公开(公告)号：KR1020170129230A

公开(公告)日：2017-11-24

申请号：KR1020177029933

申请日：2015-03-18

Applicant: 가부시키가이샤 아데카

Inventor： 야나기사와사토시 ,  도다히토미 ,  시게노고이치 ,  기무라마사키

IPC: C07D311/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07D311/16 ,  C07C309/06 ,  C07C309/30 ,  C08G59/68 ,  C08G59/687 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045

Abstract: 본발명은, 기판에대한부식성이낮고, 포토리소그래피특성이우수한광산발생제및 양이온중합제에유용한방향족술포늄염화합물, 이것을사용한광산발생제, 레지스트조성물, 양이온중합개시제및 양이온중합성조성물을제공한다. 하기일반식(I),[식(I) 중, R∼R은각각독립적으로수소원자, 할로겐원자, 수산기, 니트로기, 시아노기, 치환기를가져도되는탄소원자수 1∼18의알킬기등을나타내고, R∼R는각각독립적으로수소원자, 치환기를가져도되는탄소원자수 1∼18의알콕시기등을나타내고, R∼R중하나이상은수소원자가아니고, X은 1가의유기술폰산음이온을나타냄]로나타내는방향족술포늄염화합물이다.

Abstract translation: 本发明中，在基板上的耐腐蚀性低，光刻特性是有用的芳族优异的光产酸剂和阳离子聚合的锍盐化合物，使用该矿井发生提供的抗蚀剂组合物，阳离子聚合引发剂和阳离子的组合物 。 的下述通式（I）中，[式（I），R〜R各自独立地表示氢原子，卤原子，羟基，硝基，氰基，烷基为1〜18个碳原子的是取代基如gajyeodo， R〜R各自独立地表示氢原子，gajyeodo取代基如烷氧基的1至18个碳原子，R〜R值不要重yisangeun或氢原子，X是由下式表示的芳族磺酸盐表示一价有机酸阴离子; Lt。

公开(公告)号：KR1020170101190A

公开(公告)日：2017-09-05

申请号：KR1020177013551

申请日：2015-10-29

Applicant: 나노-디멘션 테크놀로지스, 엘티디.

Inventor： 에리메리취,힐라

IPC: C08G59/24 ,  C08G59/18 ,  C08G59/42 ,  C08G59/44 ,  C08G59/46 ,  C08G59/50 ,  C08G59/56 ,  C08G59/68 ,  C08F222/10 ,  C08L63/00

CPC classification number: C08J5/18 ,  C08F222/1006 ,  C08G59/184 ,  C08G59/245 ,  C08G59/42 ,  C08G59/44 ,  C08G59/46 ,  C08G59/50 ,  C08G59/56 ,  C08G59/687 ,  C08J5/24 ,  C08J2363/00 ,  C08K3/36 ,  C08K7/26 ,  C08L33/062 ,  C08L63/00 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30 ,  H05K1/0366 ,  H05K3/0011 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/10

Abstract: 본발명은강화열경화성수지조성물, 및매립된활 모노머및/또는올리고머및/또는폴리머로함침되고, 상기활 모노머및/또는올리고머및/또는폴리머의기능성말단을부분적으로침출시켜가교제및 광개시된폴리머라디칼과반응시키도록구성된다공성입자를사용하여하이브리드상호침투네트워크의강화보드, 시트및/또는필름을형성하는, 보드, 시트및/또는필름을형성하는방법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明纤维增强热固性树脂组合物，并浸渍有掩埋活性单体和/或低聚物和/或聚合物，所述活性单体和/或低聚物和/或通过部分浸在聚合物交联剂的官能端和光公开聚合物自由基 大多数采取键使用增强的混合互穿网络板构成的多孔颗粒，以形成片材和/或薄膜，至板，形成片材和/或薄膜的方法。

公开(公告)号：KR1020170091638A

公开(公告)日：2017-08-09

申请号：KR1020177016353

申请日：2015-11-24

Applicant: 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨

Inventor： 메이어,케빈제이. ,  헌터,개리에이. ,  포트스,더글라스엘. ,  리터,윌리엄엘.

IPC: C08G59/50 ,  C08G59/24 ,  C08G59/68 ,  C08J3/24 ,  C08J5/24

CPC classification number: C08G59/5026 ,  C08G59/245 ,  C08G59/50 ,  C08G59/504 ,  C08G59/687 ,  C08G2650/50 ,  C08J3/24 ,  C08J5/24 ,  C08J2363/02

Abstract: (I) 적어도하나의지환족아민을포함하는제1 아민경화제; 및 (II) 적어도하나의폴리에테르아민을포함하는제2 아민경화제의배합물을포함하는경화성수지조성물을경화하기에유용한아민경화제시스템; 및 (A) 적어도하나의에폭시수지화합물; 및 (B) 적어도하나의경화제를포함하고, 상기적어도하나의경화제는상기아민경화제시스템을포함하는, 경화성에폭시수지조성물이개시된다.

Abstract translation: （I）包含至少一种含氮胺的伯胺固化剂; 和（II）用于固化可固化树脂组合物的胺固化剂体系，其包含含有至少一种聚醚胺的第二胺固化剂， 和（A）至少一种环氧树脂化合物; 和（B）至少一种固化剂，其中所述至少一种固化剂包含胺固化剂体系。

公开(公告)号：KR101700980B1

公开(公告)日：2017-01-31

申请号：KR1020117021693

申请日：2010-02-04

Applicant: 산아프로 가부시키가이샤

Inventor： 스즈키잇세이 ,  기무라히데키

IPC: C07C381/12 ,  C08L25/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C381/12 ,  B33Y70/00 ,  C08F2/50 ,  C08G59/687 ,  C08K5/375 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397

Abstract: i 선에고광감응성술포늄염을제공한다. 본발명은하기식 (1) 로나타내는술포늄염이다.[식 (1) 중, R∼R은서로독립적으로, 알킬기, 하이드록시기, 알콕시기, 알킬카르보닐기, 아릴카르보닐기, 알콕시카르보닐기, 아릴옥시카르보닐기, 아릴티오카르보닐기, 아실옥시기, 아릴티오기, 알킬티오기, 아릴기, 복소고리형탄화수소기, 아릴옥시기, 알킬술피닐기, 아릴술피닐기, 알킬술포닐기, 아릴술포닐기, 하이드록시(폴리)알킬렌옥시기, 치환되어있어도되는아미노기, 시아노기, 니트로기또는할로겐원자를나타내고, m∼m은각각 R∼R의개수를나타내고, m, m및 m은 0∼5 의정수, m, m및 m는 0∼4 의정수, X는 1 가의다원자아니온을나타낸다]

Abstract translation: 提供了对i线具有高光敏性的锍盐。 本发明涉及下述式（1）表示的锍盐：[式（1）中，R 1〜R 6各自独立地表示烷基，羟基，烷氧基，烷基羰基，芳基羰基 烷氧基羰基，芳氧基羰基，芳硫基羰基，酰氧基，芳硫基，烷硫基，芳基，杂环烃基，芳氧基，烷基亚磺酰基，芳基亚磺酰基，烷基磺酰基， 芳基磺酰基，羟基（聚）亚烷基氧基，任选取代的氨基，氰基，硝基或卤素原子，m 1至m 6各自表示R 1至R 6各自的出现次数 ，m 1，m 4和m 6各自表示0〜5的整数，m 2，m 3，m 5分别表示0〜4的整数，X - 表示1价的多原子阴离子]。

公开(公告)号：KR101665147B1

公开(公告)日：2016-10-11

申请号：KR1020107029706

申请日：2009-07-01

Applicant: 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤

Inventor： 혼다나오 ,  사카이료 ,  이마이즈미나오코 ,  오노요시유키

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  C08G59/68

CPC classification number: C08G59/687 ,  C08G59/3218 ,  C08L63/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038

Abstract: 광양이온중합개시제(A)와 1 분자중에평균 2개이상의에폭시기를가진에폭시수지(B)를포함하는 MEMS용감광성수지조성물에있어서, 상기광양이온중합개시제(A)가아래의식(1)에나타내는광양이온중합개시제(A-1)인 MEMS용감광성수지조성물.

公开(公告)号：KR101627598B1

公开(公告)日：2016-06-07

申请号：KR1020117001717

申请日：2009-04-24

Applicant: 훈츠만 어드밴스트 머티리얼스(스위처랜드) 게엠베하

Inventor： 세티아부디프란스

IPC: C08K5/357 ,  C08K5/42 ,  C08G59/40 ,  C08L63/00

CPC classification number: H01L23/293 ,  C08G59/4014 ,  C08G59/687 ,  C08K5/357 ,  H01L23/295 ,  H01L2924/0002 ,  H05K1/0353 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31989 ,  C08L63/00 ,  H01L2924/00

Abstract: 본발명은하기성분을포함하는열경화성조성물에관한것이다: a) 적어도하나의무인디하이드로벤즈옥사진성분; b) 적어도하나의술포늄염, 및 c) 임의의성분으로서적어도하나의에폭시기를포함하는화합물. 이들조성물로부터제조된경화제품은귀중한화학적, 물리적및 기계적성질을갖는다.

公开(公告)号：KR101355855B1

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：KR1020110136957

申请日：2011-12-19

Applicant: 제일모직주식회사

Inventor： 설경일 ,  어동선 ,  김남주 ,  박경수 ,  박영우 ,  서준모 ,  유아름 ,  최현민

IPC: H01B1/20 ,  H01B5/16 ,  C09J9/02 ,  C08J5/18

CPC classification number: C09J163/00 ,  C08G59/226 ,  C08G59/24 ,  C08G59/687 ,  C08L63/00 ,  C08L2205/02 ,  C09D5/24 ,  C09J9/02 ,  H01B1/20 ,  H01L23/29 ,  H01L24/29 ,  H01L2224/2929 ,  H01L2224/29298 ,  H01L2224/293 ,  H01L2924/07802 ,  H01L2924/07811 ,  H01L2924/15788 ,  H01L2924/0665 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00

Abstract: 본원 발명은 에폭시 당량이 120 내지 180 g/eq인 반응성 모노머 및 설포늄 양이온 경화촉매를 함께 함유함으로써, 저온에서 빠르게 경화가 이루어져 열 경화 시 심한 뒤틀림 현상을 방지하는, 저온 속경화형 이방성 도전 필름에 관한 것이다.
또한 본원 발명은 에폭시 당량을 한정한 반응성 모노머를 사용함으로써 저온 속경화를 달성하고 설포늄 양이온 경화촉매로서 설포늄 보레이트를 사용함으로써 양이온 중합 시 다량의 불소 이온 방출을 방지하는 이방성 도전 필름에 관한 것이다.
또한 본원 발명은 수소화 에폭시 수지를 추가로 함유함으로써 설포늄 양이온 경화촉매와의 반응 효율을 높여 보다 우수한 저온 속경화성을 나타내는 이방성 도전 필름에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明的环氧当量为120至180g通过包括与阳离子固化催化剂，约造在低温下快速固化的，以避免热固化过程中严重失真的反应性单体和锍的/当量，低温快速固化的各向异性导电膜 会的。

公开(公告)号：KR1020130132627A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：KR1020137025734

申请日：2012-03-06

Applicant: 산요가세이고교 가부시키가이샤

Inventor： 모토후지시헤이 ,  히구치신타로 ,  도쿠나가히로노부 ,  무카이다카오 ,  오타카다케시 ,  미즈노유스케 ,  신도야스히로 ,  마츠모토에이지

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  C08F2/44 ,  C08F20/10 ,  C09D4/00 ,  C09D7/12 ,  C08F18/14

CPC classification number: C08F22/105 ,  C08F2/48 ,  C08F4/00 ,  C08F220/20 ,  C08F220/40 ,  C08F222/10 ,  C08F222/20 ,  C08G18/3206 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/6511 ,  C08G18/6705 ,  C08G59/687 ,  C09D4/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/038 ,  C08F2222/104 ,  C08F2220/282 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/031

Abstract: 본 발명은 하기 (1) ∼ (3) 을 함유하는 감광성 조성물로서, 라디칼 개시제 (A), 산 발생제 (B) 및 염기 발생제 (C) 중 적어도 1 개가 활성 광선의 조사에 의해 활성종 (H) 를 발생하고, 그 활성종 (H) 가 라디칼 개시제 (A), 산 발생제 (B) 또는 염기 발생제 (C) 와 반응하여 새로운 활성종 (I) 를 생성하여 그 새로운 활성종 (I) 에 의한 중합성 물질 (D) 의 중합 반응이 진행되고, 그 활성종 (H) 또는 (I) 가 산 또는 염기이며, 착색제, 금속 산화물 분말 및 금속 분말 모두를 실질적으로 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
(1) 라디칼 개시제 (A)
(2) 산 발생제 (B) 및/또는 염기 발생제 (C)
(3) 중합성 물질 (D)

公开(公告)号：KR1020130108488A

公开(公告)日：2013-10-02

申请号：KR1020137023788

申请日：2012-03-30

Applicant: 파나소닉 주식회사

Inventor： 곤도나오유키 ,  야시로준코 ,  나카시바도오루 ,  하시모토신지

IPC: C08L63/00 ,  C08K3/36 ,  G02B6/12 ,  G02B6/122

CPC classification number: G02B1/045 ,  B32B27/38 ,  C08G59/687 ,  C09D163/00 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/138 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/254 ,  Y10T428/31511

Abstract: Provided are a resin composition which offers both high transparency and a low linear expansion coefficient and can be used as a material for a dry film, and also a dry film obtained from this composition, an optical waveguide, and a photoelectric composite wiring board. The resin composition for an optical waveguide includes: (A) an epoxy resin constituted by a solid epoxy resin with one or less hydroxyl group in a molecule, and a liquid epoxy resin with one or less hydroxyl group in a molecule; (B) a curing agent with one or less hydroxyl group in a molecule; and (C) a nanosize silica sol, and contains no compound including two or more hydroxyl groups in a molecule as a resin component.

公开(公告)号：KR1020130091724A

公开(公告)日：2013-08-19

申请号：KR1020137000875

申请日：2011-07-13

Applicant: 닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤

Inventor： 오오니시미사토 ,  이마이즈미나오코 ,  사카이료 ,  혼다나오 ,  기요야나기다다유키

IPC: G03F7/004 ,  C08G59/06 ,  G03F7/038 ,  H05K3/28

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08G59/687 ,  C08L63/04 ,  C09J163/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0385 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0757 ,  H05K3/287 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0047

Abstract: Disclosed is a photosensitive resin composition containing a cationic photopolymerization initiator (A) and an epoxy resin (B) having two or more epoxy groups in each molecule, which is characterized in that the cationic photopolymerization initiator (A) is a cationic photopolymerization initiator (A-1) that is represented by formula (1).