摘要:
표면 조화 공정의 저비용화가 용이해짐과 더불어 알루미늄과 수지 사이의 밀착성을 향상시킬 수 있는 알루미늄의 표면조화제 및 그것을 이용한 표면조화 방법을 제공한다. 본 발명의 표면조화제는 알루미늄의 표면조화제에서 알칼리원과 양성 금속이온과 질산 이온과 티오 화합물을 함유하는 수용액으로 이루어진 것을 특징으로 하는 표면조화제이다. 또한, 본 발명의 표면조화 방법은 알루미늄의 표면조화 방법에 있어서, 알루미늄의 표면을 상기 본 발명의 표면조화제로 처리하는 표면조화 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 표면조화 방법이다.
摘要:
마이크로 에칭제 및 그의 보급액 및 마이크로 에칭제를 이용한 배선 기판의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 마이크로 에칭제는, 제2구리 이온, 유기산, 할로겐화물 이온, 분자량 17∼400의 아미노기 함유 화합물 및 폴리머를 포함하는 수용액으로 이루어진다. 상기 폴리머는, 폴리아민쇄 및/또는 양이온성 기를 가지며, 중량 평균 분자량이 1000 이상인 수용성 폴리머이다. 본 발명의 마이크로 에칭제는, 아미노기 함유 화합물의 농도를 A 중량%라고 하고, 폴리머의 농도를 B 중량%라고 했을 때, A/B의 값이 50∼6000이다. 본 발명에 의하면, 저에칭량으로도 구리와 수지 등과의 밀착성이 유지될 수 있다.
摘要:
본 발명은, 연속 또는 반복하여 사용하여도 패턴의 톱 형상을 유지하면서 에칭할 수 있는 구리의 에칭액과, 이것을 사용한 도체 패턴의 형성 방법을 제공한다. 본 발명의 에칭액은, 제2구리 이온원, 산 및 물을 포함하는 구리의 에칭액이며, 환 내에 있는 이원자로서 질소 원자만을 갖는 아졸과, 페놀류 및 방향족 아민류로부터 선택되는 1종 이상의 방향족 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 도체 패턴의 형성 방법은, 전기 절연재 (1) 위의 구리층의 에칭 레지스트 (3)으로 피복되어 있지 않은 부분을 상기 본 발명의 에칭액을 사용하여 에칭하여, 도체 패턴 (2)를 형성하는 것을 특징으로 한다. 도체 패턴, 에칭액
摘要:
본 발명은, 접착제를 사용하지 않고 알루미늄과 수지 조성물의 밀착성을 향상시킬 수 있는 데다가, 폐액 처리가 용이한 알루미늄-수지 복합체의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 알루미늄-수지 복합체의 제조 방법에서는, 알루미늄제 부품의 표면을 에칭제에 의해 조화 처리하는 조화 공정과, 상기 조화 처리한 표면에 수지 조성물을 부착시키는 부착 공정을 실시한다. 상기 에칭제는, 양성 금속 이온과 산화제와 알칼리원을 포함하는 알칼리계 에칭제, 및 제2철 이온 및 제2구리 이온의 적어도 한쪽과 산을 포함하는 산계 에칭제로부터 선택되는 1종 이상이다.
摘要:
활물질과 집전체 사이의 전자 전도성을 향상시킬 수 있는 비수전해질 이차전지용 캐소드 집전체의 제조 방법과 비수전해질 이차전지용 캐소드의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 비수전해질 이차전지용 캐소드 집전체의 제조 방법은, 알루미늄제 집전 기재의 표면을 에칭제에 의해 조화 처리하는 비수전해질 이차전지용 캐소드 집전체의 제조 방법이고, 상기 에칭제가, 알칼리원과 양성 금속 이온을 포함하는 알칼리 수용액계 에칭제, 및 제2철 이온원과 제2구리 이온원과 망간 이온원과 무기산을 포함하는 제2철 이온 수용액계 에칭제에서 선택되는 일종 이상인 것을 특징으로 한다.
摘要:
PURPOSE: A method for preparing printed wiring board is provided to process a waste water easily by using non-oxide bulking agent. CONSTITUTION: In a method of manufacturing a printed circuit board, a via is formed by projecting a laser beam on a multiple laminated layer. The multiple laminated layer is formed by laminating a copper layer(1b) and a resin layer. The manufacturing method comprises a swelling processing, a micro etching processing, and a sonication process. In the swelling processing, the multiple laminated layer is dipped in a non-oxide bulking agent. In the micro etching processing, a micro etching agent is contacted to the multiple laminated layers. In the sonication process, the multiple laminated layer is dipped in the agent and is given by an ultrasonic wave.