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公开(公告)号：KR101872469B1
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：KR1020137017358
申请日：2011-11-22
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
IPC: H01L21/324 , H01L21/20 , B23K26/00 , B23K26/04 , H01L21/268
CPC classification number: H01L21/67115 , B23K26/066 , B23K26/0676 , B23K2101/40 , H01L21/02532 , H01L21/0268 , H01L21/02691 , H01L21/477
Abstract: 본발명은 TFT 기판(10) 위에형성된아몰퍼스실리콘막에복수의레이저빔(Lb)를조사하여어닐링처리하는레이저어닐링장치로서, TFT 기판(10) 위의피어닐링영역의형상과서로유사한형상의복수의개구를형성한마스크(3)와, 마스크(3)의복수의개구를각각통과한복수의레이저빔(Lb)을, 한면에형성한복수의마이크로렌즈를통하여 TFT 기판(10) 위에모아서, 아몰퍼스실리콘막에일정한광에너지를부여하는마이크로렌즈기판(4)과, 반원주상의형상을이루어, 마이크로렌즈기판(4)을사이에두고그 양가장자리부의위치에축심을대략평행하게하여마주보고배치되고, 정부가마이크로렌즈의정부의위치보다 TFT 기판(10) 쪽으로돌출된한 쌍의가이드(25)와, 한쌍의가이드(25) 사이에이동가능하게펼쳐서설치되어레이저빔(Lb)를투과하는필름(22)을구비한것이다. 이에의하여, 레이저빔의조사에너지의유지관리가용이하고, 또한조사패턴의형상흐트러짐을억제한다.
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公开(公告)号：KR101820999B1
公开(公告)日：2018-01-22
申请号：KR1020137005682
申请日：2011-07-15
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Inventor： 미즈무라미치노부
IPC: H01L21/027 , G02B3/00 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70275 , G02B3/0006 , G03F9/703 , G03F9/7088
Abstract: 마이크로렌즈어레이와마스크가소정간격을두고고정된노광장치에있어서, 마이크로렌즈어레이와노광용기판사이의갭을용이하게고정밀도로마이크로렌즈의합 초점위치에조정할수 있는마이크로렌즈노광장치를제공한다. 노광용의레이저광은마이크로렌즈어레이(3)의마이크로렌즈(3a)에의해레지스트막(2) 위로조사된다. 현미경(10)으로부터의광은마스크(4)의 Cr막(5)의구멍(5b)을통과하고, 마이크로렌즈(3b)를투과해서레지스트막(2) 위로조사된다. 이마이크로렌즈(3b)를투과한광이레지스트막(2) 위에서합 초점인지아닌가를현미경(10)으로관찰함으로써, 마이크로렌즈(3a)에의해레지스트막(2)에수렴되는노광광의합 초점을판별할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170102238A
公开(公告)日：2017-09-08
申请号：KR1020177016801
申请日：2016-01-06
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Inventor： 미즈무라미치노부
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G02B26/10 , G02B3/0037 , G03F7/2008 , G03F7/70241 , G03F7/70275 , G03F7/70358 , H01L21/027 , G03F7/70258 , G03F7/2004
Abstract: 마이크로렌즈어레이를일 방향으로주사하면서, 마스크의마스크패턴을기판상에투영노광하는투영노광장치에있어서, 마이크로렌즈에결함이나불량이존재하는경우에도현저한노광불균일이발생하지않도록한다. 투영노광장치(1)는, 기판(W)의일단으로부터타단을향한주사방향(Sc)을따라마이크로렌즈어레이(2)를이동시키는주사노광부(10)와, 주사노광부(10)에의한마이크로렌즈어레이(2)의이동중에, 마이크로렌즈어레이(2)를주사방향(Sc)과교차하는시프트방향(Sf)으로이동시키는마이크로렌즈어레이시프트부(20)를구비한다.
Abstract translation: 在扫描微透镜阵列在一个方向上，在投影曝光装置的基片，微透镜上的掩模的掩模图案的投影曝光中，即使缺陷或缺陷存在，使得显著不均匀曝光发生。 投射曝光设备1中，以在基板（W），扫描曝光部10，沿朝向移动所述微透镜阵列的另一端的扫描方向（Sc）中的一端10的扫描曝光部分（2）的 微透镜阵列（2），和微透镜阵列的运动期间（2），扫描方向（Sc）中矫汽车微透镜阵列移单元20在移动方向（SF）向移动。
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公开(公告)号：KR1020160053908A
公开(公告)日：2016-05-13
申请号：KR1020167002005
申请日：2014-09-09
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Inventor： 미즈무라미치노부
CPC classification number: C23C14/185 , C23C14/042 , C23C14/086 , C23C14/34
Abstract: 패턴형성방법은대상물면 위에형성하는패턴을분할한개구패턴을가진복수의스퍼터용마스크를사용하여복수회스퍼터성막하고 (S3, S5), 복수의스퍼터용마스크로각각성막한패턴을합성하여단일의패턴을형성하는것을특징으로한다. 대상물면 위에패턴을직접스퍼터성막함으로써, 노광공정과현상공정이불필요하게된다. 또한, 대상물면 위에형성하는패턴을분할함으로써, 스퍼터용마스크의변형이나어긋남등이발생하기어렵다.
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公开(公告)号：KR1020150143426A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：KR1020157024251
申请日：2014-03-31
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
IPC: H01L51/00 , C23C14/04 , H01L21/203 , H01L51/56
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/0011
Abstract: 본발명은슬릿형태의복수의관통공(5)를병렬로나열하여가지는시트형태의자성금속부재(2)의한 면에수지제의필름(3)을밀접접촉시킨구조를가지고, 상기각 관통공(5) 내의상기필름(3)의부분에관통하는복수의개구패턴(6)을형성한성막마스크(1)로서, 상기필름(3)은선팽창계수가직교하는 2축에서다른이방성을가지고, 상기자성금속부재(2)의상기관통공(5)의장축에교차하는방향으로상기필름(3)의선팽창계수가작은축을맞춘것이다.
Abstract translation: 本发明具有树脂膜（3）与具有多个平行排列的狭缝状通孔（5）的片状磁性金属构件（2）的表面紧密接触的结构， （3）在膜（3）的线膨胀系数正交的两个轴上具有不同的各向异性，以及多个开口图案（6） 并且膜（3）的轴线在与磁性金属构件（2）的通孔（5）的设计轴线交叉的方向上具有较小的线性膨胀系数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150105309A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：KR1020157016255
申请日：2013-12-10
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
IPC: H01L31/09 , H04B10/80 , H01L31/02 , H01L31/055 , H01L31/18
CPC classification number: H04B10/803 , H01L31/173
Abstract: 기판 상에서의 발광 소자 또는 수광 소자의 얼라이먼트 정밀도를 높이고, 하나의 기판을 중계하여 광신호의 송수신을 행하는 경우에도 비교적 간이한 제조 공정으로 형성할 수 있으며, 발광 소자 또는 수광 소자를 고밀도로 배치한 경우이더라도 기판 간 신호 전송의 크로스토크를 억제한다. 적층 배치된 복수의 반도체 기판(10) 사이에서 광신호의 송수신을 행하는 광 인터커넥션 장치(1)로서, 하나의 반도체 기판(10)에 배치된 발광 소자(2) 또는 수광 소자(3)는, 반도체 기판(10)을 공통의 반도체층으로 하는 pn접합부(10pn)를 구비하고, 또한 반도체 기판(10)의 일면측에 형성되며, 상이한 반도체 기판(10) 사이에서 광신호의 송수신을 행하는 한 쌍의 발광 소자(2)와 수광 소자(3)는, 그 발광 소자(2)에서 발광한 광이 반도체 기판반도체 기판하여 그 수광 소자(3)에서 수광된다.
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公开(公告)号：KR1020130058011A
公开(公告)日：2013-06-03
申请号：KR1020127030986
申请日：2011-04-15
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Inventor： 미즈무라미치노부
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , B23K26/067 , B23K26/06
CPC classification number: B23K26/38 , B23K26/0676 , B23K26/382 , B23K26/40 , B23K26/402 , B23K2203/50
Abstract: 본 발명은, 프린트 배선 기판(9)에 레이저 광(L)을 조사하여 프린트 배선 기판(9) 상에 미리 정해진 복수 위치에 각각 구멍(22)을 가공하는 레이저 가공 장치이며, 레이저 광(L)의 광로상에서, 그 상류측으로부터 레이저 광(L)의 강도 분포를 균일화하는 제2 플라이 아이 렌즈(6)와, 제2 플라이 아이 렌즈(6)를 사출한 레이저 광(L)을 평행광으로 하는 제2 콘덴서 렌즈(7)와, 프린트 배선 기판(9)에 대향하여 배치되고, 프린트 배선 기판(9) 상의 상기 복수 위치에 대응하여 복수의 마이크로 렌즈(19)를 형성한 마이크로 렌즈 어레이(8)를 구비한 것이다. 이에 의해, 복수의 펀칭 가공의 위치 정밀도를 향상시키는 동시에 펀칭 가공의 택트를 단축한다.
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公开(公告)号：KR101200690B1
公开(公告)日：2012-11-12
申请号：KR1020077007765
申请日：2005-10-25
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Inventor： 미즈무라미치노부
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133516
Abstract: 액체재료 공급장치는, 다른 액체재료가 각각 충전된 복수의 디스펜서(26)를 갖고 지지체에 지지된 액체재료 토출부(7)와, 각 디스펜서(26) 내의 액체재료에 가스압을 인가하여 디스펜서(26)의 선단으로부터 미소량의 액체재료를 토출시키는 압력인가 기구와, 지지체와 컬러필터(피토출체)(W)를 고정한 테이블을 X, Y, Z축 방향으로 상대적으로 이동시켜, 액체재료 토출부(7)를 컬러필터(W)의 액체재료 도포 위치(P)로 이동시키는 구동장치를 구비하고, 액체재료 토출부(7)에는, 복수의 디스펜서(26)의 하나를 선택하여 그 선단부를 컬러필터(W) 상의 소정의 액체재료 토출 위치(액체재료 도포 위치)(P)에 이동 위치 결정시키는 디스펜서 교환기구(27)가 설치되어 있다.
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公开(公告)号：KR20210019117A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：KR20217003927
申请日：2014-12-04
Applicant: 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
Inventor： 미즈무라미치노부
IPC: C23C14/04 , H01L21/027
Abstract: 본발명은수지제의필름(20)에레이저광(L)을조사하여평면에서보았을때 다각형인개구패턴(4)을형성하는성막마스크의제조방법에있어서, 상기레이저광이투과하는투광창(18)을가지고, 이투광창(18)의외측에서, 이투광창(18)의적어도한 대변의측방영역에서의광 투과율을상기투광창의가장자리부로부터측방을향하여점차감소시킨빔 정형용마스크(10)를사용하여정형된레이저광(L)을상기필름(20)에조사하여개구가상기필름(20)의상기레이저광(L)의조사면과는반대측으로부터상기조사면측을향하여넓어지도록경사진적어도한 쌍의대향측벽(4a)을가진개구패턴(4)을형성하는것이다.
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