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公开(公告)号:KR1020150133820A
公开(公告)日:2015-11-30
申请号:KR1020157030458
申请日:2013-12-10
申请人: 캐논 아네르바 가부시키가이샤
IPC分类号: H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/305
CPC分类号: H01J37/3053 , B08B3/08 , H01J27/024 , H01J37/063 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/061 , H01J2237/0815 , H01J2237/083 , H01J2237/3151
摘要: 이온빔처리장치의사용에의해, 전극어셈블리가갖는전극에부착된부착물에대해, 반응성을이용한선택적인제거를행하는것을가능케하는이온빔처리장치를제공한다. 이온빔처리장치는, 이온발생실과, 처리실과, 이온발생실에서발생한이온을처리실로끌어내서이온빔을형성하기위한전극을구비한다. 당해전극은, 이온발생실측에배치되며, 이온을통과시키기위한이온통과구멍을갖는제1 전극과, 당해제1 전극의옆이며, 제1 전극보다처리실에가까운측에배치되며, 이온을통과시키기위한이온통과구멍을갖는제2 전극을포함한다. 제1 전극과제2 전극에대해이온발생실의상기이온발생기에서발생한이온을가속시키도록서로다른전위를인가하기위한전원을구비한다. 제1 전극의재료와제2 전극의재료는서로다르다.
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公开(公告)号:KR101890634B1
公开(公告)日:2018-08-22
申请号:KR1020157030458
申请日:2013-12-10
申请人: 캐논 아네르바 가부시키가이샤
IPC分类号: H01J27/02 , H01J37/08 , H01J37/305
CPC分类号: H01J37/3053 , B08B3/08 , H01J27/024 , H01J37/063 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/061 , H01J2237/0815 , H01J2237/083 , H01J2237/3151
摘要: 이온빔처리장치의사용에의해, 전극어셈블리가갖는전극에부착된부착물에대해, 반응성을이용한선택적인제거를행하는것을가능케하는이온빔처리장치를제공한다. 이온빔처리장치는, 이온발생실과, 처리실과, 이온발생실에서발생한이온을처리실로끌어내서이온빔을형성하기위한전극을구비한다. 당해전극은, 이온발생실측에배치되며, 이온을통과시키기위한이온통과구멍을갖는제1 전극과, 당해제1 전극의옆이며, 제1 전극보다처리실에가까운측에배치되며, 이온을통과시키기위한이온통과구멍을갖는제2 전극을포함한다. 제1 전극과제2 전극에대해이온발생실의상기이온발생기에서발생한이온을가속시키도록서로다른전위를인가하기위한전원을구비한다. 제1 전극의재료와제2 전극의재료는서로다르다.
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