〜0.94である条件の、定電流パルス電解又は定電位パルス電解を行うことにより、上記金属板上にシリコン層を形成するシリコンめっき金属板の製造方法。
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