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    포토레지스트 조성물 및 사용방법
    1.
    发明公开
    포토레지스트 조성물 및 사용방법 有权
    光电组合物和使用过程

    公开(公告)号：KR1020060125826A

    公开(公告)日：2006-12-06

    申请号：KR1020067013203

    申请日：2005-01-05

    申请人： 마이크로켐 코포레이션 ,  닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤

    发明人： 웨버윌리암 ,  모리사토시 ,  혼다나오

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03C1/76 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30

    CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0045

    摘要： Photoresist compositions that demonstrate superior photolithographic performance and hardened resist films that show superior resistance to solvents, have excellent resistance to under plating during the electrodeposition of metals, and show excellent resist stripping characteristics. These photoresist compositions according to the invention are well-suited as for applications in the manufacture of MEMS and micromachine devices. These photoresist compositions according to the invention comprise one or more epoxide-substituted, polycarboxylic acid Resin Component (A), one or more photoacid generator compounds (B), and one or more solvent (C).

    摘要翻译： 显示优异的光刻性能的光刻胶组合物和显示出优异的耐溶剂性的硬化抗蚀剂膜，在金属电沉积期间具有优异的耐电镀性，并且显示出优异的抗剥离特性。 根据本发明的这些光致抗蚀剂组合物非常适用于制造MEMS和微机械装置的应用。 根据本发明的这些光致抗蚀剂组合物包含一种或多种环氧化物取代的多元羧酸树脂组分（A），一种或多种光酸产生剂化合物（B）和一种或多种溶剂（C）。

    감광성 수지 조성물, 레지스트 적층체 및 그들의 경화물 (7)
    3.
    发明公开
    감광성 수지 조성물, 레지스트 적층체 및 그들의 경화물 (7) 审中-实审
    光敏树脂组合物，耐光层压板及其固化剂（7）

    公开(公告)号：KR1020150087242A

    公开(公告)日：2015-07-29

    申请号：KR1020157013112

    申请日：2013-11-21

    申请人： 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤

    发明人： 이마이즈미나오코 ,  이나가키신야 ,  혼다나오

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  C08G59/24 ,  C08G59/32 ,  C08G59/62

    CPC分类号： G03F7/0755 ,  C08G59/063 ,  C08G59/24 ,  C08G59/245 ,  C08G59/32 ,  C08G59/3218 ,  C08G59/38 ,  C08G59/62 ,  C08G59/621 ,  C08K5/109 ,  C08K5/13 ,  C08K5/5419 ,  C08L33/068 ,  C08L63/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0751

    摘要： 본발명은포토리소그래피에의해수직측벽형상을갖는고해상도, 저응력및 내습열성을갖는화상을형성가능한감광성에폭시수지조성물, 및/또는그 레지스트적층체, 그리고그들의경화물을제공하는것을목적으로한다. 본발명은, 에폭시수지 (A), 특정구조의다가페놀화합물 (B), 양이온성광중합개시제 (C), 에폭시기-함유실란화합물 (D), 및특정구조의반응성에폭시모노머 (E) 를함유하는감광성수지조성물로서, 상기에폭시수지 (A) 가하기식 (1) 로나타내는페놀유도체와에피할로히드린과의반응에의해얻어지는에폭시수지 (a), 및하기식 (2) 로나타내는에폭시수지 (b) 를함유하는감광성수지조성물이다.

    摘要翻译： 本发明的目的是提供以下：通过光刻法可以形成具有垂直侧壁并抵抗水分和热量的高分辨率，低应力图像的光敏环氧树脂组合物和/或抗蚀剂层压体 使用所述感光性环氧树脂组合物; 以及通过固化所述感光性环氧树脂组合物和/或抗蚀剂层压体而获得的制品或制品。 本发明是含有以下的感光性树脂组合物：环氧树脂（A），具有特定结构的多元酚化合物（B），阳离子聚合光引发剂（C），含有环氧基的硅烷化合物（D） ，和具有特定结构的反应性环氧单体（E）。 环氧树脂（A）含有由式（1）表示的苯酚衍生物，通过与表卤代醇反应获得的环氧树脂（a）和可由式（2）表示的环氧树脂（b）。 反应性环氧单体（E）是双酚环氧树脂。

    감광성 수지 조성물, 레지스트 적층체 및 그들의 경화물 (2)
    10.
    发明公开
    감광성 수지 조성물, 레지스트 적층체 및 그들의 경화물 (2) 审中-实审
    光敏树脂组合物，耐腐蚀层压板和固化产品（2）

    公开(公告)号：KR1020150080505A

    公开(公告)日：2015-07-09

    申请号：KR1020157012104

    申请日：2013-10-25

    申请人： 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤

    发明人： 이마이즈미나오코 ,  이나가키신야 ,  혼다나오

    IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  G03F7/004

    CPC分类号： G03F7/0751 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0755

    摘要： 본발명은포토리소그래피에의해, 수직측벽형상으로미세한해상도, 저응력, 및내습열성을갖는화상을형성가능한감광성에폭시수지조성물, 및/또는그 레지스트적층체, 및상기수지조성물및 상기레지스트적층체의경화물을제공하는것을목적으로한다. 본발명은에폭시수지 (A), 특정구조의폴리페놀화합물 (B), 양이온성광중합개시제 (C), 및에폭시기-함유실란화합물 (D) 를포함하는감광성수지조성물이다. 상기에폭시수지 (A) 는하기식 (1) 로나타내는페놀유도체와에피할로히드린과의반응에의해얻어지는에폭시수지 (a); 및하기식 (2) 로나타내는에폭시수지 (b) 를포함한다.