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    필라멘트 램프 및 광 조사식 가열 처리 장치
    2.
    发明授权
    필라멘트 램프 및 광 조사식 가열 처리 장치 有权
    灯具灯和光照射式加热加工设备

    公开(公告)号：KR101004871B1

    公开(公告)日：2010-12-28

    申请号：KR1020070055533

    申请日：2007-06-07

    申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤

    发明人： 미즈카와요이치 ,  기타가와데츠야 ,  스즈키신지

    IPC分类号： H01K5/02

    CPC分类号： H01K7/00 ,  H01K1/16 ,  H01K1/24 ,  H01K9/08 ,  H05B3/0047

    摘要： 본 발명은 복수의 필라멘트의 발광 상태가 독립적으로 제어되어 원하는 방사 조도 분포를 얻을 수 있고, 또한, 대전력을 필라멘트에 투입한 경우라 하더라도, 서로 이웃하는 필라멘트체에 있어서의 서로 근접하는 부분에서 원하지 않는 방전의 발생이 확실하게 방지되는 필라멘트 램프 및 피처리체를 균일하게 가열할 수 있는 광 조사식 가열 처리 장치의 제공을 목적으로 한다.
    필라멘트 램프는, 발광관의 내부에, 각각 필라멘트와 리드로 이루어진 필라멘트체의 복수가 관축 방향으로 차례로 병설되어 이루어지고, 서로 이웃하는 필라멘트체의 서로 근접하는 단부들이 동일 위상이 되도록 각 필라멘트에 각각 독립적으로 교류 전력이 공급되는 구성, 혹은 서로 이웃하는 필라멘트체의 서로 근접하는 단부들이 동일 극성이 되도록 각 필라멘트에 각각 독립적으로 직류 전력이 공급되는 구성으로 되어 있다. 광 조사식 가열 처리 장치는, 해당 필라멘트 램프를 구비하여 이루어진다.

    광 조사식 가열 처리 장치
    3.
    发明公开
    광 조사식 가열 처리 장치 无效
    轻型照明式加热加工设备

    公开(公告)号：KR1020090031975A

    公开(公告)日：2009-03-31

    申请号：KR1020080065833

    申请日：2008-07-08

    申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤

    发明人： 스즈키신지 ,  나카시마아키노부

    IPC分类号： H01L21/324

    CPC分类号： H01L21/67109 ,  H01L21/67115

    摘要： A light illuminating type heating processing apparatus is provided to heat the processed article with the desired temperature distribution without the degradation of the function of the back mirror by supplying or exhausting cooling air to the filament lamp through the opening of the back mirror. The light is radiated from a plurality of filament lamps(21). The light is reflected with the back mirror to the processed article. The light is irradiated through the light coupling window in the processed article. The heating processing is performed on the processed article. At this time, the cooling air supplying mechanism supplies the cooling air to the filament lamp. The cooling airflow passes through the opening(26) of the back mirror. The reflector(30) of breathable covers the opening of the cooling air.

    摘要翻译： 提供了一种光照式加热处理装置，其通过将后视镜的开口供给或排出冷却空气而使所需的温度分布加热而不会降低背面镜的功能。 光从多个白炽灯（21）辐射。 光被后视镜反射到处理物品。 通过加工制品中的光耦合窗照射光。 对加工品进行加热处理。 此时，冷却空气供给机构将冷却空气供给到白炽灯。 冷却气流穿过后视镜的开口（26）。 透气的反射器（30）覆盖冷却空气的开口。

    노광 방법 및 장치
    5.
    发明公开
    노광 방법 및 장치 失效
    曝光方法和装置

    公开(公告)号：KR1020030035919A

    公开(公告)日：2003-05-09

    申请号：KR1020020063876

    申请日：2002-10-18

    申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤

    发明人： 스즈키신지

    IPC分类号： H01L21/027

    CPC分类号： G03F9/7076 ,  G03F7/2026 ,  G03F9/00

    摘要： PURPOSE: To solve the problem wherein an alignment mark becomes is difficult to be detected even when the alignment mark is provided on the peripheral part of a wafer. CONSTITUTION: The alignment mark is formed on a surface, the peripheral part has a singular point, the wafer W applied with photoresist is mounted on a rotary stage 6, and the edge position of the wafer W and the singular point, e.g. a notch or the like, is detected by a singular point and edge position detection means 4. A control part 50 operates the position of a alignment mark of the wafer W mounted on the rotary stage 6 from position information of the alignment mark formed on the wafer W, the singular point and the edge position. On the basis of the calculation results, an irradiation area of exposure light is matched with the position of the alignment mark on the wafer W, and the photoresist applied on the alignment mark is exposed. The exposure is performed whenever a pattern is formed on a substrate, and a film formed on the alignment mark is removed.

    摘要翻译： 目的：为了解决即使在晶片的周边部设置对准标记的情况下也难以检测出对准标记的问题。 构成：对准标记形成在表面上，周边部分具有奇异点，施加有光致抗蚀剂的晶片W安装在旋转台6上，并且晶片W的边缘位置和奇异点，例如， 通过奇点和边缘位置检测装置4检测出凹口等。控制部分50根据形成在旋转台6上的对准标记的位置信息来操作安装在旋转台6上的晶片W的对准标记的位置 晶圆W，奇异点和边缘位置。 基于计算结果，曝光光的照射面积与晶片W上的对准标记的位置一致，曝光在对准标记上的光致抗蚀剂。 每当在基板上形成图案时进行曝光，并且去除在对准标记上形成的膜。

    형광체의 검사 방법 및 장치
    6.
    发明公开
    형광체의 검사 방법 및 장치 无效
    磷光体检测方法与装置

    公开(公告)号：KR1020030033939A

    公开(公告)日：2003-05-01

    申请号：KR1020020063875

    申请日：2002-10-18

    申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤

    发明人： 스즈키신지 ,  야마다사유

    IPC分类号： G01N21/64

    CPC分类号： G01N21/643 ,  G01N21/6456

    摘要： PURPOSE: To easily inspect an applied condition of a phosphor in a short time by increasing an emission quantity of red light to equal with those of green and blue lights. CONSTITUTION: A short-arc type discharge lamp 11a sealed with cadmium and rare gas in a light emitting tube and having a luminescent line between 200 nm-230 nm is used as a light source. Light from the light source 11a is emitted to the phosphor of a specimen 10 such as an image displaying substrate, fluorescent light generated in the phosphor is received by a CCD sensor 15, and displayed on a display part 17 to inspect the applied condition such as a defect of the phosphor. An image photo-received by the CCD camera 15 is allowed to be input to a controller or the like so as to automate the inspection. A dielectric barrier excimer discharge lamp provided with an electrode for conducting dielectric barrier discharge and a discharge container filled with krypton gas and chlorine gas, and having a luminescent line between 200 nm-230 nm is allowed to be used as the lamp 11a.

    摘要翻译： 目的：通过将红光的排放量增加到与绿灯和蓝光相同的方式，在短时间内容易地检测荧光体的使用状况。 构成：使用在发光管中用镉和稀有气体密封并具有200nm〜230nm的发光线的短弧型放电灯11a作为光源。 来自光源11a的光被发射到诸如图像显示基板的样本10的荧光体，由CCD传感器15接收在荧光体中产生的荧光，并且显示在显示部分17上以检查诸如 荧光体的缺陷。 允许由CCD照相机15照片接收的图像被输入到控制器等，以便使检查自动化。 可以使用设置有用于导电介质阻挡放电的电极和填充有氪气和氯气的放电容器并且具有200nm-230nm之间的发光线的介质阻挡准分子放电灯作为灯11a。

    광조사식 가열장치의 냉각구조
    7.
    发明公开
    광조사식 가열장치의 냉각구조 无效
    光束辐射加热装置的冷却结构

    公开(公告)号：KR1020000017153A

    公开(公告)日：2000-03-25

    申请号：KR1019990032348

    申请日：1999-08-06

    申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤

    发明人： 스즈키신지 ,  미노베다케시

    IPC分类号： H01L21/26

    CPC分类号： H01L21/67115

    摘要： PURPOSE: A cooling structure of a beam irradiation heating device is provided to control easily temperature generated from each portion of a lamp though a wafer is heated about 800 to 1200 degrees centigrade. CONSTITUTION: The cooling structure of a beam irradiation heating device comprises: a mirror(5) having a penetration hole(16) to reflect beam from a radiation tube portion of a lamp(4) and to connect an introduction tube portion(8) and a seal portion(11) of the lamp; a cover room(15) further comprising a plate having a penetration hole and a cover(14) having a cooled air entrance(17); a wind duct(13) installed between the plate of the cover room and the mirror; and an air exhauster for exhausting the wind from the cooled air entrance to the penetration hole of the plate, the wind duct, and from the cooled air entrance of a beam irradiation room(1) to the beam irradiation room, the penetration hole of the mirror, the wind duct.

    摘要翻译： 目的：提供一种束照射加热装置的冷却结构，以便容易地控制灯的各部分产生的温度，尽管晶片被加热到约800至1200摄氏度。 构成：束照射加热装置的冷却结构包括：具有穿透孔（16）的反射镜（5），用于反射来自灯（4）的辐射管部分的光束，并将导入管部分（8）和 灯的密封部分（11）; 进一步包括具有穿透孔的板和具有冷却空气入口（17）的盖（14）的盖室（15）; 安装在所述盖室的板和所述反射镜之间的风管（13）; 以及用于将风从冷却空气入口到板，风管的穿透孔以及从照射室（1）的冷却空气入口到射束照射室排出的排气装置， 镜子，风管。

    필라멘트 램프 및 광 조사식 가열 처리 장치
    10.
    发明授权
    필라멘트 램프 및 광 조사식 가열 처리 장치 有权
    灯泡灯和光照射型热处理装置

    公开(公告)号：KR101195666B1

    公开(公告)日：2012-10-30

    申请号：KR1020070117311

    申请日：2007-11-16

    申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤

    发明人： 기타가와데쯔야 ,  미즈카와요이치 ,  스즈키신지

    IPC分类号： H01K1/02 ,  H01L21/324

    CPC分类号： H01K1/16 ,  H01K7/00 ,  H01K9/08 ,  H01L21/67115 ,  H05B3/0047

    摘要： 필라멘트에 대전력이 투입 가능하고, 원하는 광 방사 조도 분포를 확실히 얻을 수 있는 필라멘트 램프, 및 피처리체상의 광 방사 조도 분포 및 피처리체의 가열 처리에 불균일함이 생기지 않는 광 조사식 가열 처리 장치를 제공한다.
    필라멘트 램프는, 적어도 일단에 밀봉부가 형성된 장관 모양의 발광관 내부에, 각각 코일 모양의 필라멘트와 리드로 이루어진 복수의 필라멘트체가, 각 필라멘트가 발광관의 관축을 따라 늘어나도록 순차 설치되어 각 필라멘트에 대하여 독립적으로 급전 가능하게 구성되어 있고, 발광관의 관축과 직교하는 단면에 있어서, 필라멘트에 대하여 직교하는 2개의 외접선과 발광관의 관벽에 의하여 둘러싸인, 적어도 필라멘트를 포함한 영역 이외의 영역에, 다른 필라멘트와 관련된 리드 모두가 위치되어 있다. 광 조사식 가열 처리 장치는, 상기 필라멘트 램프를 구비한다.