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    포토레지스트 조성물 및 포토리소그래픽 패턴 형성 방법
    61.
    发明公开
    포토레지스트 조성물 및 포토리소그래픽 패턴 형성 방법 审中-实审
    光刻胶组合物和形成光刻图案的方法

    公开(公告)号：KR1020110132271A

    公开(公告)日：2011-12-07

    申请号：KR1020110051877

    申请日：2011-05-31

    申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨

    发明人： 배영철 ,  왕데얀 ,  카르돌라시아토마스 ,  강석호 ,  벨로즈마리

    IPC分类号： G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0382 ,  C07C69/54 ,  C07C2603/74 ,  C08F2220/283 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0276 ,  G03F7/0045 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0271

    摘要： PURPOSE: A photo-resist composition and a method for forming a photo-lithographic pattern are provided to overcome defects generated from a photo-lithographic process and to improve the operational windows of the photo-lithographic process. CONSTITUTION: A photo-resist composition includes first polymer, second polymer, a photo-acid generator, and a solvent. The first polymer is acid-sensitive. The second polymer is formed based on a monomer represented by chemical formula I. The second polymer is acid-insensitive, and no fluorine and silicon are contained in the second polymer. The surface energy of the second polymer is lower than that of the first polymer. In the chemical formula I, the P is a polymerizable functional group. The Z is a spacer unit which is selected from arbitrarily substituted linear or branched aliphatic and aromatic hydrocarbon and the combination of the same. The n is the integer of 0-5. The R is selected from substituted and non-substituted C1 to C20 linear, branched, and cyclic hydrocarbons.

    摘要翻译： 目的：提供光刻胶组合物和形成光刻图案的方法，以克服由光刻工艺产生的缺陷并改善光刻工艺的操作窗口。 构成：光致抗蚀剂组合物包括第一聚合物，第二聚合物，光酸产生剂和溶剂。 第一种聚合物是酸敏感的。 第二聚合物基于由化学式I表示的单体形成。第二聚合物是酸不敏感的，第二聚合物中不含氟和硅。 第二聚合物的表面能低于第一聚合物的表面能。 在化学式I中，P是可聚合官能团。 Z是选自任意取代的直链或支链脂族和芳族烃及其组合的间隔单元。 n为0-5的整数。 R选自取代和未取代的C1至C20直链，支链和环状烃。

    (메트)아크릴산 에스터의 제조방법
    63.
    发明公开
    (메트)아크릴산 에스터의 제조방법 有权
    生产（甲基）丙烯酸酯的方法

    公开(公告)号：KR1020110112870A

    公开(公告)日：2011-10-13

    申请号：KR1020117020500

    申请日：2010-02-04

    申请人： 미쯔비시 케미컬 주식회사

    发明人： 안사이류이치 ,  노가미히로유키 ,  오구라구니요시

    IPC分类号： C07C67/08 ,  C07C67/54 ,  C07C69/54

    CPC分类号： C07C67/08 ,  C07C67/54 ,  C07C67/02 ,  C07C69/54

    摘要： (메트)아크릴산 무수물의 손실이 적고, 고순도의 (메트)아크릴산 에스터를 고수율로 얻는다. (메트)아크릴산을 고수율로 회수한다. 또한 (메트)아크릴산 에스터의 정제를 쉽게 한다. (1) 특정한 지방산 무수물과 (메트)아크릴산을 반응시켜, 부생하는 지방산을 뽑아 내면서 (메트)아크릴산 무수물을 제조하는 공정, (2) 알코올과 상기 공정(1)의 반응에서 얻어지는 미정제 (메트)아크릴산 무수물을 바람직하게는 90℃ 이상에서 반응시켜 (메트)아크릴산 에스터를 얻는 공정, (3) (메트)아크릴산을 바람직하게는 90℃ 이상에서 증류에 의해 회수하는 공정. 또는 추가로, 공정(2)에서 수득된 반응액을 90℃ 이상의 온도로 가열 또는 증류한다.

    필름 형성 폴리머 및 방오 페인트
    65.
    发明授权
    필름 형성 폴리머 및 방오 페인트 有权
    成膜聚合物和防油漆

    公开(公告)号：KR101015264B1

    公开(公告)日：2011-02-18

    申请号：KR1020047015466

    申请日：2003-03-20

    申请人： 요툰 에이/에스

    发明人： 보르베아니타 ,  달링마리트 ,  요한센크리스틴

    IPC分类号： C09D5/16 ,  C08F220/26

    CPC分类号： C07F7/1896 ,  C07C69/54 ,  C07C69/67 ,  C08F220/14 ,  C08F220/28 ,  C08L33/00 ,  C08L43/00 ,  C09D5/1668 ,  C09D133/00 ,  C09D143/04 ,  C08L2666/10 ,  C08L2666/04

    摘要： 방오 페인트용 수불용성 및 수부식성 필름 형성 폴리머로서, 이 폴리머는 모노머 A 및 B, 즉 A) 일반식 (Ⅰ)의 모노머 2 내지 95 몰% (여기서 n은 1 내지 4의정수이며, X는 수소 또는 CH
    3 이고, Y는 수소 또는 임의로 에스테르화한 COOH 기이며, R
    1 은 Ph(R
    2 )
    m , -C(O)R
    3 또는 Si(R
    4 )
    3 이고, m은 1 내지 3의 정수이며, R
    2 는 동일 또는 상이한 것으로서, -C(O)H, C(O)R
    5 , COOR
    6 , CH
    2 COOR
    7 , C
    1-4 알킬, C
    1-4 알카노일, 할로겐, 니트로, OH 및 OR
    8 로부터 선택되고, R
    3 은 치환 또는 비치환 알킬, 아릴, 아랄킬 및 헤테로시클일로부터 선택되며, R
    4 는 동일 또는 상이한 것으로서, 치환 또는 비치환 C
    1-20 알킬, C
    5-20 아릴, C
    1-20 알콕시 및 C
    5-20 아릴옥시로부터 선택되고, R
    5 , R
    6 , R
    7 및 R
    8 은 치환 또는 비치환 C
    1-20 알킬 및 C
    5-20 아릴로부터 독립적으로 선택된다) 및 B) 기타의 비닐 중합� � 모노머 5 내지 98몰%에 대응하는 반복 단위를 포함한다.
    [화학식 1]

    하이드록시페놀 아크릴레이트 단량체 및 중합체
    66.
    发明公开
    하이드록시페놀 아크릴레이트 단량체 및 중합체 无效
    羟丙基丙烯酸酯单体和聚合物

    公开(公告)号：KR1020110004831A

    公开(公告)日：2011-01-14

    申请号：KR1020100135189

    申请日：2010-12-27

    申请人： 롬 앤드 하아스 컴패니

    发明人： 벤더리아브라함

    IPC分类号： C07C67/10 ,  C07C69/54 ,  C08F220/30

    CPC分类号： C08F220/14 ,  C07C67/08 ,  C07C67/10 ,  C08F212/08 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1825 ,  C07C69/54 ,  C07C69/017

    摘要： PURPOSE: Hydroxyphenyl acrylate monomer and polymer are provided to enable use as a resin component of a photoresist composition. CONSTITUTION: A method for preparing a phenolic (meth)acrylate compound comprises the steps of: providing an intermediate phenyl compound including a ring substituent of hydroxyl and ester parts by reacting a polyhydroxy phenyl compound with acid anhydride; and providing a phenolic (meth)acrylate compound by reacting the intermediate phenyl compound with (meth)acrylic acid. The polyhydroxy phenyl compound is hydroquinone, catechol, or resorcinol.

    摘要翻译： 目的：提供羟基苯基丙烯酸酯单体和聚合物以使其可用作光致抗蚀剂组合物的树脂组分。 构成：制备酚（甲基）丙烯酸酯化合物的方法包括以下步骤：通过使多羟基苯基化合物与酸酐反应，提供包含羟基和酯部分的环取代基的中间苯基化合物; 并通过使中间体苯基化合物与（甲基）丙烯酸反应来提供酚类（甲基）丙烯酸酯化合物。 多羟基苯基化合物是氢醌，儿茶酚或间苯二酚。

    불포화 화합물의 정제를 위한 방법 및 플랜트
    67.
    发明公开
    불포화 화합물의 정제를 위한 방법 및 플랜트 有权
    用于净化不饱和化合物的方法和设备

    公开(公告)号：KR1020100093031A

    公开(公告)日：2010-08-24

    申请号：KR1020107008903

    申请日：2008-08-29

    申请人： 에보니크 룀 게엠베하

    发明人： 라욱스,베네딕트 ,  마울,크리스티안 ,  슐리프,폴커 ,  잔데르,잉고

    IPC分类号： C07C67/54 ,  C07C69/54 ,  C07B63/00 ,  B01D1/22

    CPC分类号： B01D1/0088 ,  B01D1/0094 ,  B01D1/22 ,  C07C67/54 ,  C07C69/54

    摘要： 본 발명은 불포화 화합물의 일부가 순환되며, 제1의 증발기내에서 응축된 증기가 분리되고, 제2의 증발기내에서 응축된 증기가 제1의 증발기에 투입되는 방식으로 연결되어 있는 2 개 이상의 증발기를 포함하는 플랜트내에서 실시하며, 제1의 증발기내에서 정제시키고자 하는 혼합물로부터 응축된 증기를 분리하는 질량 흐름이 제2의 증발기로부터의 응축된 증기가 제1의 증발기에 투입되는 질량 흐름보다 작은 것을 특징으로 하는 불포화 화합물의 정제 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 액체 상에 잔존하는 제1의 증발기의 잔류물이 제2의 증발기로 통과될 수 있고, 제2의 증발기의 응축된 증기가 제1의 증발기로 통과될 수 있고, 액체 상에 잔존하는 제2의 증발기의 잔류물이 제3의 증발기로 통과될 수 있으며, 제3의 증발기의 응축된 증기가 제2의 증발기로 통과될 수 있도록 서로 연결되어 있는 3 개 이상의 증발기를 포함하는, 상기 방법을 실시하기 위한 플랜트에 관한 것이다.

    포장체
    68.
    发明公开
    포장체 有权
    包装体

    公开(公告)号：KR1020100088074A

    公开(公告)日：2010-08-06

    申请号：KR1020100005636

    申请日：2010-01-21

    申请人： 수미토모 케미칼 컴퍼니 리미티드

    发明人： 사토나츠코

    IPC分类号： B65D81/20 ,  C09K3/00 ,  C07C69/54 ,  B65B31/02

    CPC分类号： B65D81/2084 ,  B65D81/24 ,  C08K5/134 ,  B65D81/20 ,  B65B31/02 ,  C07C69/54 ,  C09K3/00

    摘要： PURPOSE: A packaging material is provided to improve processing stability of a thermoplastic polymer composition and to obtain effect of suppressing coloration by including a back body which is filled with inert gas. CONSTITUTION: A packaging material includes a back body which is filled with a compound which is marked by chemical formula 1 and inert gas. The inert gas is filled in 80 volume% based on total capacity of the inner space of the back body. In chemical formula 1, R1 and R2 are an alkyl group having a carbon number of 1-8 or a cycloalkyl group having a carbon number of 5-8. R3 is hydrogen or a methyl group and X is a single bond, a sulfur atom, an oxygen atom, an alkylidene group having a carbon number of 1-8, or the cycloalkyl group having the carbon number of 5-8.

    摘要翻译： 目的：提供一种包装材料，以提高热塑性聚合物组合物的加工稳定性，并且通过包括填充有惰性气体的后体来获得抑制着色的效果。 构成：包装材料包括填充有由化学式1和惰性气体标记的化合物的背部体。 惰性气体基于后体的内部空间的总容量填充为80体积％。 在化学式1中，R 1和R 2是碳数为1-8的烷基或碳数为5-8的环烷基。 R3是氢或甲基，X是单键，硫原子，氧原子，碳数为1-8的亚烷基或碳数为5-8的环烷基。