고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
    1.
    发明授权
    고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 有权
    聚合物,抗蚀剂组合物和图案化工艺

    公开(公告)号:KR100670089B1

    公开(公告)日:2007-01-17

    申请号:KR1020020007676

    申请日:2002-02-09

    IPC分类号: G03F7/004

    摘要: 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 포함하는 고분자 화합물에 관한 것이다. 또한, 본 발명의 고분자 화합물을 기재 수지로 한 레지스트 재료는 고에너지선에 감응하고, 감도, 해상성, 에칭 내성이 우수하다.


    식 중, R
    1 , R
    2 는 H 또는 CH
    3 , R
    3 , R
    4 는 H 또는 1가의 탄화수소기, R
    5 내지 R
    8 은 H, OH, 또는 1가의 탄화수소기, R
    9 , R
    10 은 H 또는 CH
    3 , R
    11 내지 R
    14 는 H 또는 1가의 탄화수소기, R
    15 는 H, CH
    3 또는 CH
    2 CO
    2 R
    17 , R
    16 은 H, CH
    3 또는 CO
    2 R
    17 , R
    17 은 알킬기, R
    18 은 H 또는 1가의 탄화수소기, R
    19 는 1가의 탄화수소기, R
    20 은 알킬기, R
    21 은 산불안정기, x1, x2, x3, a, b, c는 0 이상의 수, d는 0을 초과하는 수이며, x1, x2, x3이 동시에 모두 0이 되는 경우는 없다.
    고분자 화합물, 레지스트 재료, 감도, 해상성, 에칭 내성

    摘要翻译: 通过使(甲基)丙烯酸衍生物与乙烯基醚化合物,烯丙基醚化合物和含氧脂环族烯烃化合物共聚得到新的聚合物。 包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物对高能辐射敏感,具有优异的灵敏度,分辨率,耐腐蚀性和最小化的溶胀,并且使其自身具有电子束或深UV的微图形化。

    고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
    2.
    发明公开
    고분자 화합물, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 有权
    聚合物,耐腐蚀组合物和方法

    公开(公告)号:KR1020020070792A

    公开(公告)日:2002-09-11

    申请号:KR1020020007676

    申请日:2002-02-09

    IPC分类号: G03F7/004

    摘要: PURPOSE: Provided are a polymer having improved reactivity, robustness and substrate adhesion as well as minimized swell during development, a resist composition comprising the polymer as a base resin, which has the advantages of high reactivity of acid-decomposable groups and good substrate adhesion and give relatively satisfactory results with respect to sensitivity and resolution, and a patterning process using the resist composition. CONSTITUTION: The polymer comprises recurring units of the formula(1) and has a weight average molecular weight of 1,000 to 500,000. In the formula, R1 and R2 each are hydrogen or methyl, R3 and R4 each are hydrogen or monovalent hydrocarbon, each of R5 to R8 is hydrogen, a hydroxyl group or monovalent hydrocarbon, R9 and R10 each are hydrogen or methyl, each of R11 to R14 is hydrogen or monovalent hydrocarbon, R15 is hydrogen, methyl or CH2CO2R17, R16 is hydrogen, methyl or CO2R17, R17 is an alkyl group, R18 is hydrogen or monovalent hydrocarbon, R19 is monovalent hydrocarbon, R20 is an alkyl group, R21 is an acid labile group, k is 0 or 1, x1, x2, x3, a, b, c and d represent a molar compositional ratio of the recurring units associated therewith, satisfying x1+x2+x3+a+b+c+d=1, x1, x2, x3, a, b and c are numbers inclusive of 0, d is a number of more than 0, all of x1, x2 and x3 are not equal to 0 at the same time.

    摘要翻译: 目的:提供了具有改进的反应性,稳固性和底物粘合性以及显影期间的最小化膨胀的聚合物,包含作为基础树脂的聚合物的抗蚀剂组合物,其具有酸可分解基团的高反应性和良好的底物粘合性和 在灵敏度和分辨率方面给出相对满意的结果,以及使用抗蚀剂组合物的图案化工艺。 构成:聚合物包含式(1)的重复单元,其重均分子量为1,000至500,000。 在该式中,R 1和R 2各自为氢或甲基,R 3和R 4各自为氢或一价烃,R 5至R 8各自为氢,羟基或一价烃,R 9和R 10各自为氢或甲基,R 11 R14是氢或一价烃,R15是氢,甲基或CH2CO2R17,R16是氢,甲基或CO2R17,R17是烷基,R18是氢或一价烃,R19是一价烃,R20是烷基,R21是 酸不稳定基团,k为0​​或1,x1,x2,x3,a,b,c和d表示与其相关的重复单元的摩尔组成比,满足x1 + x2 + x3 + a + b + c + d = 1,x1,x2,x3,a,b和c是包含0的数字,d是大于0的数,x1,x2和x3的全部不同时为0。