公开(公告)号：JP2021028576A

公开(公告)日：2021-02-25

申请号：JP2017245413

申请日：2017-12-21

Applicant: 株式会社ニコン

Inventor： 鈴木 一明

IPC: G01N23/04 ,  G01N23/20

Abstract: 【課題】被測定物の内部で散乱を起こしたX線以外の透過X線を用いて、被測定物の内部を測定する。 【解決手段】X線装置は、被測定物を透過した透過X線または被測定物の内部で散乱した散乱X線を含むX線の入射を受ける検出器であって、入射したX線の散乱により生じる電子の進路および進行方向の少なくとも一方と、入射して散乱したX線の進路および進行方向の少なくとも一方とを検出する検出器と、電子の進路および進行方向の少なくとも一方と、X線の進路および進行方向の少なくとも一方とに基づいて、透過X線および散乱X線の少なくとも一方を特定する特定部と、を備える。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021021621A

公开(公告)日：2021-02-18

申请号：JP2019137940

申请日：2019-07-26

Applicant: 株式会社島津製作所

Inventor： 白井 太郎 ,  木村 健士 ,  土岐 貴弘 ,  森本 直樹

IPC: A61B6/00 ,  G01N23/20

Abstract: 【課題】熟練度が低いユーザが撮影条件を設定する場合でも、生成される位相コントラスト画像の画質が劣化することを抑制することが可能なX線位相差撮影装置を提供する。 【解決手段】このX線位相差撮影装置100は、X線源10と、検出器11と、複数の格子と、位相コントラスト画像20を生成する画像処理部2と、被写体Tの位置を変更しながら事前撮影を複数回行い、生成された位相コントラスト画像20に基づいて、被写体によるX線の散乱の強さの指標である散乱評価指標42と、位相コントラスト画像20の解像度の指標である解像度評価指標43とのうち、少なくともどちらかを含む位相コントラスト画像20の画質の評価指標40を取得するとともに、取得した評価指標40に基づいて、推奨される撮影条件を取得し、取得した撮影条件を表示部4に表示することにより、ユーザに提示する制御を行う制御部3とを備える。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021503070A

公开(公告)日：2021-02-04

申请号：JP2019545792

申请日：2019-05-16

Applicant: ヌクテック カンパニー リミテッド

Inventor： チャン,リー ,  チェン,ジーチアン ,  スン,ユンダ ,  ジン,シン ,  チャン,ミン ,  シュイ,シャオフェイ

IPC: G01N23/083 ,  G01N23/20

Abstract: 本願は、X線検査システムおよび検査方法を開示しており、検査システムは、各列に複数のビーム信号を含む複数列のビーム信号を放射するための光源発生器と、被検査物を通過した複数列の透過ビーム信号を受信するための第1の検出器と、前記被検査物を通過した複数列の散乱ビーム信号に対して特異性の選択を行うためのコリメート装置と、前記コリメート装置によって選択された散乱ビーム信号を受信するための第2の検出器と、前記複数列の透過ビーム信号および選択された前記散乱ビーム信号に基づいて、前記被検査物の検査結果を決定するためのプロセッサと、を含み、前記第1の検出器と前記第2の検出器は、前記被検査物の搬送方向に交互に配置されている。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6785752B2

公开(公告)日：2020-11-18

申请号：JP2017244800

申请日：2017-12-21

Applicant: マルバーン パナリティカル ビー ヴィ

Inventor： イゴール アレクサンドロヴィチ マコトキン ,  セルゲイ ヤクーニン

IPC: G01N23/20

公开(公告)号：JP6678602B2

公开(公告)日：2020-04-08

申请号：JP2016575883

申请日：2015-06-25

IPC: G01N23/041 ,  G01N23/087 ,  G01N23/10 ,  G01N23/20 ,  G01N23/201

公开(公告)号：JP2020012192A

公开(公告)日：2020-01-23

申请号：JP2019010708

申请日：2019-01-25

Applicant: TOTO株式会社

Inventor： 岩澤 順一 ,  芦澤 宏明 ,  和田 琢真 ,  滝沢 亮人 ,  青島 利裕 ,  高橋 祐宜 ,  金城 厚

IPC: G01N27/62 ,  G01N23/2251 ,  G01N23/203 ,  G01N23/20 ,  C04B41/87 ,  G01N23/04 ,  G01N21/27 ,  C23C24/04

Abstract: 【課題】 耐パーティクル性に優れたセラミックコートの提供、およびセラミックコートの耐パーティクル性を評価する方法の提供。 【解決手段】 基材と、前記基材上に設けられ、表面を有する構造物とを含む複合構造物であって、構造物が多結晶セラミックスを含んでなり、そのTEM画像解析から算出される輝度Saが所定の値を満たす複合構造物は、耐パーティクル性が求められる半導体製造装置の内部部材として好適に用いることができる。 【選択図】 なし

公开(公告)号：JP6633480B2

公开(公告)日：2020-01-22

申请号：JP2016169902

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社東芝 ,  東芝エネルギーシステムズ株式会社

Inventor： 杉田 宰 ,  宮寺 晴夫

IPC: G01N23/20 ,  G01V5/00 ,  G01T1/18 ,  G01N23/02

公开(公告)号：JP6618059B1

公开(公告)日：2019-12-11

申请号：JP2018130133

申请日：2018-07-09

Applicant: 株式会社リガク

Inventor： 河野 浩 ,  村上 智

IPC: G01N23/20 ,  G01B15/02 ,  G01N23/223

Abstract: 【課題】適切な気相分解の条件を簡便に設定することのできるX線分析システムを提供する。 【解決手段】X線分析システムであって、X線分析装置と、気相分解装置と、を有するX線分析システムであって、前記X線分析装置は、表面に薄膜が存在する測定試料に1次X線を照射するX線源と、前記1次X線が前記測定試料の表面または界面で反射した反射X線の強度、または、前記1次X線により発生した蛍光X線の強度を測定する検出器と、前記反射X線または前記蛍光X線の強度に基づいて、前記薄膜の膜厚又は付着量を算出する演算部と、を有し、前記気相分解装置は、前記薄膜を気相分解する気相分解部と、前記演算部に算出された膜厚又は付着量に基づいて、気相分解時間を決定する制御部と、を有する。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2019533136A

公开(公告)日：2019-11-14

申请号：JP2019507764

申请日：2017-08-08

Applicant: リージェンツ オブ ザ ユニバーシティー オブ カリフォルニア

Inventor： リー,セアングキュ ,  カプースチン,ユージーン・エー ,  ヤギー,オマー・エム.・ヤギー

IPC: C07C63/331 ,  G01N23/207 ,  G01N23/20

Abstract: 配位アライメントはx線回折を使用して、キラルな金属有機構造体内で結合または結晶化した分子の構造を精密かつ明瞭に決定する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6593017B2

公开(公告)日：2019-10-23

申请号：JP2015154918

申请日：2015-08-05

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 横山 光

IPC: C25D11/24 ,  H01L21/3063 ,  C25D11/32 ,  C25D11/26 ,  B82Y40/00 ,  G21K1/06 ,  G21K1/00 ,  C25D11/18 ,  G01N23/20 ,  G01T7/00