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    멀티 하전 입자빔의 블랭킹 장치, 멀티 하전 입자빔의 블랭킹 방법 및 멀티 하전 입자빔 묘화 장치
    1.
    发明公开
    멀티 하전 입자빔의 블랭킹 장치, 멀티 하전 입자빔의 블랭킹 방법 및 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 审中-实审
    多荷电粒子束下料装置，多荷电粒子束冲裁方法以及多荷电粒子束绘制装置

    公开(公告)号：KR1020170107399A

    公开(公告)日：2017-09-25

    申请号：KR1020170031900

    申请日：2017-03-14

    Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

    Inventor： 마츠모토히로시

    IPC: G03F1/20 ,  G03F1/66 ,  G03F7/20

    CPC classification number: H01J37/045 ,  H01J37/063 ,  H01J37/24 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/30472

    Abstract: 본발명의일 태양의멀티하전입자빔의블랭킹장치는, 하전입자선을이용한멀티빔이통과하는, 어레이배치된복수의통과홀이형성된기판과, 기판상에있어서, 복수의통과홀의각각대응하는통과홀의근방에배치되고, 그라운드전위가아닌기준전위가멀티빔전체의조사영역내에서트랜지스터회로를거치치않고인가된복수의기준전극과, 기판상에있어서, 복수의통과홀의각각대응하는통과홀을사이에두고복수의기준전극의각각대응하는기준전극과대향하는위치에배치되고, 기준전위와기준전위와는상이한제어전위가전환가능하게인가되는복수의스위칭전극과, 기판내에배치되고, 복수의스위칭전극의대응하는스위칭전극에기준전위와제어전위를전환가능하게인가하는, 트랜지스터회로를이용한복수의제어회로를구비한다.

    Abstract translation: 消隐一个多带电粒子束的单元在本发明的实施例中，下基板上形成有多个通使用的带电粒子束的多光束的孔被传递到阵列布局，并在每个相应的多个穿过基板上的孔 它通孔在多个参考电极的配置在通附近的通孔中，施加比接地电位的基准电位的基底而不使整个多光束的辐射区域内的晶体管电路，分别贯通孔对应的多个 eulsa于此与设置在过置位置分别对应于所述多个参考电极，参考电势和参考电势不同的从不同的控制电位被布置在多个开关电极和将被切换的基板的参考电极施加，多个开关 以及多个使用晶体管电路的控制电路，用于可切换地将参考电位和控制电位施加到电极的相应切换电极。

    펨토초 전자 빔 발생 장치 및 방법
    3.
    发明授权
    펨토초 전자 빔 발생 장치 및 방법 失效
    用于产生飞秒电子束的装置和方法

    公开(公告)号：KR100964094B1

    公开(公告)日：2010-06-16

    申请号：KR1020080111238

    申请日：2008-11-10

    Applicant: 포항공과대학교 산학협력단

    Inventor： 박용운 ,  김창범 ,  고인수 ,  이효철

    IPC: H01J37/06 ,  H01J37/065 ,  H01J37/12

    CPC classification number: H01J37/045 ,  H01J3/18 ,  H01J37/063 ,  H01J37/073 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/0432 ,  H01J2237/06333

    Abstract: 펨토초 전자 빔 발생 장치 및 방법이 개시된다.
    음극(cathode)을 통하여 발생되는 전자를 양극(anode)으로 토출하여 전자 빔을 발생하는 전자 빔 발생 장치에 있어서, 상기 음극의 일측에 구비되어 입사되는 레이저를 통과시키는 투과창, 상기 투과창에서 발생된 상기 전자의 위치에 대응하여 상기 양극 상에 형성되는 핀홀, 및 상기 음극의 일측에 구비되어 전기장을 발생함으로써 상기 전자를 가속함과 동시에 상기 핀홀로 집중시키는 포커싱 수단을 포함함으로써, 음극에 위치한 포커싱 수단에 의하여 생성된 전기장에 의하여 전자가 핀홀로 집중됨과 동시에 가속됨으로써 펨토초의 전자 빔을 발생시킬 수 있는 효과를 가진다.
    양극, 음극, 펨토초, femtosecond, 전자 빔

    Abstract translation: 公开了一种用于产生飞秒电子束的装置和方法。 通过将通过阴极发射的电子放电到阳极来产生电子束的装置包括设置在阴极的一侧以允许入射激光通过的透射窗口，形成在阳极上的针孔，使得针孔对应于位置 的发射窗产生的电子，以及设置在阴极一侧的聚焦单元，产生电场以加速并同时将电子集中到针孔。 通过由位于阴极处的聚焦单元产生的电场，电子同时集中并加速到针孔，以产生飞秒电子束。

    전자 빔 컬럼용 4극관 전자 총
    4.
    发明公开
    전자 빔 컬럼용 4극관 전자 총 无效
    用于电子束柱的TETRODE电子枪

    公开(公告)号：KR1020010051486A

    公开(公告)日：2001-06-25

    申请号：KR1020000065760

    申请日：2000-11-07

    Applicant: 에텍 시스템즈, 인코포레이티드

    Inventor： 베네크라센,리에이치.

    IPC: H01J29/48

    CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/029

    Abstract: PURPOSE: A tetrode electron gun for electronic beam column is provided to adjust both variable high brightness and illumination uniformity in the profile of the electron beam by adding the fourth electrostatic focusing electrode located between the cathode and the anode within the electron gun. CONSTITUTION: An electron beam column comprises an electron source including a cathode(2), an electrode disposed coaxially to electrons emitted from the cathode, an anode(8) disposed coaxially to the electrons influenced by the electrode, an electrostatic focusing electrode(18) disposed between the electrode and the anode; an aperture located so that an electron beam from the source is incident thereon; and a plurality of electron beam lenses(20), each co-axial to the electron beam and located to focus the beam after passing through the aperture.

    Abstract translation: 目的：提供电子束柱的四极电子枪，通过将位于电子枪内的阴极和阳极之间的第四静电聚焦电极相加，来调节电子束轮廓中的可变高亮度和照明均匀性。 构成：电子束柱包括电子源，包括阴极（2），与阴极发射的电子同轴布置的电极，与受电极影响的电子同轴设置的阳极（8），静电聚焦电极（18） 设置在电极和阳极之间; 定位成使来自源的电子束入射的孔; 和多个电子束透镜（20），每个电子束透镜（20）均与电子束同轴并且定位成在通过光圈之后聚焦光束。

    하전입자빔과 관련한 개선된 장치
    5.
    发明公开
    하전입자빔과 관련한 개선된 장치 有权
    一种改进的带电粒子束装置

    公开(公告)号：KR1020010015610A

    公开(公告)日：2001-02-26

    申请号：KR1020007003112

    申请日：1998-09-24

    Applicant: 더 웰딩 인스티튜트

    Inventor： 앨런샌더슨

    IPC: H01J37/063

    CPC classification number: H01J37/075 ,  H01J37/063 ,  H01J37/065 ,  H01J37/301 ,  H01J2237/3104

    Abstract: 하전입자방출어셈블리가한 극성의하전입자를방출하기위한에미터부재(5)를구비하여구성된다. 관형상쉴드전극(6)이에미터부재를주위에서에워싸고, 사용에있어서하전입자로서동일극성으로유지된다. 관형상가속전극(7)이쉴드전극(6)과동축상에실질적으로위치되고, 사용에있어서쉴드전극과대향하는전극으로유지된다. 장비는, 에미터부재(5)로부터의하전입자를초기에측면외부로퍼지게하고관형상가속전극(7)을통해통과하는빔내로초점이맞추어진다.

    Abstract translation: 带电粒子发射组件由用于发射一种极性的带电粒子的发射器部件（5）构成。 管状屏蔽电极6从周边围绕仪表部件，并保持与使用中的带电粒子相同的极性。 管状加速电极7基本上位于屏蔽电极6的同轴轴线上，并在使用中作为面向屏蔽电极的电极而被保持。 该设备聚焦成束，最初引起来自发射器构件5的带电粒子横向扩散并穿过管状加速电极7。

    전자칼럼의 전자빔 에너지 변환 방법
    7.
    发明公开
    전자칼럼의 전자빔 에너지 변환 방법 有权
    电子束中电子束能量的改变方法

    公开(公告)号：KR1020080033416A

    公开(公告)日：2008-04-16

    申请号：KR1020087003773

    申请日：2006-08-18

    Applicant: 씨이비티 주식회사

    Inventor： 김호섭

    IPC: H01J37/147

    CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/063 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/28

    Abstract: A method for regulating energy of an electron beam in an electron column is provided to easily maintain a super-high vacuum condition in an electron emitter by regulating the electron beam energy without applying a high voltage on the electron emitter. Voltages are applied on respective lens layers of a focus lens. An electron beam energy is changed by an electrode layer(10) for regulating electron beam energy, such as electrode layers(3a,3b,3c,6a,6b,6c) of a source lens(3) or a focus lens(6). A required energy is calculated and a voltage is applied on the electrode layer based on the calculated energy. A detector is coaxially arranged on the electrode layer. A voltage for an extractor is applied on a source lens position. A separate voltage is applied on a test material.

    Abstract translation: 提供了一种用于调节电子束中的电子束能量的方法，以通过在电子发射器上施加高电压来调节电子束能量来容易地保持电子发射体中的超高真空状态。 电压施加在聚焦透镜的相应透镜层上。 电子束能通过用于调节电子束能量的电极层（10）改变，例如源透镜（3）或聚焦透镜（6）的电极层（3a，3b，3c，6a，6b，6c） 。 计算所需的能量，并且基于计算的能量在电极层上施加电压。 检测器同轴地布置在电极层上。 用于提取器的电压施加在源透镜位置。 在测试材料上施加单独的电压。

    복수 개의 빔렛 발생 장치
    8.
    发明公开
    복수 개의 빔렛 발생 장치 有权
    用于产生大量光束的装置

    公开(公告)号：KR1020050102688A

    公开(公告)日：2005-10-26

    申请号：KR1020057016959

    申请日：2004-03-10

    Applicant: 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.

    Inventor： 크루이트피터

    IPC: H01J37/317

    CPC classification number: H01J3/07 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/063 ,  H01J37/12 ,  H01J37/153 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/1536 ,  H01J2237/26 ,  H01J2237/31774

    Abstract: The invention relates to an apparatus for generating a plurality of charged particle beamlets, comprising a charged particle source for generating a diverging charged particle beam, a converging means for refracting said diverging charged particle beam and a lens array comprising a plurality of lenses, wherein said lens array is located between said charged particle source and said converging means. In this way, it is possible to reduce aberrations of the converging means.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于产生多个带电粒子束的装置，包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源，用于折射所述发散带电粒子束的会聚装置和包括多个透镜的透镜阵列，其中所述 透镜阵列位于所述带电粒子源和所述会聚装置之间。 以这种方式，可以减小会聚装置的像差。

    전자빔 노광장치 및 방법
    9.
    发明授权
    전자빔 노광장치 및 방법 失效
    用于制造半导体器件的方法和方法

    公开(公告)号：KR100268607B1

    公开(公告)日：2000-11-01

    申请号：KR1019970037772

    申请日：1997-08-07

    Applicant: 후지쯔 가부시끼가이샤 ,  가부시키가이샤 아드반테스트

    Inventor： 오오까와타쓰로 ,  오오아에요시히사 ,  타나까히토시 ,  야수다히로시

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/3175

    Abstract: 본 발명은 열전자방출형 전자총을 갖춘 전자빔 노광장치에 관한 것이며, 특히 보수점검을 한 후의 전자빔 노광의 재개를 조기에 실행할 수 있도록 함을 과제로 한다.
    해결수단은 복수의 보조발열체(60)가 대좌(base)(45A)중의 통부(45Aa)내에 매립되어 있다. 전자총 구동회로(31)가 열전자방출형 전자총(12A)에 통전을 개시하면, 온도제어유닛(35)이 보조발열체 가열용 전류(i2)를 보조발열체(60)에 일시적으로 공급한다. 열전자방출형 전자총(12A)은 캐소드가열용 발열체에 의해 가열됨과 동시에, 보조발열체(60)에 의해 일시적으로 가열되어, 조기에 열평형상태가 된다.

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