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公开(公告)号:JPWO2020059728A1
公开(公告)日:2021-09-24
申请号:JP2019036453
申请日:2019-09-18
申请人: 日本軽金属株式会社
摘要: アルミニウム部材100は、金属アルミニウムにより構成された母材11と、母材11の表面を被覆する酸化アルミニウムを含む皮膜12と、を含む多孔質層40を備える。皮膜12は5nm〜1000nmの厚さを有し、皮膜12は表面に形成された凹部13及び凸部14の少なくともいずれか一方を複数有し、凹部13の深さは10nm〜100nmであり、凸部14の高さは10nm〜100nmである。多孔質層40は平均細孔径が0.1μm〜10μmである空孔15を複数有する。
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公开(公告)号:JP2021056494A
公开(公告)日:2021-04-08
申请号:JP2020129816
申请日:2020-07-31
申请人: キヤノン株式会社
摘要: 【課題】 入射角度が大きくても反射率を低くでき、かつ、経年劣化や振動による特性変動のおそれが少ない光学部材を提供する。 【解決手段】 アルミニウムまたはアルミニウム合金よりなる基材3と、基材3の上に設けられた黒色の多孔質の酸化アルミニウムを備える第1層1と、第1層1の上に設けられた複数の突起部21を有する酸化アルミニウムを備える第2層2と、を備える光学部材10。 【選択図】 図1
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公开(公告)号:KR102235224B1
公开(公告)日:2021-04-02
申请号:KR1020197019999A
申请日:2018-02-14
申请人: 후지필름 가부시키가이샤
发明人: 요시노리 홋타
摘要: 알루미늄 기판의 편측의 표면에 양극 산화 처리를 실시하여, 알루미늄 기판의 편측의 표면에, 두께 방향으로 존재하는 마이크로 포어와 마이크로 포어의 바닥부에 존재하는 배리어층을 갖는 양극 산화막을 형성하는 양극 산화 처리 공정과, 1V 이상 또한 양극 산화 처리 공정에 있어서의 전압의 30% 미만의 범위로부터 선택되는 유지 전압의 95% 이상 105% 이하의 전압으로 통산 5분 이상 유지하는 유지 공정과, 알루미늄보다 수소 과전압이 높은 금속 M1의 이온을 포함하는 알칼리 수용액을 이용하여, 양극 산화막의 배리어층을 제거하는 배리어층 제거 공정과, 도금 처리를 실시하여 마이크로 포어의 내부에 금속 M2를 충전하는 금속 충전 공정과, 알루미늄 기판을 제거하여, 금속 충전 미세 구조체를 얻는 기판 제거 공정을 갖는 금속 충전 미세 구조체의 제조 방법에 의하여, 마이크로 포어에 대한 금속 충전의 면내 균일성이 양호해진다.
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公开(公告)号:KR20210027130A
公开(公告)日:2021-03-10
申请号:KR1020200107357A
申请日:2020-08-25
申请人: 호도가야 가가쿠 고교 가부시키가이샤
IPC分类号: C07D231/38 , C09B29/36 , C25D11/24
CPC分类号: C07D231/38 , C09B29/3647 , C25D11/243
摘要: 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물이 개시된다.
[화학식 5]
[식 (1) 중, A 는 치환기를 가지고 있어도 되는 알킬기 등 또는 하기 식 (Ia) 로 나타내는 기를 나타내고,
[화학식 6]
R
1 은 -COO
- 또는 -COOH 를 나타내고, R
2 ∼ R
11 은 각각 독립적으로, -H, -OH, -COO
- , -COOH, -NO
2 , -NO, -CN, -SO
3
- , -SO
3 H, -SH, 아미노기, 알킬기 등 각종의 기를 나타내고, R
2 ∼ R
5 , R
7 ∼ R
11 은, 이웃하는 기끼리 서로 결합하여 고리를 형성하고 있어도 되고, X 는 비발색 카티온을 나타내고, k 는 1 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.]-
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公开(公告)号:JP6789354B1
公开(公告)日:2020-11-25
申请号:JP2019117502
申请日:2019-06-25
申请人: 株式会社アルバック , アルバックテクノ株式会社
摘要: 【課題】部材の表面に堆積した成膜物が部材から脱離することを抑制可能とした表面処理方法を提供する。 【解決手段】金属製の表面10Fを有した部材10に対するブラスト処理によって、表面10Fを粗化することと、粗化された表面10Fに陽極酸化によって多孔質の酸化皮膜を形成することと、少なくとも酸化皮膜をエッチング液によってエッチングすることと、を含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JPWO2018131709A1
公开(公告)日:2020-02-20
申请号:JP2018000972
申请日:2018-01-16
申请人: 仲山貴金属鍍金株式会社
摘要: 【課題】基体の表面を超疎水性や超親水性などを含む広範な範囲の疎水性や親水性を示すように改質することのできる、工業的な実施が容易な基体の表面改質方法を提供する。 【解決手段】基体の表面に、めっき処理を利用する粗面化処理などの化学的粗面化処理あるいは物理的粗面化処理を施すことにより、その基体を連続的な微細凹凸面を表面に持つ基体に変換する工程、そしてその基体の連続的な微細凹凸面を持つ表面に自己組織化単分子膜を形成する工程を施すことからなる基体の表面改質方法。 【選択図】なし
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