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459 条记录 (耗时 0.036 秒)

    이미지 투영 장치 및 방법
    2.
    发明授权
    이미지 투영 장치 및 방법 有权

    公开(公告)号：KR101849930B1

    公开(公告)日：2018-05-30

    申请号：KR1020127020536

    申请日：2011-01-03

    申请人： 코닌클리케 필립스 엔.브이.

    发明人： 즈나멘스키드미트리니콜라이비치

    IPC分类号： H04N9/31 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70358 ,  G03F7/70308 ,  H04N9/317 ,  H04N9/3185

    摘要： 이미지투영장치는이미지를물체의표면(603)으로투영하는광 투영기(605)를포함한다. 초점프로세서(609)는상기이미지를이미지평면(607) 상에초점을맞추도록배열되며제어기(611)는상기표면(603)에관하여상기이미지평면(607)의위치를동적으로변화시킨다. 움직임은미리정해진주기적움직임일수 있으며상기표면은구체적으로비-평면표면일수 있다. 상기움직임은거리와관계없이블러링효과를초래할수 있으며, 구체적으로는투영될상기이미지의사전-필터링에의해사전보상될수 있는블러링효과를제공할수 있다. 본발명은예로서, 비-평면또는이동표면상에투영된이미지와같은, 투영된이미지의개선된품질을허용할수 있다.

    갠트리 장치 및 제어 방법
    3.
    发明公开
    갠트리 장치 및 제어 방법 审中-实审
    龙门装置和控制方法

    公开(公告)号：KR1020170091584A

    公开(公告)日：2017-08-09

    申请号：KR1020177010971

    申请日：2015-08-14

    申请人： 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드

    发明人： 한,천양

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/7085

    摘要： 갠트리장치및 제어방법이개시된다. 갠트리장치는, 지지장치; 갠트리커플링메커니즘을통해상기지지장치상에배열되는갠트리바디(8); 상기갠트리바디(8) 상에모두배치되는센싱요소들(2, 50 및스캐닝검류계(4); 상기지지장치상에배열되는센싱요소(3); 및상기스캐닝검류계(4) 및갠트리바디(8) 사이에배치되고, 상기스캐닝검류계(4)의수직이동을지지하도록구성된수직액에이터(6)를포함한다. 상기갠트리바디(8) 및갠트리커플링메커니즘의조합은갠트리바디가수평및 수직으로이동할수 있게한다. 스캐닝검류계(4)의높이를측정하는센싱요소(5)의미리설정된수직값은센싱요소들(2, 3, 5)의측정결과들에기초하여결정되고, 스캐닝검류계(4)는이동되고, 스캐닝검류계(4)의광학초점은타겟포인트로조정된다.

    摘要翻译： 公开了一种龙门装置和控制方法。 龙门架装置包括：支撑装置; 门架本体（8），其经由门架联接机构布置在所述支撑装置上; 检测元件2和50以及扫描检流计4均安装在机架本体8上，检测元件3设置在支撑装置4上，扫描检流计4和机架本体8 垂直搅拌器6构造成支持扫描振镜4的垂直运动。龙门体8和龙门联结机构的组合允许龙门体水平和垂直移动 测量扫描振镜4的高度的传感元件5基于传感元件2,3和5以及扫描振镜4的测量结果来确定 被移动，并且扫描振镜4的光学焦点被调整到目标点。

    마이크로 렌즈 어레이를 사용한 스캔 노광 장치
    4.
    发明授权
    마이크로 렌즈 어레이를 사용한 스캔 노광 장치 有权
    使用微透镜阵列扫描曝光装置

    公开(公告)号：KR101761976B1

    公开(公告)日：2017-07-26

    申请号：KR1020137006840

    申请日：2011-07-22

    申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디

    发明人： 미즈무라미치노부

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B5/20 ,  G02F1/13

    CPC分类号： G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358

    摘要： 마이크로렌즈어레이를사용한노광장치에있어서, 노광장치특성및 온도조건등의제조조건의변동에기인하여, 피노광기판의크기의변동이발생해도, 마스크패턴의상을소정위치에맞출수 있는마이크로렌즈어레이를사용한스캔노광장치를제공한다. 스캔노광장치는, 복수개의마이크로렌즈어레이(2)가, 노광해야할 기판(1)의상방에, 스캔방향에수직한방향으로배열되어지지기판에지지되어있다. 그리고, 각마이크로렌즈어레이는, 그배열방향에대하여, 노광기판에평행한방향으로부터경사시킬수 있도록지지기판에지지되어있다. 이들의마이크로렌즈어레이의경사각도는상기배열방향에관하여, 서서히커지거나또는작아지도록구성되어있다.

    摘要翻译： 在使用微透镜阵列，曝光装置特性和温度条件下，例如微透镜阵列，其中由于制造条件上即使出现黑接收器板的尺寸变化的偏差，matchulsu，预定的掩模图案的服装位置的曝光装置 由此提供使用过的扫描曝光设备。 的扫描曝光装置中，多个微透镜阵列（2）的，基板1由装备室支承，阵列基板在垂直扫描方向上在一个方向上需要曝光支撑。 每个微透镜阵列被支撑在支撑基板上以相对于排列方向从平行于曝光基板的方向倾斜。 这些微透镜阵列的倾斜角度被配置为相对于排列方向逐渐增大或减小。

    노광 방법 및 노광 장치
    5.
    发明授权
    노광 방법 및 노광 장치 有权
    曝光方法和曝光装置

    公开(公告)号：KR101707263B1

    公开(公告)日：2017-02-15

    申请号：KR1020127018417

    申请日：2010-11-29

    申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디

    发明人： 가지야마고이찌 ,  아라이도시나리

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70533

    摘要： 본발명은피노광체를일방향으로일정속도로반송하면서상기피노광체의반송방향으로소정간격으로배치된제1 및제2 노광영역마다다른노광패턴을형성하는노광방법이며, 각노광패턴에대응하는제1 및제2 마스크패턴군을피노광체의반송방향으로소정간격으로배열하여형성한포토마스크의제1 마스크패턴군에의한피노광체의제1 노광영역에대한노광이종료되면, 포토마스크를소정거리만큼이동하여제1 마스크패턴군으로부터제2 마스크패턴군으로전환하는단계와, 제2 마스크패턴군에의해피노광체의제2 노광영역에대한노광을실행하는단계를갖고, 제1 및제2 마스크패턴군의전환시에있어서의피노광체의이동거리가포토마스크의이동거리보다도길어지도록포토마스크의이동속도를제어하는것이다.

    摘要翻译： 曝光方法包括将光掩模移动预定距离并将第一掩模图案组切换到第二掩模图案组的步骤，当暴露于由光掩模的第一掩模图案组曝光的对象上的第一曝光区域时 通过在待曝光物体的传送方向上以预定间隔布置与曝光图案相对应的第一和第二掩模图形组而形成的步骤，以及对被曝光物体上的第二曝光区域进行曝光的步骤 通过第二掩模图案组，其中控制光掩模的移动速度，使得待切割的对象的移动距离在切换第一和第二掩模的时间段内比光掩模的移动距离长 模式组。

    액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법
    7.
    发明授权
    액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법 有权
    用于提供流体液体的设备和方法

    公开(公告)号：KR101590686B1

    公开(公告)日：2016-02-01

    申请号：KR1020137016869

    申请日：2004-07-16

    申请人： 가부시키가이샤 니콘

    发明人： 푼알렉스카팀 ,  코레너드와이펑

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/708 ,  G03F7/70858

    摘要： 본발명의실시형태는액침리소그래피에대한안정적인조건을제공하기위해유체플로우와압력을제어하는시스템과방법에관한것이다. 유체는액침리소그래피프로세스동안에렌즈 (22) 와기판 (16) 사이의공간 (34) 에제공된다. 유체는공간과유체적으로연결된다공성부재 (51) 를통하여공간으로공급되고, 공간으로부터회수된다. 다공성부재내의압력을다공성부재의버블포인트이하로유지함으로써유체회수동안유체와공기를혼합하여생성된잡음을제거할수 있다. 일실시형태에서, 그방법은공간으로부터유체를다공성부재를통하여회수플로우를경유하여인출하는단계, 및공간으로부터유체를인출하는동안, 다공성부재내의유체압력을다공성부재의버블포인트이하로유지시키는단계를포함한다.

    노광 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
    8.
    发明授权
    노광 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법 有权

    公开(公告)号：KR101533143B1

    公开(公告)日：2015-07-01

    申请号：KR1020127005302

    申请日：2010-08-24

    申请人： 가부시키가이샤 니콘

    发明人： 시바자키유이치

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00

    CPC分类号： G03F7/20 ,  G01B11/27 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/70 ,  H01L21/681 ,  Y10T29/49002

    摘要： 스테이지 (WST1) 상에탑재된 4 개의헤드 (60~ 60) 중, 서로다른 1 개의헤드를포함하는 3 개의헤드가각각속하는제 1 헤드군과제 2 헤드군에포함되는헤드가스케일판상의대응하는영역에대향하는영역 (A) 내에서, 제 1 헤드군을사용하여얻어지는위치정보에기초하여스테이지 (WST1) 를구동하는것과함께, 제 1 및제 2 헤드군을사용하여얻어지는위치정보를사용하여제 1 및제 2 헤드군에대응하는제 1 및제 2 기준좌표계 (C, C) 간의변위 (위치, 회전, 스케일링의변위) 를구한다. 그결과를사용하여제 2 헤드군을사용하여얻어지는계측결과를보정하는것에의해, 제 1 및제 2 긱준좌표계 (C, C) 간의변위가교정되고, 4 개의헤드 (60~ 60) 의각각이대향하는스케일판상의영역의상호간의변위에수반하는계측오차가보정된다.

    스캔 앤 스텝 노광기
    9.
    发明授权
    스캔 앤 스텝 노광기 有权
    扫描和步骤曝光系统

    公开(公告)号：KR101464706B1

    公开(公告)日：2014-11-28

    申请号：KR1020140089707

    申请日：2014-07-16

    申请人： 마이다스시스템주식회사

    发明人： 이곤철 ,  민흥기 ,  이준형 ,  전재근

    IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70808 ,  H01L21/0274

    摘要： 본 발명은 스캔 앤 스텝 노광기에 관한 것으로, 특히 본 발명은 노광모듈이 스캔방식으로 연속하거나 반복적으로 스텝 이송하면서 1회의 노광작업으로 회로 패턴을 형성할 수 없는 큰 규격의 피노광체(필름, 웨이퍼 등)를 전체적으로 균일하게 노광하는 신개념의 기술에 관한 것이다.
    종래에 개시된 노광장치는 노광모듈이 정해진 위치에 고정 설치됨으로써 노광모듈의 제품 사양에 따라 노광할 수 있는 피노광체의 규격이 제한되어 상기 노광모듈의 사양보다 긴 길이의 피노광체를 1회작업으로 노광할 수 없어 노광장치의 활용도가 저하되고, 상기 긴 길이의 피노광체를 1회작업으로 노광하기 위해서는 상기 노광모듈의 규격이 과도하게 비대해져야만 하는 불합리가 따르게 된다.
    본 발명은 이러한 문제점을 해소하기 위한 방안으로 외부로 인출한 척 트레이에 피노광체를 흡착시킨 후 상기 척 트레이를 마스크 홀더의 하측으로 투입하고, 상기 마스크 홀더의 상단에는 회로 패턴이 형성된 필름마스크가 흡착 고정된 글라스 베이스를 탑재하며, 상기 마스크 홀더를 상하로 이동하면서 상기 글라스 베이스 및 피노광체 상호 간의 갭을 조절하는 한편, 상기 마스크 홀더의 상부에 위치한 노광모듈을 횡방향을 따라 스캔방식으로 연속하여 이송하거나 반복적으로 스텝 이동하면서 노광할 수 있도록 함을 발명의 특징으로 한다.

    摘要翻译： 本发明涉及一种扫描和台阶曝光器，更具体地说，涉及一种新概念技术，其中光曝光模块通过执行光曝光工作一次完全地并且均匀地暴露出没有电路图案的大的暴露物体（膜，晶片） ，同时连续或反复进入扫描类型。 对于现有的曝光装置，由于曝光模块固定在设定位置，因此可曝光对象的标准根据曝光模块的规格而受到限制，因此曝光对象的曝光对象的可用性会降低 比曝光模块长不能用一次性工作曝光。 并且通过一次性工作将较长时间的曝光物体暴露在光下，光曝光模块的标准需要过大，这是不合理的。 为了解决这个问题，本发明能够将暴露的物体附着到被取出的卡盘托架上之后，将卡盘托盘插入到掩模座的下侧，包括具有附接有电路图案的膜掩模的玻璃基座 在掩模支架的上部，并且通过在掩模支架的上部扫描中连续地转移或重复地步进曝光模块，同时通过上下移动掩模支架来控制玻璃基座和曝光物体之间的间隙 在横向方向。